JPH0455042U - - Google Patents

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JPH0455042U
JPH0455042U JP1990098308U JP9830890U JPH0455042U JP H0455042 U JPH0455042 U JP H0455042U JP 1990098308 U JP1990098308 U JP 1990098308U JP 9830890 U JP9830890 U JP 9830890U JP H0455042 U JPH0455042 U JP H0455042U
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Japan
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pattern
phase shifter
photomask
light
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【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の１実施例の位相シフト層を有
するフオトマスクのパターンの配置を示す図、第
２図は位相シフター膜厚測定用パターンの１例の
構成を示す図、第３図はアライメント精度測定用
パターンの１例の構成を示す図、第４図は別の実
施例のフオトマスクのパターンの配置を示す図、
第５図は第４図における位相シフター膜厚測定用
補助パターンの構成を示す図、第６図は第４図に
おけるアライメント精度測定用遮光パターンの構
成を示す図、第７図はさらに別の実施例のフオト
マスクのパターンの配置を示す図、第８図は第７
図における遮光バーニアパターンの平面図、第９
図は第７図における位相シフター膜厚測定用パタ
ーンの構成を示す図、第１０図は第７図における
位相シフターバーニアパターンの平面図、第１１
図は位相シフト法の原理を示す図、第１２図は従
来法を示す図である。 １……基板、２……遮光膜、３……位相シフタ
ー、４……入射光、５……主パターン、６……ア
ライメントマーク、７……アライメント精度測定
用パターン、８……位相シフター膜厚測定用パタ
ーン、９……位相シフター膜厚測定用補助パター
ン、１０……位相シフター膜厚測定用パターン本
体、１１……アライメント精度測定用遮光パター
ン、１２……アライメント精度測定用位相シフタ
ーパターン、１３……遮光バーニアパターン、１
４……位相シフターバーニアパターン。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 遮光領域によつて隔離されかつ相互に隣接
    する透明領域間に位相差を与える位相シフターと
    遮光パターンとを有するフオトマスクにおいて、
    主パターンにかからない部分に、位相シフターの
    膜厚を測定するための位相シフター膜厚測定用パ
    ターンと、遮光パターンと位相シフターパターン
    とのアライメント精度を測定するためのアライメ
    ント精度測定用パターンとを設けたことを特徴と
    する位相シフト層を有するフオトマスク。 (2) 前記位相シフター膜厚測定用パターンは、
    遮光パターンの一部をなす補助パターン上に形成
    され、位相シフターの一部をなす膜厚測定用パタ
    ーンから構成されていることを特徴とする請求項
    １記載の位相シフト層を有するフオトマスク。 (3) 前記位相シフター膜厚測定用パターンは、
    フオトマスク基板上に直接形成され、位相シフタ
    ーの一部をなす膜厚測定用パターンから構成され
    ていることを特徴とする請求項１記載の位相シフ
    ト層を有するフオトマスク。 (4) 前記アライメント精度測定用パターンは、
    遮光パターンの一部をなすアライメント精度測定
    用遮光パターンと、位相シフターの一部をなすア
    ライメント精度測定用位相シフターパターンとか
    らなることを特徴とする請求項１から３の何れか
    １項記載の位相シフト層を有するフオトマスク。 (5) 前記アライメント精度測定用遮光パターン
    が所定間隔の遮光バーニアパターンからなり、前
    記アライメント精度測定用位相シフターパターン
    が前記間隙と僅かに異なる間隙の位相シフターバ
    ーニアパターンからなることを特徴とする請求項
    ４記載の位相シフト層を有するフオトマスク。 (6) 前記位相シフター膜厚測定用パターンと前
    記アライメント精度測定用パターンとが同一のパ
    ターン上に形成されていることを特徴とする請求
    項１から５の何れか１項記載の位相シフト層を有
    するフオトマスク。
JP1990098308U 1990-09-19 1990-09-19 位相シフト層を有するフォトマスク Expired - Lifetime JP2551102Y2 (ja)

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JPH0455042U true JPH0455042U (ja) 1992-05-12
JP2551102Y2 JP2551102Y2 (ja) 1997-10-22

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06308712A (ja) * 1993-02-17 1994-11-04 Nec Corp 位相シフトマスクおよびその検査方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH06308712A (ja) * 1993-02-17 1994-11-04 Nec Corp 位相シフトマスクおよびその検査方法

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JP2551102Y2 (ja) 1997-10-22

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