JPH0453412A - 選別装置における処理物層厚さ検出装置 - Google Patents
選別装置における処理物層厚さ検出装置Info
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- JPH0453412A JPH0453412A JP16096190A JP16096190A JPH0453412A JP H0453412 A JPH0453412 A JP H0453412A JP 16096190 A JP16096190 A JP 16096190A JP 16096190 A JP16096190 A JP 16096190A JP H0453412 A JPH0453412 A JP H0453412A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、上下動成分を含んだ状態で揺動する揺動選別
装置の上方の固定部に上下動自在にかつ下降側に復帰付
勢して設けられて、揺動選別装置上に存在する処理物層
の上面に接触する接触子と、前記接触子の上下位置を検
出する検出手段とが備えられた選別装置における処理物
層厚さ検出装置に関する。
装置の上方の固定部に上下動自在にかつ下降側に復帰付
勢して設けられて、揺動選別装置上に存在する処理物層
の上面に接触する接触子と、前記接触子の上下位置を検
出する検出手段とが備えられた選別装置における処理物
層厚さ検出装置に関する。
かかる選別装置における処理物層厚さ検出装置では、接
触子は、処理物層の上面に接触した状態で、揺動選別装
置か上揺動するときには処理物層の上面に押されて上昇
し、揺動選別装置か上揺動するときには復帰付勢力によ
って下降する。即ち接触子は、処理物層の上面°に接触
しなから揺動選別装置の揺動に連動して昇降する。
触子は、処理物層の上面に接触した状態で、揺動選別装
置か上揺動するときには処理物層の上面に押されて上昇
し、揺動選別装置か上揺動するときには復帰付勢力によ
って下降する。即ち接触子は、処理物層の上面°に接触
しなから揺動選別装置の揺動に連動して昇降する。
このようにして接触子か昇降すると、それに伴って検出
手段で検出される上下位置も変動することとなり、正し
い処理物層の厚さを求めようとするならば、検出情報に
対して適切な処理を行わなければならない。例えば、接
触子か上昇状態から下降状態へ換わるときの上下位置だ
けを取り込むような処理を行わなければならない。しか
しなから、このような処理を行うためには特別な装置か
必要となり、それは全体の構成を複雑化するのみならず
、コスト高を招く要因にもなる。
手段で検出される上下位置も変動することとなり、正し
い処理物層の厚さを求めようとするならば、検出情報に
対して適切な処理を行わなければならない。例えば、接
触子か上昇状態から下降状態へ換わるときの上下位置だ
けを取り込むような処理を行わなければならない。しか
しなから、このような処理を行うためには特別な装置か
必要となり、それは全体の構成を複雑化するのみならず
、コスト高を招く要因にもなる。
本発明の目的は、上述のような特別な装置を用いずとも
、処理物の層の厚さを正確に求められるようにすること
にある。
、処理物の層の厚さを正確に求められるようにすること
にある。
本発明に係る選別装置における処理物層厚さ検出装置で
は、接触子に、下降側への移動速度を遅くする速度制限
手段か連結されている点を特徴構成としている。
は、接触子に、下降側への移動速度を遅くする速度制限
手段か連結されている点を特徴構成としている。
接触子は、処理物層の上面に接触した状態で、揺動選別
装置が上揺動するときには処理物層の上面に押されて上
昇するが、揺動選別装置か上揺動するときには速度制限
手段によって移動速度を遅く抑えられなから下降する。
装置が上揺動するときには処理物層の上面に押されて上
昇するが、揺動選別装置か上揺動するときには速度制限
手段によって移動速度を遅く抑えられなから下降する。
このときの移動速度は、揺動選別装置が上揺動するとき
の速度よりも遅く、接触子はとり残された状態となり、
次に揺動選別装置が上揺動するときに処理物の層の上面
に再び押されて上昇することになる。したがって、接触
子の移動速度か遅くなるほど昇降量も小さくなり、揺動
選別装置が上揺動する速度に比較して十分に遅く、しか
も、処理物の層の厚さが余り変化しなければ、接触子は
上昇したまま殆ど下降しなくなって昇降量も極めて小さ
くなり、検出手段で検出される上下位置も安定してくる
。
の速度よりも遅く、接触子はとり残された状態となり、
次に揺動選別装置が上揺動するときに処理物の層の上面
に再び押されて上昇することになる。したがって、接触
子の移動速度か遅くなるほど昇降量も小さくなり、揺動
選別装置が上揺動する速度に比較して十分に遅く、しか
も、処理物の層の厚さが余り変化しなければ、接触子は
上昇したまま殆ど下降しなくなって昇降量も極めて小さ
くなり、検出手段で検出される上下位置も安定してくる
。
検出手段で検出される上下位置の変動か小さくなるので
、従来のように特別な装置を用いなくとも、検出情報に
対する処理を容易に行えるようになる。その結果として
、全体的な構成が簡略化され、コストを安くすることが
可能になる。
、従来のように特別な装置を用いなくとも、検出情報に
対する処理を容易に行えるようになる。その結果として
、全体的な構成が簡略化され、コストを安くすることが
可能になる。
以下、本発明を、コンバインに搭載された脱穀装置に適
用した場合の実施例を図面に基づいて説明する。
用した場合の実施例を図面に基づいて説明する。
第6図に示すように、脱穀装置は、刈取殻稈を扱き処理
する扱胴(2)を収納する扱室(A)と、その扱、室(
A)からの漏下処理物に対して選別作用する揺動選別装
置(3)と選別風を送風する唐箕(4)とを備えた選別
部(B)とがらなる。
する扱胴(2)を収納する扱室(A)と、その扱、室(
A)からの漏下処理物に対して選別作用する揺動選別装
置(3)と選別風を送風する唐箕(4)とを備えた選別
部(B)とがらなる。
前記扱胴(2)は、フィードチェーン(1)にて挟持搬
送される横倒れ姿勢の刈取殻稈を、搬送方向に沿う軸芯
(P)周りの回転によって扱き処理するように構成され
ている。
送される横倒れ姿勢の刈取殻稈を、搬送方向に沿う軸芯
(P)周りの回転によって扱き処理するように構成され
ている。
前記扱室(A)の下部には、前記扱胴(2)の下側外周
部に沿って脱穀処理物漏下用の受網(5)が設けられ、
そして、その受網(5)の後方側箇所に、前記扱室(A
)内に残存する脱穀処理物を排出するための開口(6)
が形成されている。
部に沿って脱穀処理物漏下用の受網(5)が設けられ、
そして、その受網(5)の後方側箇所に、前記扱室(A
)内に残存する脱穀処理物を排出するための開口(6)
が形成されている。
前記揺動選別装置(3)は、前方から後方に向かって順
次並ぶように配置されたグレンパン(7)、チャフシー
ブ(8)、及び、2個のストロ−ラック(9A)、 (
9B)の夫々が備えられ、前記チャフシーブ(8)の下
方には、補助グレンパン(10)とグレンシーブ(11
)とが前後方向に順次並ぶ状態で配置され、それらの各
部か一対の側板(12)の間に固定された状態で、上下
動成分を含んだ一体揺動をするように構成されている。
次並ぶように配置されたグレンパン(7)、チャフシー
ブ(8)、及び、2個のストロ−ラック(9A)、 (
9B)の夫々が備えられ、前記チャフシーブ(8)の下
方には、補助グレンパン(10)とグレンシーブ(11
)とが前後方向に順次並ぶ状態で配置され、それらの各
部か一対の側板(12)の間に固定された状態で、上下
動成分を含んだ一体揺動をするように構成されている。
また、前記選別装置(B)の下部には、前記グレンシー
ブ(11)から漏下する穀粒を一番物として回収する一
番物回収部(13)と、前記ストロ−ラック(9)の終
端部や前記グレンシーブ(11)の終端部を超えて落下
する藁屑等と穀粒とが混入した処理物(以下の説明にお
いて二番物と略称する)を回収して前記扱室(A)に還
元するための二番物回収部(14)とが設けられている
。尚、図中、(15)は前記二番物を前記扱室(A)に
還元するためのスロワである。
ブ(11)から漏下する穀粒を一番物として回収する一
番物回収部(13)と、前記ストロ−ラック(9)の終
端部や前記グレンシーブ(11)の終端部を超えて落下
する藁屑等と穀粒とが混入した処理物(以下の説明にお
いて二番物と略称する)を回収して前記扱室(A)に還
元するための二番物回収部(14)とが設けられている
。尚、図中、(15)は前記二番物を前記扱室(A)に
還元するためのスロワである。
第1図乃至第3図に示すように、前記受網(5)の底部
の扱胴回転方向下手側(図中左側)には、揺動選別板(
3)上の処理物層の厚さの不均一を是正しなから移送さ
れていく処理物の詰まりを検出する第1センサ(Sl)
が設けられ、扱胴回転方向上手側(図中右側)には、処
理物層の厚さを検出する第2センサ(S2)が設けられ
ている。
の扱胴回転方向下手側(図中左側)には、揺動選別板(
3)上の処理物層の厚さの不均一を是正しなから移送さ
れていく処理物の詰まりを検出する第1センサ(Sl)
が設けられ、扱胴回転方向上手側(図中右側)には、処
理物層の厚さを検出する第2センサ(S2)が設けられ
ている。
前記第1センサ(Sl)は、後上方へ揺動自在に設けら
れた下向きの接触子(16)と、接触子(16)か設定
角以上後方へ揺動するとON操作されるスイッチ(SW
)とがら成る。この接触子(16)は、下向きに強い力
で復帰付勢されており、移送されていく処理物を受は止
めて第2センサ(S2)の方へ徐々に寄せていくよう、
その前部は幅広で傾斜した面か形成されている。スイッ
チ(SW)は第4図に示すように制御装置(H)に連絡
されており、接触子(16)か設定角以上後方へ揺動す
ると、スイッチ(SW)から制御装置(H)へON信号
か出力されるようになっている。
れた下向きの接触子(16)と、接触子(16)か設定
角以上後方へ揺動するとON操作されるスイッチ(SW
)とがら成る。この接触子(16)は、下向きに強い力
で復帰付勢されており、移送されていく処理物を受は止
めて第2センサ(S2)の方へ徐々に寄せていくよう、
その前部は幅広で傾斜した面か形成されている。スイッ
チ(SW)は第4図に示すように制御装置(H)に連絡
されており、接触子(16)か設定角以上後方へ揺動す
ると、スイッチ(SW)から制御装置(H)へON信号
か出力されるようになっている。
前記第2センサ(S2)は、後上方へ揺動自在に設けら
れた下向きの接触子(17)と、この接触子(17)の
揺動に応じて抵抗値か変化するポテンショメータ(PM
) (検出手段に相当する)とがら成る。接触子(17
)は、下向きに弱い力で復帰付勢されており、移送され
ていく処理物に抵抗を与えないように、その前部は幅狭
の面に形成されている。そして基端部には下方への揺動
速度だけを遅くするためのエアダンパ(100速度制限
手段に相当する)か連結されている。ポテンショメータ
(PM)は前記制御装置(H)に連絡されており、接触
子(16)の後方への揺動に応じた電圧が制御装置(H
)に出力される。
れた下向きの接触子(17)と、この接触子(17)の
揺動に応じて抵抗値か変化するポテンショメータ(PM
) (検出手段に相当する)とがら成る。接触子(17
)は、下向きに弱い力で復帰付勢されており、移送され
ていく処理物に抵抗を与えないように、その前部は幅狭
の面に形成されている。そして基端部には下方への揺動
速度だけを遅くするためのエアダンパ(100速度制限
手段に相当する)か連結されている。ポテンショメータ
(PM)は前記制御装置(H)に連絡されており、接触
子(16)の後方への揺動に応じた電圧が制御装置(H
)に出力される。
かかる構成により、接触子(17)は、揺動選別装置(
3)か上揺動するときには、処理物層の上面に接触した
状態で持ち上げられて上揺動するか、揺動選別装置(3
)か上揺動するときには、エアダンパ(18)によって
揺動速度を低く抑えられなから処理物層の上面から離れ
てゆっくり上揺動することになる。この上揺動する速度
は、揺動選別装置(3)が上揺動するときの速度よりも
遅く、接触子(17)はとり残される状態となるか、次
に揺動選別装置が上揺動するときには処理物の層の上面
に再び持ち上げられて上揺動する。そして結果的には、
接触子(17)の揺動は極めて小さくなり、高く揺動し
た位置付近で安定する。
3)か上揺動するときには、処理物層の上面に接触した
状態で持ち上げられて上揺動するか、揺動選別装置(3
)か上揺動するときには、エアダンパ(18)によって
揺動速度を低く抑えられなから処理物層の上面から離れ
てゆっくり上揺動することになる。この上揺動する速度
は、揺動選別装置(3)が上揺動するときの速度よりも
遅く、接触子(17)はとり残される状態となるか、次
に揺動選別装置が上揺動するときには処理物の層の上面
に再び持ち上げられて上揺動する。そして結果的には、
接触子(17)の揺動は極めて小さくなり、高く揺動し
た位置付近で安定する。
前記制御装置(H)には、前記スイッチ(SW)とポテ
ンショメータ(PM)の他に、駆動回路(19)と車速
センサ(20)とが連絡されている。そして駆動回路(
19)にはコンバインの車速変速装置(図示せず)を操
作する電動モータ(M)か連絡されている。制御装置(
H)は、スイッチ(SW)、ポテンショメータ(PM)
、車速センサ(20)の情報に基づいて駆動回路(19
)に増速又は減速信号を送って電動モータ(M)を駆動
方向を制御し、処理物の層の厚さが設定値に維持される
ようにしている。
ンショメータ(PM)の他に、駆動回路(19)と車速
センサ(20)とが連絡されている。そして駆動回路(
19)にはコンバインの車速変速装置(図示せず)を操
作する電動モータ(M)か連絡されている。制御装置(
H)は、スイッチ(SW)、ポテンショメータ(PM)
、車速センサ(20)の情報に基づいて駆動回路(19
)に増速又は減速信号を送って電動モータ(M)を駆動
方向を制御し、処理物の層の厚さが設定値に維持される
ようにしている。
基本的には、第5図のフローチャートに示すように、先
ずスイッチ(SW)のON・OFFを調べ、ONであれ
ばチャフシーブ(8)上で詰まりか発生していると判断
し、駆動回路(19)に減速信号を出力する。それによ
って刈り取られて扱室(A)に供給される殻稈の量を減
少させる。
ずスイッチ(SW)のON・OFFを調べ、ONであれ
ばチャフシーブ(8)上で詰まりか発生していると判断
し、駆動回路(19)に減速信号を出力する。それによ
って刈り取られて扱室(A)に供給される殻稈の量を減
少させる。
また、スイッチ(SW)かOFFであれば接触子(17
)の揺動角か第1設定角よりも小さいか否かを調べ、小
さければ処理物層の厚さが許容される厚さよりも薄いと
判断し、駆動回路(19)に増速信号を出力する。それ
によって刈り取られて扱室(A)に供給される穀稈の量
を増大させる。
)の揺動角か第1設定角よりも小さいか否かを調べ、小
さければ処理物層の厚さが許容される厚さよりも薄いと
判断し、駆動回路(19)に増速信号を出力する。それ
によって刈り取られて扱室(A)に供給される穀稈の量
を増大させる。
また、接触子(17)の揺動角が第1設定角よりも小さ
くなければ第2設定角(第1設定角よりも大きい)より
も大きいか否かを調べ、大きければ処理物層の厚さが許
容される厚さよりも厚いと判断し、駆動回路(19)に
減速信号を出力する。
くなければ第2設定角(第1設定角よりも大きい)より
も大きいか否かを調べ、大きければ処理物層の厚さが許
容される厚さよりも厚いと判断し、駆動回路(19)に
減速信号を出力する。
接触子(17)の揺動角が第1設定角よりも大きくなけ
れば、スイッチ(SW)のON・OFFを再び調べる。
れば、スイッチ(SW)のON・OFFを再び調べる。
このような処理か繰り返し実行することによって、チャ
フシーブ(8)上の処理物の層を一定の厚さに維持する
のである。
フシーブ(8)上の処理物の層を一定の厚さに維持する
のである。
接触子(17)の先端に重りを取り付け、この重りによ
って接触子(17)が下向きに復帰付勢されるようにし
てもよい。
って接触子(17)が下向きに復帰付勢されるようにし
てもよい。
先の実施例では接触子(17)は揺動式に構成されてい
るが、縦方向に沿って上下動するように構成されていて
もよい。
るが、縦方向に沿って上下動するように構成されていて
もよい。
尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を便利にするた
めに符号を記すか、該記入により本発明は添付図面の構
造に限定されるものではない。
めに符号を記すか、該記入により本発明は添付図面の構
造に限定されるものではない。
図面は本発明に係る脱穀装置の処理物量検出装置の実施
例を示し、第1図は要部の側面図、第2図は脱穀装置上
部の縦断正面図、第3図は脱穀装置上部の底面図、第4
図は制御構成を示すブロック図、第5図は制御作動のフ
ローチャート、第6図は脱穀装置の全体縦断側面図であ
る。 (PM)・・・・・・検出手段、(3)・・・・・・揺
動選別装置、(5)・・・・・・固定部、(17)・・
・・・・接触子、(18)・・・・・・速度制限手段。
例を示し、第1図は要部の側面図、第2図は脱穀装置上
部の縦断正面図、第3図は脱穀装置上部の底面図、第4
図は制御構成を示すブロック図、第5図は制御作動のフ
ローチャート、第6図は脱穀装置の全体縦断側面図であ
る。 (PM)・・・・・・検出手段、(3)・・・・・・揺
動選別装置、(5)・・・・・・固定部、(17)・・
・・・・接触子、(18)・・・・・・速度制限手段。
Claims (1)
- 上下動成分を含んだ状態で揺動する揺動選別装置(3)
の上方の固定部(5)に上下動自在にかつ下降側に復帰
付勢して設けられて、揺動選別装置(3)上に存在する
処理物層の上面に接触する接触子(17)と、前記接触
子(17)の上下位置を検出する検出手段(PM)とが
備えられた選別装置における処理物層厚さ検出装置であ
って、前記接触子(17)に、下降側への移動速度を遅
くする速度制限手段(18)が連結されている選別装置
における処理物層厚さ検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2160961A JP2511560B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 選別装置における処理物層厚さ検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2160961A JP2511560B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 選別装置における処理物層厚さ検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0453412A true JPH0453412A (ja) | 1992-02-21 |
| JP2511560B2 JP2511560B2 (ja) | 1996-06-26 |
Family
ID=15725924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2160961A Expired - Lifetime JP2511560B2 (ja) | 1990-06-19 | 1990-06-19 | 選別装置における処理物層厚さ検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2511560B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6280552U (ja) * | 1985-11-08 | 1987-05-22 | ||
| JPS63158136U (ja) * | 1987-04-07 | 1988-10-17 |
-
1990
- 1990-06-19 JP JP2160961A patent/JP2511560B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6280552U (ja) * | 1985-11-08 | 1987-05-22 | ||
| JPS63158136U (ja) * | 1987-04-07 | 1988-10-17 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2511560B2 (ja) | 1996-06-26 |
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