JPS61296724A - 高圧ジエツトスクラバ洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は洗浄装置に係り、特に半導体部品、電子部品、
光学部品等精密部品の洗浄に好敵な高圧ジェットスクラ
バ装置に°関する。

〔発明の背景〕

従来、この種の高圧ジェットスクラバ装置としては、特
開昭５６−６７９２６号公報記載発明及び特開昭５６−
１２５８４２号公報記載の発明が知られている。

特開昭５６−６７９２６号の発明は第３図に示すように
１回転チャック１０１に取付けられた加工物１０８に対
してノズル１０２を相対的に動かしながら回転中心から
ずれた位置に、ノズル１０２から流体１１０を射突させ
ると共に、射突後の流体１１０の拡がりが回転中心に向
う放射方向に大きく、反対方向に小さくなるようにノズ
ル１０２を傾斜させるもので、これにより回転中心に損
傷を与えず、加工物１０８の全面をもれなく洗浄しよう
とするものである。

また特開昭５６−１２５８４２号の発明は第４図に示す
ように、回転するホルダ２０２に載置された試料２０３
に対する洗浄液噴射ノズル２０４の移動速度を、制御部
２１１を有する駆動装置２１０により試料２０３の回転
中心からの距離に反比例して変化させるように構成した
もので、これより洗浄不同、洗浄不足を解消しようとす
るものである。

しかし上記両発明において、高圧ジェットにより被洗浄
物に噴射された流体は、流体圧力及び噴射角度の影響に
より被洗浄物の衝突後、流体の一部は微細粒となって洗
浄雰囲気中に飛散し浮遊しており、洗浄を終った被洗浄
物の表面に再付着したり、作業雰囲気までも汚染すると
いう問題点があり、この問題点については解決がなされ
ていなかった。

またシリコンウェファに、ホトレジスト膜を形成するた
めの回転塗布装置において、吐出塗布されるホトレジス
ト微細粒が再付着するのを防止するために被塗布物を覆
う外囲体を設けることが知られているが、高圧ジェット
洗浄の場合に適用した結果は十分な効果が得られなかっ
た。

〔発明の目的〕

本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、
高圧ジェット洗浄によって発生する液体の微細粒の飛散
をおさえ、被洗浄物の再汚染と洗浄雰囲気の汚染を防止
する高圧ジェットスクラバ洗浄装置を提供することを目
的とする。

〔発明の概要〕

上記目的を達成するため、高圧ジェットノズルによって
噴射される被洗浄物の外側と、該高圧ジェットノズルの
周囲とを包括する空間に円錐状の流体カーテンを形成さ
せることにより、飛散する微細粒を上記流体カーテンに
吸収または流体カーテンに沿って排出されるように構成
した点に特徴を有する。

〔発明の実施例〕

以下本発明の実施例について、第１〜２図にょて説明す
る。

第１図において外囲体１６ａ、１６ｂの中心に。

例えばシリコンウェファのような被洗浄物９が、シャフ
ト１１によって回転される支持台１ｏに載置されており
、被洗浄物９の上方には、定方向に対し移動可能のよう
に設けた移動アーム２に固定した、給液チューブ３を具
有する高圧ジェットノズル１がある。また洗浄時におい
て被洗浄物９の上方へ移動するアー４５があり、該アー
ム５は、給液チューブ８を具有するリング状ノズル本体
４を保持している。

リング状ノズル本体４は、第２図に示すようにジャケッ
ト４ａと吐出リング４ｂとの間にパツキン４ｃを挿入し
、ボルト４ｄで締付は液密を保つように構成されている
。またリング状ノズル本体４は、横断面のように中空部
６及び吐出ロアを形成するようになっている。

給液チューブ８を経て送り出される液体が吐出ロアから
噴出されることにより、円錐状の液体カーテン１４が形
成されるようになされている。

外囲体１６ｂの下部は第１図に示すように、水はけのた
め網状乃至多孔状の受板１８、はね返り防止板２０を設
けることが望ましい。

以上の構成において洗浄を行う際には、被洗浄物９の上
方において、高圧ジェットノズル１と同時若しくは多少
の時間差をおいてリング状ノズル本体４が規定位置に到
達し、高圧ジェットノズル１の噴射と同時若しくは多少
の時間差をおい゛てリング状ノズル本体４から液が噴出
し液体カーテンを形成する。

高圧ジェットノズル１から噴射された洗浄液は液柱１２
となり、被洗浄物９に対し連続的に或い□は断続的に噴
射を繰り返す。この時微細粒状になった液滴１３が被洗
浄物９の周辺に飛散する。

リング状ノズル本体４の吐出ロアから噴出する円錐状の
液体カーテン１４の内側近くの空気の流れは、上方から
下方へと向い、この流れにより液滴１３の一部は液体カ
ーテン１４に沿って下方へ導かれ、液体カーテン１４に
衝突した液滴１３は液体カーテン１４に殆ど吸収され、
さらにはね返る液滴１３も下方へ導かれるから、被洗浄
物９の上方から液体カーテン１４へ外へ飛散したり、被
洗浄物９を再汚染する液滴の量は激減する。

以上通り本実施例は、高圧ジェットノズル１から噴射さ
れる液柱１２が被洗浄物９に射突することにより発生す
る微細粒を、液体カーテン１４により吸収又は下方誘導
することにより、洗浄域外へ飛散流出しないように構成
したものである。

液体カーテン１４の態様は、吐出ロアの形状、大きさに
よって変化する。

すなわち、吐出リング４ｂの全周に連続的に吐出ロアを
設けた本実施例の他、断続的に吐出ロアを形成する場合
には、断続形の液体カーテンを形成し、また吐出リング
の全周に多数の小穴を設けた場合には、細粒流体による
シャワー状のカーテンを形成する。

吐出ロアから噴出するものは液体のほか高圧気体であっ
てもよく、また流体カーテンは、高圧ジェットノズル１
の噴射域を囲にようして形成するものであればよく、実
施例のような円錐状のものに限定されない。

〔発明の効果〕

上記の通り本発明の実施により、高圧ジェットスクラバ
装置において、高圧ジェットノズルから噴射される洗浄
液が被洗浄物に射突する際発生する微細粒を洗浄域外に
飛散させることなく、また被洗浄物に対する再付着を防
止して精密な洗浄を行うことが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は第１
図中主要部の傾斜図、第３図は従来のジェットスクラバ
装置の断面図、第４図は従来の別のジェットスクラバ装
置の略示図である。 １・・・高圧ジェットノズル、２・・・移動アーム、３
・・・給液チューブ、４・・・リング状ノズル本体、５
・・・アーム、６・・・中空部、７・・・吐出口、８・
・・給液チューブ、９・・・被洗浄物、１０・・・支持
台、１１・・・シャフト、　　１２・・・液体、１３・
・・液滴、１４・・・液体カーテン、１６ａ、１６ｂ・
・・外囲体、１８・・・受板、代理人　弁理士　小川勝
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Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、高圧ジェットノズルによる噴射域の外側を囲によう
   するように流体を落下させ流体カーテンを形成する装置
   を設けたことを特徴とする高圧ジエットスクラバ装置。 ２、上記流体カーテンは、連続的に囲によう形成されて
   いる特許請求の範囲第１項記載の高圧ジエットスクラバ
   装置。 ３、上記流体カーテンは、断続的に囲によう形成されて
   いる、特許請求の範囲第１記載の高圧ジエットスクラバ
   装置。 ４、上記流体カーテンは、細粒流体によって囲によう形
   成されている特許請求の範囲第１項記載の高圧ジェット
   スクラバ装置。