JPH0339714Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0339714Y2 JPH0339714Y2 JP1984193554U JP19355484U JPH0339714Y2 JP H0339714 Y2 JPH0339714 Y2 JP H0339714Y2 JP 1984193554 U JP1984193554 U JP 1984193554U JP 19355484 U JP19355484 U JP 19355484U JP H0339714 Y2 JPH0339714 Y2 JP H0339714Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semipermeable membrane
- membrane dehumidifier
- gas
- electronic cooler
- needle valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、煙道排ガスや自動車の排ガスなどの
ような各種の排ガスにおいて、そのNOX濃度な
どを分析するために用いる排ガス分析装置、詳し
くは、測定ガスを半透膜除湿器を通して分析部へ
供給するように構成してなる排ガス分析装置に関
する。
ような各種の排ガスにおいて、そのNOX濃度な
どを分析するために用いる排ガス分析装置、詳し
くは、測定ガスを半透膜除湿器を通して分析部へ
供給するように構成してなる排ガス分析装置に関
する。
一般に、NDIRなどの赤外線ガス分析計等を用
いて排ガス中のNOXなどを分析する場合、測定
ガス中に水分が含有されていると、その水分によ
つて赤外線が吸収されて測定誤差が生ずる。
いて排ガス中のNOXなどを分析する場合、測定
ガス中に水分が含有されていると、その水分によ
つて赤外線が吸収されて測定誤差が生ずる。
このような水分干渉影響をなくすため、従来、
電子冷却器を用いて測定ガス中の水分を除去する
ように構成したものが知られている。しかし、電
子冷却器の場合、氷結を避けるために２〜５℃程
度で調湿されることが多く、低濃度域での測定に
は未だ満足できるものではなかつた。
電子冷却器を用いて測定ガス中の水分を除去する
ように構成したものが知られている。しかし、電
子冷却器の場合、氷結を避けるために２〜５℃程
度で調湿されることが多く、低濃度域での測定に
は未だ満足できるものではなかつた。
そこで、低濃度域での測定を可能にすべく、第
５図に示すような構造のものが知られている。こ
の図において、１はプローブ２より測定ガスを吸
引するためのポンプで、このポンプ１によつて吸
引された測定ガスは、一次フイルタ３を通つてド
レンセパレータ４に供給され、ここで分離された
ドレンはドレンポツト５に収納される。ドレンが
分離された後の測定ガスは、ニードル弁６、二次
フイルタ７を経て半透膜除湿器８に供給され、こ
こで除湿された後、NDIRなどを有する分析部１
１へ供給されるのである。このように、半透膜除
湿器８によつて除湿されるものであるから、出口
ガス露点が−10〜−20℃程度になり、電子冷却器
を用いた場合に比較してかなりの低濃度域まで測
定が可能となる。
５図に示すような構造のものが知られている。こ
の図において、１はプローブ２より測定ガスを吸
引するためのポンプで、このポンプ１によつて吸
引された測定ガスは、一次フイルタ３を通つてド
レンセパレータ４に供給され、ここで分離された
ドレンはドレンポツト５に収納される。ドレンが
分離された後の測定ガスは、ニードル弁６、二次
フイルタ７を経て半透膜除湿器８に供給され、こ
こで除湿された後、NDIRなどを有する分析部１
１へ供給されるのである。このように、半透膜除
湿器８によつて除湿されるものであるから、出口
ガス露点が−10〜−20℃程度になり、電子冷却器
を用いた場合に比較してかなりの低濃度域まで測
定が可能となる。
しかしながら、例えばNOで20ppm以下の濃度域
を分析しようとすると、やはり、排ガスの周囲温
度の変化によつて半透膜除湿器８の出口ガス露点
が変化し、分析部１１での干渉特性（水分濃度と
干渉影響値の関係）によつて測定誤差を生ずる欠
点があつた。さらに、出口ガス露点を−20〜−30
℃以下にしようとすると、半透膜除湿器８自体が
高価なものとなり、また多量のパージガスを必要
とするなどの欠点もあつた。
を分析しようとすると、やはり、排ガスの周囲温
度の変化によつて半透膜除湿器８の出口ガス露点
が変化し、分析部１１での干渉特性（水分濃度と
干渉影響値の関係）によつて測定誤差を生ずる欠
点があつた。さらに、出口ガス露点を−20〜−30
℃以下にしようとすると、半透膜除湿器８自体が
高価なものとなり、また多量のパージガスを必要
とするなどの欠点もあつた。
本考案は、このような従来欠点を除去し、低濃
度域であつても比較的安定した分析が可能で、か
つ廉価な排ガス分析装置の提供を目的とする。
度域であつても比較的安定した分析が可能で、か
つ廉価な排ガス分析装置の提供を目的とする。
この目的を達成するため、本考案による排ガス
分析装置は、半透膜除湿器よりも上流側の測定ガ
ス流路中にニードル弁とポンプとを、ニードル弁
が上流側に位置するように設けると共に、前記ポ
ンプと半透膜除湿器との間に電子冷却器を設けた
ことを特徴とする。
分析装置は、半透膜除湿器よりも上流側の測定ガ
ス流路中にニードル弁とポンプとを、ニードル弁
が上流側に位置するように設けると共に、前記ポ
ンプと半透膜除湿器との間に電子冷却器を設けた
ことを特徴とする。
上記のように構成した排ガス分析装置において
は、測定ガスはニードル弁およびポンプを経て電
子冷却器に供給され、測定ガスは半透膜除湿器に
供給される前に電子冷却器において予め除湿され
る。そして、電子冷却器の上流側においては、ニ
ードル弁とポンプとを、ニードル弁が上流側に位
置するように設けてあるので、電子冷却器の冷却
効果が阻害されることがなく、電子冷却器におけ
る測定ガスの予備除湿は確実に行われるので、た
とえ低濃度域での分析に際して排ガスの周囲温度
が変化しても、電子冷却器の出口ガス露点、つま
り、半透膜除湿器の入口露点を２〜５℃程度の一
定した値に維持することができる。したがつて、
半透膜除湿器を単独で使用する場合に比較して、
除湿効果を向上させることができるとともに、周
囲温度の変化にかかわらず半透膜除湿器の出口ガ
ス露点を安定させることができ、水分干渉影響を
減少させることができる。
は、測定ガスはニードル弁およびポンプを経て電
子冷却器に供給され、測定ガスは半透膜除湿器に
供給される前に電子冷却器において予め除湿され
る。そして、電子冷却器の上流側においては、ニ
ードル弁とポンプとを、ニードル弁が上流側に位
置するように設けてあるので、電子冷却器の冷却
効果が阻害されることがなく、電子冷却器におけ
る測定ガスの予備除湿は確実に行われるので、た
とえ低濃度域での分析に際して排ガスの周囲温度
が変化しても、電子冷却器の出口ガス露点、つま
り、半透膜除湿器の入口露点を２〜５℃程度の一
定した値に維持することができる。したがつて、
半透膜除湿器を単独で使用する場合に比較して、
除湿効果を向上させることができるとともに、周
囲温度の変化にかかわらず半透膜除湿器の出口ガ
ス露点を安定させることができ、水分干渉影響を
減少させることができる。
本考案による排ガス分析装置の実施例を第１図
にもとづいて説明すると、１は煙道中に設けられ
たプローブ２より測定ガスを吸引するためのポン
プで、このポンプ１によつて吸引された測定ガス
は、従来のものと同様に、一次フイルタ３を通つ
てドレンセパレータ４に供給され、ここで分離さ
れたドレンはドレンポツト５に収納される。ドレ
ンが分離された後の測定ガスは、従来と同様に、
ニードル弁６や二次フイルタ７を経て半透膜除湿
器８に供給されるのであるが、まず二次フイルタ
７を通り、ポンプ１よりも上流側の測定ガス流路
中に設けられたニードル弁６を通つて、その後、
半透膜除湿器８よりも上流側の測定ガス流路中に
介装された電子冷却器９に供給されるように構成
されている。このように、ポンプ１の上流側にニ
ードル弁６を設けたのは次の理由による。もし、
ポンプ１をニードル弁６の上流側に設けると、ポ
ンプ１の出口側の圧力が高いため、水蒸気の分圧
が高くなり、その結果生じた露が電子冷却器９の
冷却効果を低下させるが、上述の構成によればこ
のようなことはないのである。そして、この電子
冷却器９にて予め除湿されるとともに、定圧トラ
ツプ１０により圧力がほぼ一定に維持され、しか
る後に、半透膜除湿器８を通つてNDIRなどを有
する分析部１１へ供給されるように構成されてい
るのである。
にもとづいて説明すると、１は煙道中に設けられ
たプローブ２より測定ガスを吸引するためのポン
プで、このポンプ１によつて吸引された測定ガス
は、従来のものと同様に、一次フイルタ３を通つ
てドレンセパレータ４に供給され、ここで分離さ
れたドレンはドレンポツト５に収納される。ドレ
ンが分離された後の測定ガスは、従来と同様に、
ニードル弁６や二次フイルタ７を経て半透膜除湿
器８に供給されるのであるが、まず二次フイルタ
７を通り、ポンプ１よりも上流側の測定ガス流路
中に設けられたニードル弁６を通つて、その後、
半透膜除湿器８よりも上流側の測定ガス流路中に
介装された電子冷却器９に供給されるように構成
されている。このように、ポンプ１の上流側にニ
ードル弁６を設けたのは次の理由による。もし、
ポンプ１をニードル弁６の上流側に設けると、ポ
ンプ１の出口側の圧力が高いため、水蒸気の分圧
が高くなり、その結果生じた露が電子冷却器９の
冷却効果を低下させるが、上述の構成によればこ
のようなことはないのである。そして、この電子
冷却器９にて予め除湿されるとともに、定圧トラ
ツプ１０により圧力がほぼ一定に維持され、しか
る後に、半透膜除湿器８を通つてNDIRなどを有
する分析部１１へ供給されるように構成されてい
るのである。
このように、測定ガスは、半透膜除湿器８へ供
給される前に電子冷却器９によつて予め除湿され
る。そして、電子冷却器の上流側においては、ニ
ードル弁とポンプとを、ニードル弁が上流側に位
置するように設けてあるので、電子冷却器の冷却
効果が阻害されることがなく、電子冷却器におけ
る測定ガスの予備除湿は確実に行われるので、た
とえ低濃度域での分析に際して排ガスの周囲温度
が変化しようとも、電子冷却器９の出口ガス露点
を２〜５℃程度の一定した値に維持し、そのまま
半透膜除湿器８へ供給することができる。したが
つて、周囲温度の変化にかかわらず半透膜除湿器
８の出口ガス露点を安定させて、水分干渉影響を
減少させることができるとともに、全体として除
湿効果を向上させることができる。このような効
果を半透膜除湿器８を単独で使用する場合と比較
して数値的に表わしたのが第２図のグラフで、こ
のグラフ中、実線は本考案によるもの、破線は半
透膜除湿器８を単独で使用する場合のものをそれ
ぞれ表わす。ただし、測定ガスの流量、半透膜除
湿器８のパージガスの流量、ならびにパージガス
露点は、ともに一定とする。このグラフより明ら
かなように、本考案によるものは、半透膜除湿器
８を単独で使用する場合と比較して除湿効果を向
上させることができ、特に高温時程その除湿効果
が顕著となることが理解できる。
給される前に電子冷却器９によつて予め除湿され
る。そして、電子冷却器の上流側においては、ニ
ードル弁とポンプとを、ニードル弁が上流側に位
置するように設けてあるので、電子冷却器の冷却
効果が阻害されることがなく、電子冷却器におけ
る測定ガスの予備除湿は確実に行われるので、た
とえ低濃度域での分析に際して排ガスの周囲温度
が変化しようとも、電子冷却器９の出口ガス露点
を２〜５℃程度の一定した値に維持し、そのまま
半透膜除湿器８へ供給することができる。したが
つて、周囲温度の変化にかかわらず半透膜除湿器
８の出口ガス露点を安定させて、水分干渉影響を
減少させることができるとともに、全体として除
湿効果を向上させることができる。このような効
果を半透膜除湿器８を単独で使用する場合と比較
して数値的に表わしたのが第２図のグラフで、こ
のグラフ中、実線は本考案によるもの、破線は半
透膜除湿器８を単独で使用する場合のものをそれ
ぞれ表わす。ただし、測定ガスの流量、半透膜除
湿器８のパージガスの流量、ならびにパージガス
露点は、ともに一定とする。このグラフより明ら
かなように、本考案によるものは、半透膜除湿器
８を単独で使用する場合と比較して除湿効果を向
上させることができ、特に高温時程その除湿効果
が顕著となることが理解できる。
第３図と第４図は、それぞれ別の実施例を示
し、第３図のものは、半透膜除湿器８にヒータ１
２を設け、また第４図のものは、電子冷却器９か
らのドレンが約２℃であることを利用して、この
ドレン流路と半透膜除湿器８との間に熱交換器１
３を設けて、それぞれ半透膜除湿器８を加熱する
ように構成したものである。このようにして、低
温時に半透膜除湿器８を加熱することにより、第
２図のグラフ中一点鎖線で示すように、低温時で
の水分特性を一定に近づけて安定させることがで
き、一層水分干渉影響の少ない分析が可能とな
る。
し、第３図のものは、半透膜除湿器８にヒータ１
２を設け、また第４図のものは、電子冷却器９か
らのドレンが約２℃であることを利用して、この
ドレン流路と半透膜除湿器８との間に熱交換器１
３を設けて、それぞれ半透膜除湿器８を加熱する
ように構成したものである。このようにして、低
温時に半透膜除湿器８を加熱することにより、第
２図のグラフ中一点鎖線で示すように、低温時で
の水分特性を一定に近づけて安定させることがで
き、一層水分干渉影響の少ない分析が可能とな
る。
以上説明したように、本考案においては、測定
ガスはニードル弁およびポンプを経て電子冷却器
に供給され、測定ガスは半透膜除湿器に供給され
る前に電子冷却器において予め除湿される。そし
て、電子冷却器の上流側においては、ニードル弁
とポンプとを、ニードル弁が上流側に位置するよ
うに設けてあるので、電子冷却器の冷却効果が阻
害されることがなく、電子冷却器における測定ガ
スの予備除湿は確実に行われるので、たとえ低濃
度域での分析においても、水分干渉影響を極力減
少させることができ、安定した分析を行うことが
できる。
ガスはニードル弁およびポンプを経て電子冷却器
に供給され、測定ガスは半透膜除湿器に供給され
る前に電子冷却器において予め除湿される。そし
て、電子冷却器の上流側においては、ニードル弁
とポンプとを、ニードル弁が上流側に位置するよ
うに設けてあるので、電子冷却器の冷却効果が阻
害されることがなく、電子冷却器における測定ガ
スの予備除湿は確実に行われるので、たとえ低濃
度域での分析においても、水分干渉影響を極力減
少させることができ、安定した分析を行うことが
できる。
そして、電子冷却器そのものは、簡単な温調制
御だけで済み、かつ半透膜除湿器の水分吸着容量
が大きいところから、電子冷却器を単独で使用す
る場合に問題となるリツプルを無視することがで
き、全体として安価に構成することができる。
御だけで済み、かつ半透膜除湿器の水分吸着容量
が大きいところから、電子冷却器を単独で使用す
る場合に問題となるリツプルを無視することがで
き、全体として安価に構成することができる。
第１図から第４図は、本考案にかかる排ガス分
析装置の実施の態様を示し、第１図は、その構成
図、第２図は、排気ガスの周囲温度と半透膜除湿
器出口での水分量との関係を示すグラフ、第３図
と第４図は、それぞれ別の実施例を示す構成図、
第５図は、従来構造を示す構成図である。 １……ポンプ、６……ニードル弁、８……半透
膜除湿器、９……電子冷却器、１１……分析器。
析装置の実施の態様を示し、第１図は、その構成
図、第２図は、排気ガスの周囲温度と半透膜除湿
器出口での水分量との関係を示すグラフ、第３図
と第４図は、それぞれ別の実施例を示す構成図、
第５図は、従来構造を示す構成図である。 １……ポンプ、６……ニードル弁、８……半透
膜除湿器、９……電子冷却器、１１……分析器。
Claims (1)
- 測定ガスを半透膜除湿器を通して分析部へ供給
するように構成してなる排ガス分析装置におい
て、前記半透膜除湿器よりも上流側の測定ガス流
路中に、ニードル弁とポンプとを、ニードル弁が
上流側に位置するように設けると共に、前記ポン
プと半透膜除湿器との間に電子冷却器を設けたこ
とを特徴とする排ガス分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984193554U JPH0339714Y2 (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984193554U JPH0339714Y2 (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61108951U JPS61108951U (ja) | 1986-07-10 |
| JPH0339714Y2 true JPH0339714Y2 (ja) | 1991-08-21 |
Family
ID=30750975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984193554U Expired JPH0339714Y2 (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0339714Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5752980A (en) * | 1980-09-11 | 1982-03-29 | Mitsubishi Electric Corp | Counter |
| JPS5651576A (en) * | 1980-09-13 | 1981-05-09 | Matsushita Electric Works Ltd | Manufacture of embossing enameled decorative material |
-
1984
- 1984-12-19 JP JP1984193554U patent/JPH0339714Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61108951U (ja) | 1986-07-10 |
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