JPH0452669Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0452669Y2 JPH0452669Y2 JP1985074125U JP7412585U JPH0452669Y2 JP H0452669 Y2 JPH0452669 Y2 JP H0452669Y2 JP 1985074125 U JP1985074125 U JP 1985074125U JP 7412585 U JP7412585 U JP 7412585U JP H0452669 Y2 JPH0452669 Y2 JP H0452669Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- line
- zero
- analyzer
- measurement cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、例えば大気中のCOガスなどの濃度
を測定するために用いるガス分析装置、詳しく
は、サンプルガスから精製されたゼロガスをガス
分析計の測定セルに供給するゼロガスラインと、
サンプルガスをガス分析計の測定セルに供給する
サンプルガスラインとを有し、これら両ガスライ
ンからのガスを前記ガス分析計の測定セルに切換
えて供給するガス切換部を備えたガス分析装置に
関する。
を測定するために用いるガス分析装置、詳しく
は、サンプルガスから精製されたゼロガスをガス
分析計の測定セルに供給するゼロガスラインと、
サンプルガスをガス分析計の測定セルに供給する
サンプルガスラインとを有し、これら両ガスライ
ンからのガスを前記ガス分析計の測定セルに切換
えて供給するガス切換部を備えたガス分析装置に
関する。
この種のガス分析装置としては、従来、第3図
に示すようなものがある。この図において、aは
フイルター1を通じて吸引ポンプ2により大気な
どのサンプルガスを採取するサンプリングライン
で、このサンプリングラインaはゼロガスライン
bとサンプルガスラインcとに分岐されている。
サンプリングラインaには測定対象成分に対して
応答が速く、共存成分に対して応答の遅い特性を
持つバツフア18が設けられ、分岐後のゼロガス
ラインbには測定成分ガスを除去してゼロガスを
精製するゼロガス精製器3とニードル弁4とが、
また、分岐後のサンプルガスラインcには測定対
象成分以外の共存成分に対して前記ゼロガス精製
器3と同じ作法をするダミー19とニードル弁5
とが、それぞれ設けられている。前記ゼロガスラ
インbとサンプルガスラインcとには、それぞれ
絞りとしてのキヤピラリ6,7が設けられ、各キ
ヤピラリ6,7の入口側には、それぞれバイパス
ラインが設けられるとともに、各バイパスライン
に流量チエツカ8,8′を介してチエツクバルブ
9が設けられている。10′は測定セル11,1
2内にゼロガスとサンプルガスとを適当周期で切
換えて交互に導入し測定するといういわゆる流体
変調方式のガス分析計で、ゼロガスラインbから
のゼロガスとサンプルガスラインcからのサンプ
ルガスとを各測定セル11,12へ切換えて供給
するガス切換部13が設けられて構成されている
(例えば、実公昭57−54038号公報)。
に示すようなものがある。この図において、aは
フイルター1を通じて吸引ポンプ2により大気な
どのサンプルガスを採取するサンプリングライン
で、このサンプリングラインaはゼロガスライン
bとサンプルガスラインcとに分岐されている。
サンプリングラインaには測定対象成分に対して
応答が速く、共存成分に対して応答の遅い特性を
持つバツフア18が設けられ、分岐後のゼロガス
ラインbには測定成分ガスを除去してゼロガスを
精製するゼロガス精製器3とニードル弁4とが、
また、分岐後のサンプルガスラインcには測定対
象成分以外の共存成分に対して前記ゼロガス精製
器3と同じ作法をするダミー19とニードル弁5
とが、それぞれ設けられている。前記ゼロガスラ
インbとサンプルガスラインcとには、それぞれ
絞りとしてのキヤピラリ6,7が設けられ、各キ
ヤピラリ6,7の入口側には、それぞれバイパス
ラインが設けられるとともに、各バイパスライン
に流量チエツカ8,8′を介してチエツクバルブ
9が設けられている。10′は測定セル11,1
2内にゼロガスとサンプルガスとを適当周期で切
換えて交互に導入し測定するといういわゆる流体
変調方式のガス分析計で、ゼロガスラインbから
のゼロガスとサンプルガスラインcからのサンプ
ルガスとを各測定セル11,12へ切換えて供給
するガス切換部13が設けられて構成されている
(例えば、実公昭57−54038号公報)。
この従来装置によれば、前記ダミー19によつ
て水などの共存成分の濃度ズレなどによる影響を
なくし、かつバツフア18によつて共存成分の急
激な濃度変化を緩和して安定した測定を行なうこ
とができる。しかしながら、測定対象成分除去用
のゼロガス精製器3によつて共存成分、その中で
も特に水が吸着されるため、ゼロガスラインb、
サンプルガスラインcとの応答ズレによる誤差が
生じる。そして、流体変調方式のガス分析計にお
いては、ガス切換部によつてガスの切換えを例え
ば1Hzと云つた短時間で行なうものであるから、
この短い時間におけるガスの切換えによつて、前
記誤差がそのまま測定結果に表れ、殊に低濃度域
での測定にあたつては、なお十分とは言えない欠
点があつた。
て水などの共存成分の濃度ズレなどによる影響を
なくし、かつバツフア18によつて共存成分の急
激な濃度変化を緩和して安定した測定を行なうこ
とができる。しかしながら、測定対象成分除去用
のゼロガス精製器3によつて共存成分、その中で
も特に水が吸着されるため、ゼロガスラインb、
サンプルガスラインcとの応答ズレによる誤差が
生じる。そして、流体変調方式のガス分析計にお
いては、ガス切換部によつてガスの切換えを例え
ば1Hzと云つた短時間で行なうものであるから、
この短い時間におけるガスの切換えによつて、前
記誤差がそのまま測定結果に表れ、殊に低濃度域
での測定にあたつては、なお十分とは言えない欠
点があつた。
本考案は、このような従来欠点にかんがみ、測
定セルに供給されるゼロガスとサンプルガスとの
水分量の変化をほとんどなくし、水分量の差によ
る誤差や応答ズレの影響を極力小さくして、たと
え低濃度域での測定であつても、安定した測定を
行なうことのできるガス分析装置を提供しようと
するものである。
定セルに供給されるゼロガスとサンプルガスとの
水分量の変化をほとんどなくし、水分量の差によ
る誤差や応答ズレの影響を極力小さくして、たと
え低濃度域での測定であつても、安定した測定を
行なうことのできるガス分析装置を提供しようと
するものである。
この目的を達成するため、本考案によるガス分
析装置は、ゼロガスラインとサンプルガスライン
とからのガスを測定セルに切換えて供給するガス
切換部の下流側と前記測定セルとの間に、水の吸
着性の大なる物質を介在させている。
析装置は、ゼロガスラインとサンプルガスライン
とからのガスを測定セルに切換えて供給するガス
切換部の下流側と前記測定セルとの間に、水の吸
着性の大なる物質を介在させている。
このように、ガス切換部の下流側と測定セルと
の間に、水の吸着性の大なる物質を介在させるも
のであるから、ゼロガスとサンプルガスとは、ほ
とんど水分量に変化のない状態(水分量の差が平
滑された状態)で測定セルに供給されることにな
る。
の間に、水の吸着性の大なる物質を介在させるも
のであるから、ゼロガスとサンプルガスとは、ほ
とんど水分量に変化のない状態(水分量の差が平
滑された状態)で測定セルに供給されることにな
る。
本考案の実施例を第1図にもとづいて説明する
と、aはフイルター1を通じて吸引ポンプ2によ
り大気などのサンプルガスを採取するサンプリン
グラインで、従来のものと同様に、ゼロガスライ
ンbとサンプルガスラインcとに分岐され、ゼロ
ガスラインbには、サンプリングラインaから分
岐されたサンプルガスをゼロガスに精製するゼロ
ガス精製器3が設けられている。このゼロガス精
製器3には、例えばCOガスの濃度を測定するの
であれば、酸化触媒としてアルミナを担体とした
白金触媒やポプカライン(酸化銅+二酸化マンガ
ン)などが使用される。さらに、ゼロガスライン
bとサンプルガスラインcとには、それぞれ、ニ
ードル弁4,5と絞りとしてのキヤピラリ6,7
とが設けられ、各キヤピラリ6,7の入口側に
は、それぞれバイパスラインが設けられていて、
各バイパスラインには、流量チエツカ8,8′を
介してチエツクバルブ9が設けられている。10
は前述した流体変調方式のガス分析計で、測定セ
ル11,12が設けられるとともに、ゼロガスラ
インbからのゼロガスとサンプルガスラインcか
らのサンプルガスとを一定の周期で交互に各測定
セル11,12へ切換えて供給するガス切換部1
3とが設けられているのであるが、さらに、ガス
切換部13と各測定セル11,12との間に、水
の吸着性の大なる物質14,15が介在されてい
る。この水の吸着性の大なる物質14,15は、
具体的には、例えばCOガスの濃度を測定するの
であれば、COガスを通過させて水を吸着する活
性アルミナからなるバツフアや半透膜除湿器など
である。
と、aはフイルター1を通じて吸引ポンプ2によ
り大気などのサンプルガスを採取するサンプリン
グラインで、従来のものと同様に、ゼロガスライ
ンbとサンプルガスラインcとに分岐され、ゼロ
ガスラインbには、サンプリングラインaから分
岐されたサンプルガスをゼロガスに精製するゼロ
ガス精製器3が設けられている。このゼロガス精
製器3には、例えばCOガスの濃度を測定するの
であれば、酸化触媒としてアルミナを担体とした
白金触媒やポプカライン(酸化銅+二酸化マンガ
ン)などが使用される。さらに、ゼロガスライン
bとサンプルガスラインcとには、それぞれ、ニ
ードル弁4,5と絞りとしてのキヤピラリ6,7
とが設けられ、各キヤピラリ6,7の入口側に
は、それぞれバイパスラインが設けられていて、
各バイパスラインには、流量チエツカ8,8′を
介してチエツクバルブ9が設けられている。10
は前述した流体変調方式のガス分析計で、測定セ
ル11,12が設けられるとともに、ゼロガスラ
インbからのゼロガスとサンプルガスラインcか
らのサンプルガスとを一定の周期で交互に各測定
セル11,12へ切換えて供給するガス切換部1
3とが設けられているのであるが、さらに、ガス
切換部13と各測定セル11,12との間に、水
の吸着性の大なる物質14,15が介在されてい
る。この水の吸着性の大なる物質14,15は、
具体的には、例えばCOガスの濃度を測定するの
であれば、COガスを通過させて水を吸着する活
性アルミナからなるバツフアや半透膜除湿器など
である。
このような構成であるから、ガス切換部13に
よつてセル11,12に対し一定周期、例えば1
Hzで交互に供給されるゼロガス中およびサンプル
ガス中の水分はそれぞれ、水の吸着性の大なる物
質14,15により確実に吸着されることにな
り、その結果、前記両ガスは殆ど水分量に差がな
い状態で測定セル11,12に供給される。
よつてセル11,12に対し一定周期、例えば1
Hzで交互に供給されるゼロガス中およびサンプル
ガス中の水分はそれぞれ、水の吸着性の大なる物
質14,15により確実に吸着されることにな
り、その結果、前記両ガスは殆ど水分量に差がな
い状態で測定セル11,12に供給される。
これをより具体的に説明すると、前述のように
ガス切換部13のガス切換えは短時間で行なわれ
るので、この短い時間におけるガスの切換え前に
測定セル11,12に流入するガス中の水分量と
切換え後に測定セル11,12に流入するガス中
の水分量との差が検出信号となるが、ガス切換部
13によるガスの切換え後に、ガス中に含まれる
水が吸着されるようにしたことによつて、前記両
ガスラインb,cにおける水分量の差に対してガ
スの切換え後の水分量の差が平滑される。従つ
て、水分量の差による誤差や応答ズレの影響が小
さくなり、たとえ低濃度域での測定であつても安
定した測定を行なうことができるのである。
ガス切換部13のガス切換えは短時間で行なわれ
るので、この短い時間におけるガスの切換え前に
測定セル11,12に流入するガス中の水分量と
切換え後に測定セル11,12に流入するガス中
の水分量との差が検出信号となるが、ガス切換部
13によるガスの切換え後に、ガス中に含まれる
水が吸着されるようにしたことによつて、前記両
ガスラインb,cにおける水分量の差に対してガ
スの切換え後の水分量の差が平滑される。従つ
て、水分量の差による誤差や応答ズレの影響が小
さくなり、たとえ低濃度域での測定であつても安
定した測定を行なうことができるのである。
特に、流体変調方式のように、ガス切換えの周
期が検出器信号の変調周期となる場合、秒オーダ
ーでの水分量の変化に対してはバツフア効果が特
に顕著となる。
期が検出器信号の変調周期となる場合、秒オーダ
ーでの水分量の変化に対してはバツフア効果が特
に顕著となる。
なお、前記チエツクバルブ9は、両キヤピラリ
6,7の入口側圧力を一定にする調圧作用を有
し、そのため、このチエツクバルブ9を設けるこ
とにより、ガス分析計10へ常に一定流量のガス
を流すことができ、流量変化による影響を防止す
ることができる。
6,7の入口側圧力を一定にする調圧作用を有
し、そのため、このチエツクバルブ9を設けるこ
とにより、ガス分析計10へ常に一定流量のガス
を流すことができ、流量変化による影響を防止す
ることができる。
第2図は別の実施例で、第1図のものとは異な
り、ゼロガスラインbとサンプルガスラインcと
がそれぞれ独立して設けられている。これは、測
定ガスとは異なるゼロガスをガス分析計10へ供
給するタイプのもので、そのため、各ラインb,
cには別々にフイルター1′,1′と吸引ポンプ
2′,2′とが設けられているが、やはりガス切換
部13と各測定セル11,12との間に水の吸着
性の大なる物資14,15が介在されているた
め、第1図のものと同様の効果が期待できる。な
お、16は電子冷却器、17は定圧トラツプであ
り、この定圧トラツプ17は第1図のチエツクバ
ルブ9と同様の作用をするものである。その他、
第1図のものと同じ構成部品については、同じ符
号を付すことにより説明を省略する。
り、ゼロガスラインbとサンプルガスラインcと
がそれぞれ独立して設けられている。これは、測
定ガスとは異なるゼロガスをガス分析計10へ供
給するタイプのもので、そのため、各ラインb,
cには別々にフイルター1′,1′と吸引ポンプ
2′,2′とが設けられているが、やはりガス切換
部13と各測定セル11,12との間に水の吸着
性の大なる物資14,15が介在されているた
め、第1図のものと同様の効果が期待できる。な
お、16は電子冷却器、17は定圧トラツプであ
り、この定圧トラツプ17は第1図のチエツクバ
ルブ9と同様の作用をするものである。その他、
第1図のものと同じ構成部品については、同じ符
号を付すことにより説明を省略する。
なお、第1図および第2図の実施例では、それ
ぞれ一対の測定セル11,12を設けたものを示
したが、共通の測定セルをひとつだけ設けた型式
のものにも本考案を適用することができる。
ぞれ一対の測定セル11,12を設けたものを示
したが、共通の測定セルをひとつだけ設けた型式
のものにも本考案を適用することができる。
以上の説明から明らかなように、ゼロガスとサ
ンプルガスとは、ほとんど水分量に変化のない状
態、つまり、水分量の差が平滑された状態で測定
セルに供給されるので、水分量の差による誤差や
応答ズレの影響が小さく、たとえ低濃度域での測
定であつても安定した測定を行なうことができる
とともに、場合によつては従来必要としたダミー
を不要にすることもできる。
ンプルガスとは、ほとんど水分量に変化のない状
態、つまり、水分量の差が平滑された状態で測定
セルに供給されるので、水分量の差による誤差や
応答ズレの影響が小さく、たとえ低濃度域での測
定であつても安定した測定を行なうことができる
とともに、場合によつては従来必要としたダミー
を不要にすることもできる。
第1図は、本考案にかかるガス分析装置の実施
例を示す構成図、第2図は、別の実施例を示す構
成図であり、第3図は、従来のガス分析装置を示
す構成図である。 b……ゼロガスライン、c……サンプルガスラ
イン、10……ガス分析計、11,12……測定
セル、13……ガス切換部、14,15……水の
吸着性の大なる物質。
例を示す構成図、第2図は、別の実施例を示す構
成図であり、第3図は、従来のガス分析装置を示
す構成図である。 b……ゼロガスライン、c……サンプルガスラ
イン、10……ガス分析計、11,12……測定
セル、13……ガス切換部、14,15……水の
吸着性の大なる物質。
Claims (1)
- ゼロガスをガス分析計の測定セルに供給するゼ
ロガスラインと、サンプルガスをガス分析計の測
定セルに供給するサンプルガスラインとを有し、
これら両ガスラインからのガスを前記ガス分析計
の測定セルに切換えて供給するガス切換部を備え
たガス分析装置において、前記ガス切換部の下流
側と測定セルとの間に、水の吸着性の大なる物質
を介在させたことを特徴とするガス分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985074125U JPH0452669Y2 (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985074125U JPH0452669Y2 (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61189247U JPS61189247U (ja) | 1986-11-26 |
| JPH0452669Y2 true JPH0452669Y2 (ja) | 1992-12-10 |
Family
ID=30614129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985074125U Expired JPH0452669Y2 (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0452669Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6035878Y2 (ja) * | 1979-08-06 | 1985-10-24 | 富士電機株式会社 | ガス分析装置 |
| JPS5754038U (ja) * | 1980-09-12 | 1982-03-29 |
-
1985
- 1985-05-17 JP JP1985074125U patent/JPH0452669Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61189247U (ja) | 1986-11-26 |
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