JPH0455415B2 - - Google Patents
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- JPH0455415B2 JPH0455415B2 JP62097509A JP9750987A JPH0455415B2 JP H0455415 B2 JPH0455415 B2 JP H0455415B2 JP 62097509 A JP62097509 A JP 62097509A JP 9750987 A JP9750987 A JP 9750987A JP H0455415 B2 JPH0455415 B2 JP H0455415B2
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- hexafluoroacetone
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
イ 発明の目的
産業上の利用分野
この発明はエチレン−テトラフルオロエチレン
共重合体の修飾用モノマー、フツ化ビニリデン−
ヘキサフルオロプロペン系フツ素ゴムの加硫剤原
料、溶媒、その他化学反応中間体として有用なヘ
キサフルオロアセトンを製造する方法に関するも
のである。 従来の技術 特開昭55−130935号にはヘキサフルオロプロペ
ン（HFP）を、酸化錫、酸化鉄および酸化イン
ジウムからなる群から選ばれた酸化物に接触させ
てヘキサフルオロアセトン（HFA）を得る方法
が記載されているが、この方法における選択率は
60％未満で、ワンパス収率は10〜38％程度であ
る。 発明が解決しようとする問題点 本発明は高い選択率とワンパス収率でヘキサフ
ルオロアセトンを製造する方法を提供することを
目的とする。 ロ 発明の構成 問題点を解決するための手段 本発明によるヘキサフルオロアセトンの製造方
法は、Ru，Rh，Pd，Pt及びIrからなる群から選
ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフ
ルオロプロペンを分子状酸素と共に接触させるこ
とよりなる。 本発明において使用する活性炭は、一般に触媒
担体用として市販されているものを使用できる。 また活性炭にRu，Rh，Pd，Pt及びIrからなる
群から選ばれる貴金属を担持させる方法も、通常
用いられている方法により行うことができる。ま
たこれらの貴金属を活性炭に担持させた市販触媒
を使用してもよい。 Ru，Rh，Pd，Pt及びIrからなる群から選ばれ
る貴金属の活性炭に対する担持量は、0.3〜５重
量％程度とするのが適当である。 以下本発明を実施例により具体的に説明する。 実施例 １〜６ 0.2wt％Pd／活性炭触媒（日本エンゲルハルト
(株)製）を、 予備処理として反応装置内で130℃で排気し
たもの（実施例１）、 300℃で排気したもの（実施例２）、 300℃で排気後120Torrの酸素により130℃で
45分処理し130℃で排気したもの（実施例３）、 300℃で排気後120Torrの水素により130℃で
45分処理し130℃で排気したもの（実施例４）、 実施例１の触媒を使用後、130℃で排気して
再使用したもの（実施例５）、 実施例６で使用した触媒をさらに300℃で排
気して再使用したもの（実施例６） それぞれ0.50ｇを用い、気相封鎖循環反応装置
（容量0.32）内で反応初期圧力約258Torr、ヘ
キサフルオロプロペン（HFP）／O2比＝1.0、温
度130℃で45分間反応させ、圧力の減少により反
応の進行状況を調べた。 この結果、誘導期約25分を経過した後圧力は次
第に減少し始めた。 反応生成物の分析はガスクロマトグラフを使用
し、I.R.も併用した。試験結果を第１表に示す。 予備処理条件により転化率及び選択率は変化す
るが、70〜92％という高い選択率でヘキサフルオ
ロアセトンが得られる。 なお一度使用した触媒を再度130℃で加熱排気
した場合（実施例６）は誘導期は認められず、し
かも第１回目の使用時と同等以上の高活性が認め
られた。
共重合体の修飾用モノマー、フツ化ビニリデン−
ヘキサフルオロプロペン系フツ素ゴムの加硫剤原
料、溶媒、その他化学反応中間体として有用なヘ
キサフルオロアセトンを製造する方法に関するも
のである。 従来の技術 特開昭55−130935号にはヘキサフルオロプロペ
ン（HFP）を、酸化錫、酸化鉄および酸化イン
ジウムからなる群から選ばれた酸化物に接触させ
てヘキサフルオロアセトン（HFA）を得る方法
が記載されているが、この方法における選択率は
60％未満で、ワンパス収率は10〜38％程度であ
る。 発明が解決しようとする問題点 本発明は高い選択率とワンパス収率でヘキサフ
ルオロアセトンを製造する方法を提供することを
目的とする。 ロ 発明の構成 問題点を解決するための手段 本発明によるヘキサフルオロアセトンの製造方
法は、Ru，Rh，Pd，Pt及びIrからなる群から選
ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフ
ルオロプロペンを分子状酸素と共に接触させるこ
とよりなる。 本発明において使用する活性炭は、一般に触媒
担体用として市販されているものを使用できる。 また活性炭にRu，Rh，Pd，Pt及びIrからなる
群から選ばれる貴金属を担持させる方法も、通常
用いられている方法により行うことができる。ま
たこれらの貴金属を活性炭に担持させた市販触媒
を使用してもよい。 Ru，Rh，Pd，Pt及びIrからなる群から選ばれ
る貴金属の活性炭に対する担持量は、0.3〜５重
量％程度とするのが適当である。 以下本発明を実施例により具体的に説明する。 実施例 １〜６ 0.2wt％Pd／活性炭触媒（日本エンゲルハルト
(株)製）を、 予備処理として反応装置内で130℃で排気し
たもの（実施例１）、 300℃で排気したもの（実施例２）、 300℃で排気後120Torrの酸素により130℃で
45分処理し130℃で排気したもの（実施例３）、 300℃で排気後120Torrの水素により130℃で
45分処理し130℃で排気したもの（実施例４）、 実施例１の触媒を使用後、130℃で排気して
再使用したもの（実施例５）、 実施例６で使用した触媒をさらに300℃で排
気して再使用したもの（実施例６） それぞれ0.50ｇを用い、気相封鎖循環反応装置
（容量0.32）内で反応初期圧力約258Torr、ヘ
キサフルオロプロペン（HFP）／O2比＝1.0、温
度130℃で45分間反応させ、圧力の減少により反
応の進行状況を調べた。 この結果、誘導期約25分を経過した後圧力は次
第に減少し始めた。 反応生成物の分析はガスクロマトグラフを使用
し、I.R.も併用した。試験結果を第１表に示す。 予備処理条件により転化率及び選択率は変化す
るが、70〜92％という高い選択率でヘキサフルオ
ロアセトンが得られる。 なお一度使用した触媒を再度130℃で加熱排気
した場合（実施例６）は誘導期は認められず、し
かも第１回目の使用時と同等以上の高活性が認め
られた。
【表】
実施例 ７
活性炭（クラレケミカル(株)製）にPdC2の
1H／・HC溶液を含浸させ、水洗後120℃で乾
燥し、450℃で水素還元してPdを５重量％担持さ
せた触媒を調製した。 この触媒0.5ｇを用い、気相封鎖循環反応装置
（容量0.32）内で反応初期圧力約258Torr、
HFP／O2比＝1.0、温度130℃で120分反応させた
結果を第２表に示す。
1H／・HC溶液を含浸させ、水洗後120℃で乾
燥し、450℃で水素還元してPdを５重量％担持さ
せた触媒を調製した。 この触媒0.5ｇを用い、気相封鎖循環反応装置
（容量0.32）内で反応初期圧力約258Torr、
HFP／O2比＝1.0、温度130℃で120分反応させた
結果を第２表に示す。
【表】
比較例 １〜３
担体としてSiO2，TiO2又はＡ2O3を使用し、
PdC2の1N・HC溶液を含浸させ、水洗後120
℃で乾燥し、450℃で水素還元してPdを0.5重量％
担持させた触媒を調製した。 これを実施例７と同じ条件で120分反応させた
結果を第３表に示す。
PdC2の1N・HC溶液を含浸させ、水洗後120
℃で乾燥し、450℃で水素還元してPdを0.5重量％
担持させた触媒を調製した。 これを実施例７と同じ条件で120分反応させた
結果を第３表に示す。
【表】
活性炭以外の担体を使用した場合は転化率が著
しく低く、ことに、Ａ2O3を使用した場合はヘ
キサフルオロアセトンは全く生成しない。 実施例 ８〜13 第４表に示す如き日本エンゲルハルト(株)製の各
種市販触媒それぞれ0.50ｇを、実施例１〜６で使
用した気相封鎖循環反応装置内で130℃で３時間
加熱排気して予備処理した後、反応初期圧力約
258Torr、HFP／O2比＝1.0、温度130℃で圧力の
減少が殆ど認められなくなるまで反応させた結果
を第４表に示す。
しく低く、ことに、Ａ2O3を使用した場合はヘ
キサフルオロアセトンは全く生成しない。 実施例 ８〜13 第４表に示す如き日本エンゲルハルト(株)製の各
種市販触媒それぞれ0.50ｇを、実施例１〜６で使
用した気相封鎖循環反応装置内で130℃で３時間
加熱排気して予備処理した後、反応初期圧力約
258Torr、HFP／O2比＝1.0、温度130℃で圧力の
減少が殆ど認められなくなるまで反応させた結果
を第４表に示す。
【表】
いずれも高い選択率とワンパス収率を示してい
る。 実施例14及び15 実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭にRuC
3またはRhC3の水溶液を含浸させ、水洗後
120℃で乾燥し、500℃で水素還元してRuを５重
量％担持させた触媒（実施例14）及びRhを５重
量％担持させた触媒（実施例15）を調製した。 これを実施例７と同じ条件で150分反応させた
結果を第５表に示す。
る。 実施例14及び15 実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭にRuC
3またはRhC3の水溶液を含浸させ、水洗後
120℃で乾燥し、500℃で水素還元してRuを５重
量％担持させた触媒（実施例14）及びRhを５重
量％担持させた触媒（実施例15）を調製した。 これを実施例７と同じ条件で150分反応させた
結果を第５表に示す。
【表】
実施例 16
実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭（クラ
レケミカル(株)製）に塩化白金酸の水溶液を含浸さ
せ、水洗後120℃で乾燥し500℃で水素還元して
Ptを５重量％担持させた触媒を調製した。これ
を実施例７と同じ条件で60分反応させた結果を第
６表に示す。
レケミカル(株)製）に塩化白金酸の水溶液を含浸さ
せ、水洗後120℃で乾燥し500℃で水素還元して
Ptを５重量％担持させた触媒を調製した。これ
を実施例７と同じ条件で60分反応させた結果を第
６表に示す。
【表】
比較例 ４
担体としてＡ2O3を使用し、実施例16の触媒
調製法に準じてPtを５重量％担持させた触媒を
調製した。これを実施例16と同じ条件で150分反
応させた結果を第７表に示す。
調製法に準じてPtを５重量％担持させた触媒を
調製した。これを実施例16と同じ条件で150分反
応させた結果を第７表に示す。
【表】
担体として活性炭を使用した実施例16に比し転
化率が著しく低く、ヘキサフルオロアセトンは全
く生成しない。 比較例 ５ 実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭（クラ
レケミカル(株)製）にAgNO3水溶液を含浸させAg
を1.9重量％担持させた触媒を調製した。水洗後
120℃で乾燥し、反応容器内で500℃で排気して予
備処理し、130℃で180分反応させた結果を第８表
に示す。 比較例 ６ 実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭（クラ
レケミカル(株)製）にNH4VO3の水溶液を含浸さ
せ、Ｖを0.9重量％担持させた触媒を調製し、反
応容器内で550℃で排気して予備処理し、250℃で
50分反応させた結果を第８表に示す。
化率が著しく低く、ヘキサフルオロアセトンは全
く生成しない。 比較例 ５ 実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭（クラ
レケミカル(株)製）にAgNO3水溶液を含浸させAg
を1.9重量％担持させた触媒を調製した。水洗後
120℃で乾燥し、反応容器内で500℃で排気して予
備処理し、130℃で180分反応させた結果を第８表
に示す。 比較例 ６ 実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭（クラ
レケミカル(株)製）にNH4VO3の水溶液を含浸さ
せ、Ｖを0.9重量％担持させた触媒を調製し、反
応容器内で550℃で排気して予備処理し、250℃で
50分反応させた結果を第８表に示す。
【表】
活性炭を担体としても、Ag又はＶはヘキサフ
ルオロアセトンを殆ど生成しない。 ハ 発明の効果 Ru，Rh，Pd，Pt及びIrからなる群から選ばれ
る貴金属を活性炭に担持した触媒を使用すること
により、ヘキサフルオロプロペンを分子状酸素と
からヘキサフルオロアセトンを高い選択率で得る
ことができる。
ルオロアセトンを殆ど生成しない。 ハ 発明の効果 Ru，Rh，Pd，Pt及びIrからなる群から選ばれ
る貴金属を活性炭に担持した触媒を使用すること
により、ヘキサフルオロプロペンを分子状酸素と
からヘキサフルオロアセトンを高い選択率で得る
ことができる。
Claims (1)
- １ Ru，Rh，Pd，Pt及びIrからなる群から選ば
れる貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフル
オロプロペンを分子状酸素と共に接触させること
よりなるヘキサフルオロアセトンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097509A JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097509A JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63264541A JPS63264541A (ja) | 1988-11-01 |
| JPH0455415B2 true JPH0455415B2 (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=14194227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62097509A Granted JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63264541A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102140057B (zh) * | 2010-01-28 | 2013-07-24 | 中国中化股份有限公司 | 一种六氟丙酮的制备方法 |
| CN112457176B (zh) * | 2020-11-25 | 2022-03-29 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 连续生产六氟丙酮的方法 |
-
1987
- 1987-04-22 JP JP62097509A patent/JPS63264541A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63264541A (ja) | 1988-11-01 |
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