JPH0453186A - 耐熱性樹脂積層基板,その製造方法及びそれを用いた印刷配線基板 - Google Patents

耐熱性樹脂積層基板,その製造方法及びそれを用いた印刷配線基板

Info

Publication number
JPH0453186A
JPH0453186A JP15766790A JP15766790A JPH0453186A JP H0453186 A JPH0453186 A JP H0453186A JP 15766790 A JP15766790 A JP 15766790A JP 15766790 A JP15766790 A JP 15766790A JP H0453186 A JPH0453186 A JP H0453186A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
heat
metal
thermoplastic resin
resistant resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15766790A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirosuke Wada
和田 裕助
Yukikimi Mikogami
▲ゆき▼公 御子神
Shigeru Ando
茂 安藤
Akira Endo
遠藤 璋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP15766790A priority Critical patent/JPH0453186A/ja
Publication of JPH0453186A publication Critical patent/JPH0453186A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、耐熱性樹脂積層基板、その製造方法及びそれ
を用いた印刷配線基板に関する。
(従来の技術) エレクトロニクス機器の発展に伴い、IC。
LSI等の電子部品を実装するエレクトロニクス機器の
基盤である印刷配線基板は、多層、高密度といった高性
能化1多機能、′軽薄短小化等の要請が強く、こうした
多層、高密度基板の需要は年々増加の一途をたどってい
る。
ところで、従来の印刷配線基板は、ガラスエポキシ樹脂
をベースとしたプリプレグを複数枚重ね、この上に金属
箔(例えば銅箔)を積層して加熱加圧することにより作
製された銅張り積層板を出発材料とし、これに孔の打ち
抜き、エツチング、メツキ、半田付けなどを行って配線
パターンを形成する方法により製造されている。しかし
ながら、かかる印刷配線基板はベースが絶縁性のガラス
エポキシ樹脂からなるため、電子部品の高密度実装に伴
う電子部品から発生した熱を良好に放熱出来ないという
問題があった。
このようなことから、アルミニュウム等の金属表面に酸
化膜を形成した、いわゆるメタルコアをベースとし、こ
のメタルコアの酸化膜上に薄膜。
厚膜印刷技術により配線パターンを形成した印刷配線基
板が開発されている。かかる印刷配線基板は、ベース材
料が金属からなるため、電子部品の高密度実装に伴う熱
の発生を良好に放熱出来る。
しかしながら、前記構造の印刷配線基板ではメタルコア
表面の薄い酸化膜により配線パターンとメタルコアの金
属を絶縁しているため、それら導体間の絶縁破壊電圧が
必ずしも十分ではないという問題とともに、絶縁層とし
てエポキシ樹脂を使用する限りハンダ耐熱性に耐えられ
ないという問題があった。
こうした問題に対し、上述した金属基板と配線パターン
間の絶縁破壊電圧を向上するために、金属基板上にガラ
スエポキシ樹脂などからなるプリプレグを介して金属箔
(例えば銅箔)を加熱加圧して積層し、該金属箔をパタ
ーニングすることにより配線パターンを形成した印刷配
線基板が考えられている。しかしながら、かかる印刷配
線基板では絶縁層と金属基板、配線パターン間の接着性
絶縁層としてのガラスエポキシ樹脂の半田耐熱性。
耐湿性といった点で必ずしも十分なものでなかった。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、上記従来の課題を解決するために成されたも
ので、優れた放熱性を有し、かつ前記基板に配線パター
ンが耐熱性に優れた絶縁層を介して強固に密着され、更
に半田耐熱性、耐湿性。
難燃性、不燃性、絶縁破壊電圧の優れた耐熱性樹脂積層
基板及びそれを用いた印刷配線基板を提供しようとする
ものである。
[発明の構成コ (課題を解決するための手段) 本発明は、上記の目的を達成するため鋭意研究を重ねた
結果なされたものであって、メタルプレート上に、無機
元素を有し、かつガラス転移点が260℃以上の自己溶
着性を有する熱可塑性樹脂と、金属箔とを積層してなる
ことを特徴とした耐熱性樹脂積層基板である。
さらにはこうした耐熱性樹脂積層基板の金属箔をパター
ニングしてなる配線を備えたことを特徴とする印刷配線
基板である。
本発明の耐熱性樹脂積層基板の基本的な構成を第1図に
示す。
図では切欠き部(11)を有したメタルプレート(1)
上に熱可塑性樹脂層(2)が形成されさらにその上に金
属箔層(3)が形成されている。また第2図に示すよう
にメタルプレート(1)上に熱可塑性樹脂層(2)と金
属箔層(3)とを複数繰返し積層した多層積層板の構成
を有していても良い。
さらにはメタルプレート(1)を中心に配しその上面及
び下面の双方に上述した熱可塑性樹脂層及び金属箔層を
対称に積層した構成であっても良い。
特にこうした構成により基板の反り、歪み等の発生をさ
らに抑制することができる。
本発明で用いるイオウ及びハロゲン元素等の無機元素を
有する難燃又は不燃性樹脂で、該樹脂のガラス転移点が
260℃以上の自己溶着性を有する熱可塑性樹脂とは、
例えば耐熱性に優れたポリケトンサルファイド系樹脂(
以下、PKS樹脂と略記)、あるいはテトラフルオロエ
チレンーバフロロアルキルビニルエーテル共重合体(以
下、PFA樹脂と略記)等があげられ、これを介してメ
タルプレート上に金属箔を貼着して積層基板が形成され
る。これより高い耐熱性、耐湿性、難燃性又は不燃性、
絶縁破壊電圧等を備えた印刷配線基板用の耐熱性樹脂積
層基板を得ることができる。
さらにメタルプレートを用いることにより、樹脂層とと
もに薄層化をしても充分な強度が保持できる。
本発明で用いる熱可塑性樹脂の好ましい一例としてあげ
られるポリケトンサルファイド系樹脂とは、官能基とし
てカルボニル基とサルファイド基を含有するポリマーか
ら構成されていることを特徴とする。これらの代表的な
樹脂としては、ポリケトンサルファイド樹脂、ポリエー
テルケトンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケ
トンサルファイド樹脂、ポリケトンサルファイドサルフ
ァイド樹脂などがあげられる。又上記樹脂の2成分以上
の混合物であってもよい。
一方、他の好ましい一例であるハロゲン元素を含有する
樹脂としては、ポリ塩化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン
樹脂、フッ素系樹脂、ブロム化エポキシ樹脂等があげら
れるが、耐熱性の観点からハンダ融解点を凌ぐフッ素系
樹脂が好ましい。又自己溶着性の観点からは、テトラフ
ルオロエチレン−パ−フロロアルキルビニルエーテル共
重合体やモノクロロフルオロエチレンポリマー等が好ま
しい。さらに、熱圧着成型プレスの観点から、上記PK
S系樹脂あるいはPFA樹脂の形体はフィルム状が取扱
いやすく、接着性絶縁層として1〜250μmの範囲の
厚さのものを用いるのが好ましい。
次いで、本発明のもう一方の構成要素であるメタルプレ
ートにって説明する。
このメタルプレートとしては、各構成物質の機械的強度
を保持し、優れた半田耐熱性、不燃性。
熱放散性、電気特性、打抜き加工性等の性能を有する金
属であればよく、鉄、ケイ素鋼板、アルミニウム、モリ
ブデン、タングステン、ステンレスニッケル バナジュ
ウム、亜鉛、銅、チタン、クロム、マンガン、スズ、ジ
ルコニュウム、インジュウム、アンチモン、銀、ガドミ
ュウム、セレン等の金属、これらの合金並びにこれらの
金属にメツキ、スパッタリング等の異種、金属をコート
又は、積層したハイブリッドメタルプレート等を挙げる
ことができる。これらは、通常、厚み0.05〜2.O
mmの範囲の物を用いる。
またこれらのメタルプレートには例えば第3図乃至第5
図に示すようなりシ形形状、網目形状。
モザイク形状等の種々の切欠き部が形成されていて良い
。あるいはメタルプレート自体を変形させて凹凸形状や
曲面形状にして用いても良い。さらにはこれらメタルプ
レートを複数積層して用いる場合には、切欠き部を積層
する方向にそろえることで、その部位を用いて積層板全
体を貫通する貫通孔の形成が行ないやすくなり好ましい
こうした切欠き部の形成は強度や重量の関係からその形
状も含めて種々選択できるが、多数の孔等を設けた場合
でも、その残りの部分の総面積はメタルプレート全体の
面積の3%以上であることが強度を保持する点からも好
ましい。
−力木発明の金属箔としては、優れた導電性。
半田耐熱性、不燃性、熱放散性、電気特性、打抜き加工
性等の性能を有する金属箔であればなんでもよく、銅箔
、鉄箔、アルミニュウム箔、モリブデン箔、ステンレス
箔、ニッケル箔、亜鉛箔、クロム箔、スズ箔、銀箔等の
金属箔、あるいはこれらの合金並びにこれらの金属にメ
ツキ、スパッタリング等の異種金属をコート又は、積層
したハイブリッドメタルプレート等の金属箔がいずれも
採用できる。
次にこれら積層基板の形成方法として、第1図に示した
3層構造の積層基板の場合について述べる。
まず、メタルプレートの上に、順次樹脂層を形成する樹
脂フィルム及び金属箔を配置し、これを−組として成型
プレートを介して一組又は複数組を熱板間に配置し、例
えば250℃以上、5〜150kg / am  、 
15〜100分の加熱加圧条件で、積層−体化させて成
型を行う。又、予め耐熱性樹脂フィルムに金属箔を一体
化させておき、これを−組又は複数組み金属板上に配置
して加熱加圧して成型しても良い。こうして得た積層基
板にドリルなどにより貫通孔を形成し、スルーホールメ
ツキを行って使用する事も可能である。
次に、本発明の耐熱性樹脂積層基板を用いた印刷配線板
の製造方法の一例を説明する。
まず、必要に応じた切り欠き部を有するメタルプレート
と金属箔とを用意し、これらメタルプレートと金属箔の
間に本発明で規定した熱可塑性樹脂のフィルムを挟んで
重ね、加熱加圧して積層する。次いで、この積層体の金
属箔膜に紫外線硬化樹脂フィルムやレジスト膜を被覆し
、露光、現像処理し、てパターンを形成した後、該パタ
ーンをマスクとして金属箔を選択的にエツチングしてパ
タニングすることにより配線パターンを形成し、印刷配
線基板とする。尚、前記パターニング前の積層体の金属
箔表面を保護するためにその表面にフィルムをラミネー
トしても良い。
次に、多層印刷配線基板の製造方法の一例を説明する。
まず、必要に応じた切り欠き部を有するメタルプレート
基板と金属箔とを用意し、これらメタルプレートと金属
箔の間に本発明で規定した熱可塑性樹脂のフィルムを挟
んで重ね、加熱加圧して積層する。その後、この金属箔
を前述したのと同様な方法によりパターニングして下層
配線パターンを有する積層体を形成する。一方、別途同
様の樹脂フィルムと金属薄とを加熱加圧して積層した積
層体を複数用意し、これらの金属箔を前述したのと同様
な方法によりパターニングして中間の配線パターンを有
する複数の積層体を形成する。次いで、前記下層配線パ
ターンを有する積層体と中間の配線パターンを有する複
数の積層体とを挟んで重ね加熱加圧して一体化する。こ
の時場合に応じて最上層にはパターンを形成していない
積層体を配しておき、一体化の後、スリーホール形成の
ための孔を打ち抜き、更に最上層の金属箔を前述したの
と同様な方法によりパターニングして最上層の配線パタ
ーンを形成し、引き続き前記孔をメツキ処理して上下及
び中間の配線パターン間の接続するスルーホールを形成
して多層配線板を製造する。もちろんスルーホールをあ
らかじめ形成した基板を積層して一体化しても良い。
(作  用) 本発明においては、メタルプレートを用いることで優れ
た放熱性を備え、かつ特定の熱可塑性樹脂による絶縁層
を有することで優れた半田耐熱性及び高い絶縁破壊電圧
が発揮される。これより薄くかつ高強度の配線基板が得
られる。
特に、KPS樹脂は超難燃性であり又PFA樹脂は不燃
性を有しているため印刷配線基板に用いて好ましい。又
、接着剤を用いることもなく、メタルプレートと金属箔
との間に樹脂フィルムを挟持し、加熱加圧するだけで、
樹脂フィルムの自己溶着による一体積層化が可能であり
、加工性に非常に優れている。更に、薄層の樹脂フィル
ム並びに薄層のメタルプレートを用いることにより、フ
レキシブル化、多層薄層化に容易に対応可能であり、加
えて密着性、自己溶着性に優れた樹脂との一体積層化に
より、寸法安定性に優れた積層基板が作製できる。
(実施例) 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例1 まず、長さ120市1幅100m5.厚さ0.3關で一
片に10關間隔で10X50+u幅の切り欠き部分を有
する第3図に示した形状のクシ形メタルプレートからな
るステンレス片を用意した。
これに長さ120mm、幅!0011111.厚さ50
μのポリケトンサルファイド樹脂(PKS樹脂:クレハ
化学製)、銅箔(35μ厚さ:福山金属製)を順次積層
し、窒素雰囲気中で、加熱、加圧形成して(310℃、
40分、 10kg/(2)2)銅張り積層基板を形成
した。その後、金属切欠き部分の在る部位にスルーホー
ルをドリルにより開け(穴開は条件;回転数: 600
00 r p m、送り速度:50μm/rev、重ね
枚数=3枚)、メツキ処理により導通層を形成した。
この積層基板を温度20℃、湿度65%で、5時間処理
した後、半田耐熱特性(260℃)を測定した。
次いで、温度20℃、湿度65%並びに95%で100
時間処理した後の体積抵抗を測定した。次いで、温度6
0℃、湿度95%で24時間処理した後の90°ビ一ル
強度を測定した。
さらに先に設けたスルホールの通電信頼性テストを以下
の条件で行い導通のとれなくなるまでのサイクル数をチ
エツクした。(サイクルテスト条件:260℃オイル×
10秒−20℃水中×10秒−20℃トリクロロエチレ
ン×10秒浸漬[1サイクルコ)最後に大気中、24時
間放置後のU L −94による難燃性と自己消火性を
測定した。これらの結果を第1表に示す。
実施例2 実施例1と同様に、まず、長さ120mm、幅100勤
論、厚さ0.3關で一辺に10關間隔で1010X50
幅の切欠き部分を有するクシ形メタルプレートからなる
ステンレス片を用意した。
これに長さ120mm、幅1100a、厚さ50μのガ
ラス充填ポリケトンサルファイド樹脂(PKS樹脂:ク
レハ化学製)、銅箔(35μ厚さ;福山金属製)を順次
積層I7、窒素雰囲気中で、加熱、加圧成形して(31
0℃、40分、 10kg/c+n2)銅張り積層基板
を形成した。その後、金属切欠き部分の在る部位にスル
ーホールをドリルにより開け(穴開は条件;回転数: 
60000 r pm、送り速度:50μm/rev、
重ね枚数:3枚)、メツキ処理により導通層を形成した
この積層基板を実施例1と同一の条件で試験測定した結
果を第1表に示す。
実施例3 まず、長さ120mm、幅100mm、厚さ0.3mm
で、第4図に示したような金網状に一辺が10m1菱形
の切欠き部を有するアルミニウム片を用意した。
これに長さ120關1幅100mm、厚さ50μのポリ
ケトンサルファイド樹脂(PKS樹脂:クレハ化学製)
、銅箔(35μ厚さ:福出金属製)を順次積層し、窒素
雰囲気中で、加熱、加圧成形して(310℃、40分、
 l0kg/(7)2)銅張り積層基板を形成した。そ
の後、金属切欠き部分の在る部位にスルーホールをドリ
ルにより開け(穴開は条件:回転数: 80000 r
 p m、送り速度=50μm / r eV1重ね枚
数二3枚)、メツキ処理により導通層を形成した。
この積層基板を実施例1と同一の条件で試験測定した結
果を第1表に示す。
実施例4・ 実施例3と同様に、まず、長さ120mm、幅100璽
虐、厚さ0,3關で第4図に示したような金網状に一辺
が10m+m菱形の切欠き部を有するアルミニウム片を
用意した。
これに長さ120mm、幅100mm、厚さ50μのポ
リケトンサルファイド樹脂(PKS樹脂:クレハ化学製
)、銅箔(35μ厚さ:福山金属製)を順次積層し、窒
素雰囲気中で、加熱、加圧成形して(310℃、40分
、 10kg/clI2)銅張り積層基板を形成した。
その後、金属切欠き部分の在る部位にスルーホールをド
リルにより開け(穴開は条件;回転数: 80000 
r p m、送り速度=50μm/rev、重ね枚数;
3枚)、メツキ処理により導通層を形成した。
この積層基板を実施例1と同一の条件で試験測定した結
果を第1表に示す。
実施例5 まず、長さ120關1幅100mm、厚さ0,3關で、
長辺の一辺に30X60mmの凹形の切欠き部を有する
ケイ素鋼板片を用意した。
これに長さ120mm、幅100mm、厚さ50μのポ
リケトンサルファイド樹脂(PKS樹脂:クレハ化学製
)、銅箔(35μ厚さ:福山金属製)を順次積層し、窒
素雰囲気中で、加熱、加圧成形して(310℃、40分
、 10)cg/cIn2)銅張り積層基板を形成した
。その後、金属切欠き部分の在る部位にスルーホールを
ドリルにより開け(穴開は条件;回転数: 80000
 r p m、送り速度=50μm/rev、重ね枚数
:3枚)、メツキ処理により導通層を形成した。
この積層基板を実施例1と同一の条件で試験測定した結
果を第1表に示す。
実施例6 実施例5と同様に、まず、長さ120mgm、幅100
1、厚さ0.3鰭で、長辺の一辺に30X80m+*の
凹形の切欠き部を有するケイ素鋼板片を用意した。
これに長さ120mm、幅100mm、厚さ50μのガ
ラス充填ポリケトンサルファイド樹脂(PKS樹脂:ク
レハ化学製)、銅箔(35μ厚さ:福出金属製)を順次
積層し、窒素雰囲気中で、加熱、加圧形成して(310
℃、40分、 10kg/(2)2)銅張り積層基板を
形成した。その後、金属切欠き部分の在る部位にスルー
ホールをドリルにより開け(穴開は条件;回転数: 6
0000 r p m、送り速度:50μm/ r e
 v 、重ね枚数:3枚)、メツキ処理により導通層を
形成した。
この積層基板を実施例1と同一の条件で試験測定した結
果を第1表に示す。
実施例7 まず、長さ120m11.幅10011s、厚さ0.3
inで一辺に10mm間隔でIOX 50關幅の切欠き
部分を複数有する第3図に示した形状のクシ形メタルプ
レートからなるステンレス片を用意した。
これに長さ120++u*、幅100mm、厚さ50μ
のパーフロロアルキルビニルエーテル−テトラフルオロ
エチレン共重合体樹脂フィルム(デュポンジャパン製)
、銅箔(35μ厚さ二福山金属製)を順次積層し、窒素
雰囲気中で、加熱2加圧成形して(330℃、40分、
 10)tg/cm” )銅張り積層基板を形成した。
その後、金属切欠き部分の在る部位にスルーホールをド
リルにより開け(穴開は条件;回転数: HOOOr 
p m、送り速度:50μm/rev、重ね枚数=3枚
)、メツキ処理により導通層を形成した。
この積層基板を実施例1と同一の条件で試験測定した結
果を第1表に示す。
実施例8 まず、長さ120關2幅100關、厚さ0.3+uで、
長辺の一辺に30×60II11の凹形の切欠き部を有
するケイ素鋼板片を用意した。
これに長さ120mm、幅100mm、厚さ50μのパ
ーフロロアルキルビニルエーテル−テトラフルオロエチ
レン共重合体樹脂フィルム(デュポンジャパン製)、銅
箔(35μ厚さ:福山金属製)を順次積層し、窒素雰囲
気中、 輌熱、加圧成形して(330℃、40分、 1
0kg/c+n2)銅張り積層基板ヲ形成した。その後
、金属切欠き部分の在る部位にスルホールをドリルによ
り開け(穴開は条件;回転数:80000 r p m
、送り速度: 50μm/ r e v、重ね枚数:3
枚)、メツキ処理により導通層を形成した。
この積層基板を実施例1と同一の条件で試験測定した結
果を第1表に示す。
実施例9 実施例4と同様に、まず長さ120+a+i、幅110
0a。
厚さ0.3龍で、第4図に示したような金網状に一辺が
10菱形の切欠き部を有するアルミニウム片を用意した
これに長さ120mm、幅100mm、厚さ50μのベ
ーフロロアルキルビニルエーテルーテトラフルオロエチ
レン共重合体樹脂フィルム(デュポンジャパン製)、銅
箔(35μ厚さ:福山金属製)を順次積層し、窒素雰囲
気中で、加熱、加圧形成して(330℃、40分、 1
0)cg/c+n2)銅張り積層基板を形成した。その
後、金属切欠き部分の在る部位にスルーホールをドリル
により開け(穴開は条件;回転数: 60000 r 
p m、送り速度=50μm/rev9重ね枚数:3枚
)、メツキ処理により導通層を形成した。
この積層基板を実施例1と同一の条件で試験測定した結
果を第1表に示す。
比較例1 長さ120w、幅100mm、厚さ0.3mmで一辺に
lOam間隔で10X50關の幅の切欠き部を有した実
施例1で用いたと同じ形状のステンレス片を用意した。
次いで、このステンレス片と同形状のエポキシ樹脂のプ
リプレグ及び銅箔(35μ厚さ:福山金属製)を積層し
て0.51■厚の積層体とした後、大気雰囲気中で加熱
、加圧成形して(160℃、240分、 10kg/c
I+2)比較例1の積層基板とした。
これを用いて実施例1と同一の名称で試験測定した結果
を第1表に併記した。
比較例2 比較例1と同様の形状のステンレス片を用意し片面全体
にガラス充填エポキシ樹脂を塗布し、100μの厚さの
樹脂層を形成した次いで銅箔(35μ厚さ、福山金属製
)を積層し大気雰囲気中で加熱、加圧成形して(100
°C,240分、 10kg/cw+2)比較例2の積
層基板とした。
これをもちいて実施例1と同一の各件で試験測定した結
果を第1表に併記した。
比較例3 市販のガラスエポキシ樹脂基板(ブレイト。
FR−4)を用いて実施例1と同一の名称で試験測定を
した結果を第1表に併記し、た。
(以下余白) 次に実施例1〜9の積層基板における銅箔部位を選択的
にエツチングすることでバターニングしたところ、どれ
も良好な配線パターンが得られた。
これより薄形でかつ高強度を有した本発明にかかりる印
刷配線基板が得られた。
[発明の結果] 本発明の耐熱性樹脂積層基板を用いて印刷配線基板を形
成することにより、高信頼性を有した薄型の印刷配線基
板を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明に係る積層基板の一例を示し
た断面模式図、第3図乃至第5図は本発明で用いるメタ
ルプレートの形状の一例を示した模式図である。 1・・・メタルプレート、2・・・熱可塑性樹脂層、3
・・・金属箔層、11・・・切欠き部。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)メタルプレート上に無機元素を有しかつガラス転
    移点が260℃以上の自己溶着性を有する熱可塑性樹脂
    と金属箔とを積層してなることを特徴とする耐熱性樹脂
    積層基板。
  2. (2)無機元素がイオウ又はハロゲン元素のいずれかで
    あることを特徴とする請求項(1)記載の耐熱性樹脂積
    層基板。
  3. (3)切り欠き形状を有したメタルプレートであること
    を特徴とする請求項(1)記載の耐熱性樹脂積層基板。
  4. (4)熱可塑性樹脂としてポリケトンサルファイド系樹
    脂を用いたことを特徴とする請求項(1)記載の耐熱性
    樹脂積層基板。
  5. (5)熱可塑性樹脂としてテトラフルオロエチレン−パ
    −フロロアルキルビニルエーテル共重合樹脂を用いたこ
    とを特徴とする請求項(1)記載の耐熱性樹脂積層基板
  6. (6)メタルプレート上に、無機元素を有しかつガラス
    転移点が260℃以上の自己溶着性を有する熱可塑性樹
    脂を配し、次いで前記熱可塑性樹脂の上に金属箔を配し
    た後に加熱圧着することを特徴とする耐熱性樹脂積層基
    板の製造方法。
  7. (7)請求項(1)記載の熱可塑性樹脂と金属箔とをあ
    らかじめ加熱圧着した後、メタルプレートと加熱圧着す
    ることを特徴とする耐熱性樹脂積層基板の製造方法。
  8. (8)請求項(1)記載の耐熱性樹脂積層基板の金属箔
    をパターニングしてなる配線を備えたことを特徴とする
    印刷配線基板。
JP15766790A 1990-06-18 1990-06-18 耐熱性樹脂積層基板,その製造方法及びそれを用いた印刷配線基板 Pending JPH0453186A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15766790A JPH0453186A (ja) 1990-06-18 1990-06-18 耐熱性樹脂積層基板,その製造方法及びそれを用いた印刷配線基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15766790A JPH0453186A (ja) 1990-06-18 1990-06-18 耐熱性樹脂積層基板,その製造方法及びそれを用いた印刷配線基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0453186A true JPH0453186A (ja) 1992-02-20

Family

ID=15654751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15766790A Pending JPH0453186A (ja) 1990-06-18 1990-06-18 耐熱性樹脂積層基板,その製造方法及びそれを用いた印刷配線基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0453186A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1035164A (ja) * 1996-04-25 1998-02-10 Samsung Aerospace Ind Ltd Icカード及びその製造方法
KR20140068204A (ko) 2011-09-22 2014-06-05 다이킨 고교 가부시키가이샤 적층체 및 적층체의 제조 방법
JP2021152102A (ja) * 2020-03-24 2021-09-30 三菱マテリアル株式会社 絶縁膜、金属ベース基板及び金属ベース基板の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1035164A (ja) * 1996-04-25 1998-02-10 Samsung Aerospace Ind Ltd Icカード及びその製造方法
KR20140068204A (ko) 2011-09-22 2014-06-05 다이킨 고교 가부시키가이샤 적층체 및 적층체의 제조 방법
JP2021152102A (ja) * 2020-03-24 2021-09-30 三菱マテリアル株式会社 絶縁膜、金属ベース基板及び金属ベース基板の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4858073A (en) Metal substrated printed circuit
US4751126A (en) A method of making a circuit board and a circuit board produced thereby
US6902949B2 (en) Multi-layer wiring circuit board and method for producing the same
CN1163958C (zh) 多层印刷电路中的层压品
JPH09504139A (ja) 可撓性多層プリント回路ボード及びその製造方法
JPH11126978A (ja) 多層配線基板
TW480681B (en) Multilayer printed wiring board and electronic equipment
JP3199664B2 (ja) 多層配線基板の製造方法
KR100863091B1 (ko) 힌지기판 및 그 제조방법
EP0450470B1 (en) Circuit board
JP3356298B2 (ja) プリント配線板及びその製造方法
JPH0453186A (ja) 耐熱性樹脂積層基板,その製造方法及びそれを用いた印刷配線基板
US20180376579A1 (en) Multilayer printed wiring board and multilayer metal clad laminated board
JPH11251703A (ja) 回路基板、両面回路基板、多層回路基板及び回路基板の製造方法
JPS6223198A (ja) 多層配線板の製法
JP2000183526A (ja) 多層配線基板およびその製造方法
WO2003032701A1 (en) Method for manufacturing multilayer wiring board, and multilayer wiring board manufactured by the same
JPH0992939A (ja) 電流保護素子モジュールおよびその製造法
JPS63199636A (ja) 積層板
JPH10335834A (ja) 多層配線基板
US20060093799A1 (en) Wired circuit board
JPH08279684A (ja) 金属ベース多層配線基板
CN112118688A (zh) 背胶铜箔增层制程
JPS60182195A (ja) 回路基板
JPH10269927A (ja) チップフューズおよびその製造法