JPH0453548U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0453548U JPH0453548U JP9514990U JP9514990U JPH0453548U JP H0453548 U JPH0453548 U JP H0453548U JP 9514990 U JP9514990 U JP 9514990U JP 9514990 U JP9514990 U JP 9514990U JP H0453548 U JPH0453548 U JP H0453548U
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- JP
- Japan
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- ray
- crystal
- rowland circle
- radius
- curvature
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- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000000441 X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
第１図ないし第４図は本考案のＸ線分析装置の
実施例を示すもので、第１図はＸ線分光のための
Ｘ線源、分光結晶および焦点の位置関係を示す説
明図、第２図はＸ線源の平面図、第３図は第２図
の−図に沿う断面図、第４図はＸ線源の他の
変形例を示す平面図である。また、第５図はＸ線
分光の説明図、第６図はＸ線光電子分光装置（Ｘ
ＰＳ）で使用する解放形のＸ線源を示し、同図ａ
はその側面図、同図ｂはその平面図である。 Ｇ……分光結晶、Ｓ……ローランド円、Ｒ……
ローランド円の曲率半径、Ｏ……ローランド円の
中心、Ａ……球面、Ｂ……円錐、ｒ……円錐の底
面半径、Ｍ……円錐の底面の半径、ｆ……フイラ
メント、ｔ……ターゲツト、ｐ０〜ｐ１……Ｘ線
発生箇所、ｑ０〜ｑ２……焦点位置。
実施例を示すもので、第１図はＸ線分光のための
Ｘ線源、分光結晶および焦点の位置関係を示す説
明図、第２図はＸ線源の平面図、第３図は第２図
の−図に沿う断面図、第４図はＸ線源の他の
変形例を示す平面図である。また、第５図はＸ線
分光の説明図、第６図はＸ線光電子分光装置（Ｘ
ＰＳ）で使用する解放形のＸ線源を示し、同図ａ
はその側面図、同図ｂはその平面図である。 Ｇ……分光結晶、Ｓ……ローランド円、Ｒ……
ローランド円の曲率半径、Ｏ……ローランド円の
中心、Ａ……球面、Ｂ……円錐、ｒ……円錐の底
面半径、Ｍ……円錐の底面の半径、ｆ……フイラ
メント、ｔ……ターゲツト、ｐ０〜ｐ１……Ｘ線
発生箇所、ｑ０〜ｑ２……焦点位置。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 所定の曲率半径Ｒを有する一つのローランド円
上に、Ｘ線源と、湾曲形の分光結晶とがそれぞれ
配置されてなるＸ線分析装置において、 前記分光結晶は、その結晶格子面がローランド
円に沿う方向とこれに直交する方向とにそれぞれ
同じ２Ｒの曲率半径をもつて湾曲形成され、かつ
、前記Ｘ線源を構成するターゲツトは、前記ロー
ランド円の中心と分光結晶とを結ぶ軸を回転中心
とした球面に内接する円錐の底面位置において、
該底面の半径ｒに一致するように円弧状に形成さ
れていることを特徴とするＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9514990U JPH0453548U (ja) | 1990-09-10 | 1990-09-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9514990U JPH0453548U (ja) | 1990-09-10 | 1990-09-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0453548U true JPH0453548U (ja) | 1992-05-07 |
Family
ID=31833650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9514990U Pending JPH0453548U (ja) | 1990-09-10 | 1990-09-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0453548U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011122020A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | Ｘ線照射装置および分析装置 |
-
1990
- 1990-09-10 JP JP9514990U patent/JPH0453548U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011122020A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | Ｘ線照射装置および分析装置 |
| JP5550082B2 (ja) * | 2010-03-31 | 2014-07-16 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | Ｘ線照射装置および分析装置 |
| US9080947B2 (en) | 2010-03-31 | 2015-07-14 | National Institute For Materials Science | X-ray irradiation device and analysis device |