JPH0452989Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、例えばフオトマスクや半導体素子を
製造するフオトリソグラフイ工程中の現像処理あ
るいはエツチング処理等に用いて好適な処理装置
に関する。

〔従来の技術〕

従来、上述したような処理装置としては第２図
に示す如く構成されたものが知られている。

すなわち、この処理装置は、処理室１と、この
処理室１内に配設され駆動用モータ（図示せず）
によつて定速回転（例えば現像、エツチング処理
時：100〜500rpm）する試料台２と、前記処理室
１の内壁上部に取り付けた処理液吐出手段として
のノズル３とを備えている。

そして、この処理装置では、試料台２が定速回
転してい状態で、試料台２上に載置・保持した被
処理物４（例えば、選択的に露光したレジスト膜
が被着したフオトマスブランク）の表面に向けて
ノズル３から現像液やエツチング液等の処理液５
を噴射し、被処理物４の処理を行う。なお、第２
図中に図示した６は回転する被処理物４の表面よ
り飛散した処理液等を排出するための排出口であ
り、この排出口６からの排出力を高めるために排
出口６の下方には排気用フアン（図示せず）を付
設している。

〔考案が解決しようとする問題点〕

ところで、被処理物４の処理中において、現像
液やエツチング液等の処理液５は処理室１内で大
量に気化し気化熱を奪うため、処理室１内の雰囲
気温度（以下、単に「温度」という。）は処理中
に刻々と低下し処理終了時には処理開始時よりも
大きく低下する。

また、上記したように処理液５は処理室１内で
大量に気化するため処理室１内の湿度は処理中に
刻々と高くなつていく。

以上のように従来の処理装置では、ある被処理
物４の処理中において処理室１内の温度及び湿度
が刻々と変化するため、その被処理物４に対して
所定の処理を施すことが困難となる問題点が生じ
る。

さらに、もう一つの問題点として複数の被処理
物に対して処理を連続して行う場合に、処理条件
が不安定になることがあつた。ここで、例えば現
像処理を例にとると、ポジ型レジストの中には、
処理室内の温度及び湿度の違いで、現像速度が大
きく変動するものがあり、しかも悪いことには上
記したように処理室内の温度及び湿度は処理中に
刻々と変化するものである。そして、１回の処理
後、処理室内の温度及び湿度を初期の状態（温度
及び湿度）に戻すためには強制的な操作を加えな
いかぎり、かなりの時間を要する。従つて、処理
間隔を相当時間とらない限り処理は異なつた温度
及び湿度で開始されることになり、現像処理は各
処理毎に異なつたものとなる。これを解決するた
めに恒温、恒湿装置等を付設する場合があるが、
それらの装置はともに大がかりで、特に湿度制御
をするに当つては、装置がかなり大がかりで高価
になつてしまう。なお、現像処理のみならずエツ
チング処理の場合にも、上記したと同様にエツチ
ング処理が各処理毎に異なつたものとなる。

従つて、本考案は上述したような問題点を解決
し、簡単な構造にして処理室内の温度及び湿度の
変動を抑制し容易に所定の処理を行い得る処理装
置を提供しようとするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は上記した目的を達成するためになされ
たものであり、処理室と、この処理室内に配設さ
れ駆動装置によつて回転する試料台と、この試料
台上に載置した被処理物に向けて処理液を吐出す
る吐出手段と、水を主成分とする液体からなる霧
状物を噴射する噴射手段とを備え、前記処理室内
には前記霧状物が発生しているものである。

また、処理室内の温度及び湿度の変動を最も効
果的に抑制するために、前記霧状物は前記処理室
内に充満し発生していることが望ましい。

〔作用〕

本考案による処理装置では、水を主成分とする
液体からなる霧状物が処理室内に発生しているの
で、処理液が気化しにくく、よつて処理室内の温
度及び湿度の変動が抑制される。また、処理室内
に霧状物が充満し発生しているとき、処理室内の
温度及び湿度の変動は最も効果的に抑制される。

〔実施例〕

以下、本考案の実施例による処理装置について
第１図を参照して説明する。なお、第１図中、第
２図に示したと同一構成部品、部分に対しては同
一符号を以て示し、その説明を省略する。

第１図に示したように、本実施例による処理装
置は、上部が開口した処理室１ａと、該処理室１
ａの周りを覆うフード７と、前記処理室１ａの上
端部に近接したフード７の側板部分に上向きに取
り付けられ、後記する純水からなる霧状物（ミス
ト）８を噴射する噴射ノズル９とを備え、該噴射
ノズル９は処理室１ａの開口の上方へ向けて霧状
物８を常時噴射し、また、この霧状物８は排出口
６の下方に付設した排気用フアン（図示せず）に
よつて処理室１ａの上方から下方に沈降し、処理
室１ａ内に充満し発生している。

前記噴射ノズル９としては、純水等の液体を細
かな霧状にして噴射するために、噴射する液体中
に気体を導入するエアアトマイズノズル等の二流
体ノズルを用いた。この噴射ノズル９の一端部に
は、純水タンク１０内に収容した純水１１を供給
するための配管１２と、純水を細かな霧状にして
噴射するために供給される気体（例えばN₂ガス）
を導入するための配管１３とが取り付けられてい
る。そして噴射ノズル９には、純水タンク１０内
に収容した純水１１が配管１２を通してポンプ１
４により供給され、また配管１３を通して加圧さ
れた気体（N₂）も導入され、噴射ノズル９は霧
状物８を噴射する。なお、第１図中に図示した１
５は純水１１を浄化するためのフイルタであり、
また、１６及び１７はバルブであり純水１１の送
給及び気体の導入時にはそれぞれ開栓している。

以上のような処理装置を用いて被処理物４を処
理するときには、処理室１ａ内に霧状物８が充満
し発生した状態で、フード７の側板に設けられ開
閉可能な扉（図示せず）から試料台２上に被処理
物４を載置し、その後試料台２を定速回転させノ
ズル３より被処理物４に向けて処理液５を噴射し
処理する。また、複数の被処理物に対して処理を
連続して行う場合には、処理を終えた被処理物４
を処理装置から取り出し、続いて次の被処理物を
上記したようにして試料台２上に載置し同様に処
理し、以下この作業を繰り返す。なお、噴射ノズ
ル９は霧状物８を常時噴射しているため、処理室
１ａ内には上記各処理中、霧状物８が充満してい
る。

かくして上記した処理装置によれば、処理室１
ａ内に純水からなる霧状物８が充満し発生してい
るので、被処理物４の処理中に処理液５が気化し
にくく処理室１ａ内の温度及び湿度の変動を効果
的に抑制できる。従つて、被処理物４に対して当
初期待した通りの所定の処理を施すことが容易と
なる。

さらに、複数の被処理物に対して処理を連続し
て行う場合にも、上記したように処理室１ａ内の
温度及び湿度の変動を効果的に抑制しているの
で、処理室１ａ内の温度及び湿度を初期の状態
（温度及び湿度）と略同一のものとして次の処理
を開始することができ、また次の処理中の処理室
１ａ内の温度及び湿度の変動も抑制して処理を行
うことができる。従つて、処理を連続して行つて
も各処理毎に処理具合が変わることを抑制し、各
被処理物に対して安定した均一な処理を施すこと
ができる。また、連続した次の処理を開始する際
の処理室１ａ内の温度及び湿度が初期の状態と略
同一であるため、従来のように初期の状態に戻る
まで相当時間持つ必要もなく、従つて処理装置の
稼働率を向上させることもできる。

本考案は上記した実施例に限定されるものでは
ない。

噴射ノズルとしては二流体ノズル以外に、霧状
物を噴射する他の種類の噴射ノズル等を用いても
よいし、さらに噴射手段としては噴射ノズル以外
にインジエクタ等の他の手段を採用してもよい。

上記実施例では、霧状物が処理室内に充満し発
生していたが必ずしも充満している必要はなく、
処理室内の温度及び湿度の変動を抑制できる程度
に発生していればよい。また、霧状物の発生程度
は、被処理物の処理具合のバラツキの許容範囲や
連続処理時の処理間隔等に応じて決定しうる。さ
らに、霧状物は噴射ノズルから常時噴射している
ことは必ずしも要求されず、処理室内の霧状物の
発生さえ確保していれば間欠的に噴射してもよ
い。

また、噴射ノズルの取り付け位置及び向きは任
意に設定できるが、被処理物の処理が噴射した霧
状物によつて影響を受けることを防止するため、
被処理物へ向けて直接霧状物が噴射しないよう設
定することが望ましく、例えば処理室の開口の上
方に噴射口を上へ向けた噴射ノズルを配設しても
よい。

上記実施例では霧状物は純水からなつたが、水
を主成分とし他の物質（例えば、現像処理時には
現像液または現像液を構成する物質）を混合した
ものであつてもよい。

処理液を吐出する手段としては上記実施例中に
記したノズル以外に、処理液を滴下するパイプ状
のものであつてもよい。また、霧状物が処理装置
の周りに飛散することを気に留めない場合等にお
いてはフードを省略してもよく、このときには噴
射ノズルを固設する部材を配置して取り付けた
り、あるいは噴射ノズルを処理室に直接取り付け
たりすればよい。

処理室は上部が開口しているものに限られず、
処理室内に噴射ノズルを配置し且つ霧状物の噴射
を阻害しないように処理室内に十分なスペースを
確保して上部を閉塞したものであつてもよい。

〔考案の効果〕

以上説明したように本考案の処理装置によれ
ば、処理室内に霧状物が発生し処理液の気化を抑
制しているので、簡素な構造にして処理室内の温
度及び湿度の変動を効果的に抑制することができ
る。従つて、被処理物に対して所定の処理を施す
ことが容易であり、さらに複数の被処理物に対し
て処理を連続して行う場合にも安定した均一な処
理を施すことができる。さらに装置の稼働率を向
上させることができなど、その実用上の効果は極
めて大である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例による処理装置を示す
構成図、及び第２図は従来の処理装置を示す構成
図である。 １ａ……処理室、２……試料台、３……ノズ
ル、４……被処理物、５……処理液、８……霧状
物、９……噴射ノズル、１１……純水。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 処理室と、この処理室内に配設され駆動装置に
   よつて回転する試料台と、この試料台上に載置し
   た被処理物に向けて処理液を吐出する吐出手段
   と、水を主成分とする液体からなる霧状物を噴射
   する噴射手段とを備え、前記処理室内には前記霧
   状物が発生していることを特徴とする処理装置。