JPS63264541A - ヘキサフルオロアセトンの製造方法 - Google Patents
ヘキサフルオロアセトンの製造方法Info
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- JPS63264541A JPS63264541A JP62097509A JP9750987A JPS63264541A JP S63264541 A JPS63264541 A JP S63264541A JP 62097509 A JP62097509 A JP 62097509A JP 9750987 A JP9750987 A JP 9750987A JP S63264541 A JPS63264541 A JP S63264541A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ00発明目的
産業上の利用分野
この発明はエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体
の修飾用モノマー、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロ
プロペン系フッ素ゴムの加硫剤原料、溶媒、その他化学
反応中間体として有用なヘキサフルオロアセトンを製造
する方法に関するものである。
の修飾用モノマー、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロ
プロペン系フッ素ゴムの加硫剤原料、溶媒、その他化学
反応中間体として有用なヘキサフルオロアセトンを製造
する方法に関するものである。
従来の技術
特開昭55−130935号にはヘキサフルオロプロペ
ン(RF P)を、酸化錫、酸化鉄および酸化インジウ
ムからなる群から選ばれた酸化物に接触させてヘキサフ
ルオロアセトン(HF A)を得る方法が記載されてい
るが、この方法における選択率は60%未満で、ワンパ
ス収率は10〜38%程度である。
ン(RF P)を、酸化錫、酸化鉄および酸化インジウ
ムからなる群から選ばれた酸化物に接触させてヘキサフ
ルオロアセトン(HF A)を得る方法が記載されてい
るが、この方法における選択率は60%未満で、ワンパ
ス収率は10〜38%程度である。
発明が解決しようとする問題点
本発明は高い選択率とワンパス収率でヘキサフルオロア
セトンを製造する方法を提供することを目的とする。
セトンを製造する方法を提供することを目的とする。
口9発明の構成
問題点を解決するための手段
本発明によるヘキサフルオロアセトンの製造方法は、R
u 、Rh 、Pd 、Pt及びIrからなる群から選
ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフルオロ
プロペンを分子状酸素と共に接触させることよりなる。
u 、Rh 、Pd 、Pt及びIrからなる群から選
ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフルオロ
プロペンを分子状酸素と共に接触させることよりなる。
本発明において使用する活性炭は、一般に触媒担体用と
して市販されているものを使用できる。
して市販されているものを使用できる。
また活性炭にRu、Rh、Pd、PL及びIrからなる
群から選ばれる貴金属を担持させる方法も1通常用いら
れている方法により行うことができる。またこれらの貴
金属を活性炭に担持させた市原触媒を使用してもよい。
群から選ばれる貴金属を担持させる方法も1通常用いら
れている方法により行うことができる。またこれらの貴
金属を活性炭に担持させた市原触媒を使用してもよい。
Ru 、Rh 、Pd 、Pt及びIrからなる群から
選ばれる貴金属の活性炭に対する担持量は。
選ばれる貴金属の活性炭に対する担持量は。
0.3〜5重量%程度とするのが適当である。
以下本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例1〜6
0.2wt%Pd/活性炭触媒(日本エンゲルハルト−
製)を。
製)を。
■予備処理として反応装置内で130℃で排気したもの
(実施例1)、 ■300℃で排気したもの(実施例2)、■300℃で
排気後120To r rの酸素により130℃で45
分処理し130℃で排気したもの(実施例3)、 0300℃で排気後120Torrの水素により130
℃で45分処理し130℃で排気したもの(実施例4)
、 ■実施例1の触媒を使用後、130℃で排気して再使用
したもの(実施例5)、 ■実施例6で使用した触媒をさらに300℃で排気して
再使用したもの(実施例6) それぞれ0.50gを用い、気相封鎖循環反応装置(容
量0.32f)内で反応初期圧力約258Torr、ヘ
キサフルオロプロペン(RFP)102比= 1 、0
.温度130℃で45分間反応させ、圧力の減少により
反応の進行状況を調べた。
(実施例1)、 ■300℃で排気したもの(実施例2)、■300℃で
排気後120To r rの酸素により130℃で45
分処理し130℃で排気したもの(実施例3)、 0300℃で排気後120Torrの水素により130
℃で45分処理し130℃で排気したもの(実施例4)
、 ■実施例1の触媒を使用後、130℃で排気して再使用
したもの(実施例5)、 ■実施例6で使用した触媒をさらに300℃で排気して
再使用したもの(実施例6) それぞれ0.50gを用い、気相封鎖循環反応装置(容
量0.32f)内で反応初期圧力約258Torr、ヘ
キサフルオロプロペン(RFP)102比= 1 、0
.温度130℃で45分間反応させ、圧力の減少により
反応の進行状況を調べた。
この結果、誘導期約25分を経過した後圧力は次第に減
少し始めた。
少し始めた。
反応生成物の分析はガスクロマトグラフを使用し、I
、R,も併用した。試験結果をif表に示す。
、R,も併用した。試験結果をif表に示す。
予備処理条件により転化率及び選択率は変化するが、7
0〜92%という高い選択率でヘキサフルオロアセトン
が得られる。
0〜92%という高い選択率でヘキサフルオロアセトン
が得られる。
なお一度使用した触媒を再度130℃で加熱排気した場
合(実施例6)は誘導期は認められず、しかもwS1回
目の使用時と同等以上の高活性が認められた。
合(実施例6)は誘導期は認められず、しかもwS1回
目の使用時と同等以上の高活性が認められた。
第1表
実施例7
活性炭(クラレケミカル■製)にPdCu2のlN−H
Cu溶液を含浸させ、水洗後120℃で乾燥し、450
℃で水素還元してPdを5重量%担持させた触媒を調製
した。
Cu溶液を含浸させ、水洗後120℃で乾燥し、450
℃で水素還元してPdを5重量%担持させた触媒を調製
した。
この触媒0.5gを用い、気相封鎖循環反応装置(容罎
o、32文)内で反応初期圧力約258To r r、
HFP102比=1.0、温度130℃で120分反応
させた結果を第2表に示す。
o、32文)内で反応初期圧力約258To r r、
HFP102比=1.0、温度130℃で120分反応
させた結果を第2表に示す。
第2表
比較例1〜3
担体としてS io2.Ti0z又はA文203を使用
し、Pd0文2のIN−HC文溶液を含浸させ、水洗後
120℃で乾燥し、450℃で水素還元してPdを0.
5重量%相持させた触媒を調製した。
し、Pd0文2のIN−HC文溶液を含浸させ、水洗後
120℃で乾燥し、450℃で水素還元してPdを0.
5重量%相持させた触媒を調製した。
これを実施例7と同じ条件で120分反応させた結果を
第3表に示す。
第3表に示す。
第3表
活性炭以外の担体を使用した場合は転化率が著しく低く
、ことに、Al2O5を使用した場合はヘキサフルオロ
アセトンは全く生成しない。
、ことに、Al2O5を使用した場合はヘキサフルオロ
アセトンは全く生成しない。
実施例8〜13
第4表に示す如き日本エンゲルハルト−製の各種市販触
媒それぞれo 、50gを、実施例1〜6で使用した気
相封鎖循環反応装置内で130℃で3時間加熱排気して
予備処理した後、反応初期圧力的258To r r、
HFP102比=1.0、温度130℃で圧力の減少が
殆ど認められなくなるまで反応させた結果を第4表に示
す。
媒それぞれo 、50gを、実施例1〜6で使用した気
相封鎖循環反応装置内で130℃で3時間加熱排気して
予備処理した後、反応初期圧力的258To r r、
HFP102比=1.0、温度130℃で圧力の減少が
殆ど認められなくなるまで反応させた結果を第4表に示
す。
(以下余白)
第4表
いずれも高い選択率とワンパス収率を示している。
実施例14及び15
実施例7の触媒調製法に準じて、活性炭にRuCfLs
またはRhC15の水溶液を含浸させ、水洗後120℃
で乾燥し、500℃で水素還元してRuを5重量%担持
させた触媒(実施例14)及びRhを5重量%担持させ
た触媒(実施例15)を調製した。
またはRhC15の水溶液を含浸させ、水洗後120℃
で乾燥し、500℃で水素還元してRuを5重量%担持
させた触媒(実施例14)及びRhを5重量%担持させ
た触媒(実施例15)を調製した。
これを実施例7と同じ条件で150分反応させた結果を
第5表に示す。
第5表に示す。
第5表
実施例16
実施例7の触媒調製法に準じて、活性炭(クラレケミカ
ル■製)に塩化白金酸の水溶液を含浸させ、水洗後12
0℃で乾燥し500℃で水素還元してPtを5重量%担
持させた触媒を調製した。
ル■製)に塩化白金酸の水溶液を含浸させ、水洗後12
0℃で乾燥し500℃で水素還元してPtを5重量%担
持させた触媒を調製した。
これを実施例7と同じ条件で60分反応させた結果を第
6表に示す。
6表に示す。
(以下余白)
第6表
比較例4
担体としてA1203を使用し、実施例16の触媒調製
法に準じてPtを5重量%担持させた触媒を調製した。
法に準じてPtを5重量%担持させた触媒を調製した。
これを実施例16と同じ条件で150分反応させた結果
を第7表に示す。
を第7表に示す。
第7表
担体として活性炭を使用した実施例16に比し転化率が
著しく低く、ヘキサフルオロアセトンは全く生成しない
。
著しく低く、ヘキサフルオロアセトンは全く生成しない
。
比較例5
実施例7の触媒調製法に準じて、活性炭(クラレケミカ
ル■製)にAgN0:+水溶液を含浸させAgを1.9
重量%担持させた触媒を調製した。
ル■製)にAgN0:+水溶液を含浸させAgを1.9
重量%担持させた触媒を調製した。
水洗後120℃で乾燥し、反応容器内で500℃で排気
して予備処理し、130℃で180分反応させた結果を
第8表に示す。
して予備処理し、130℃で180分反応させた結果を
第8表に示す。
比較例6
実施例7の触媒調製法に準じて活性炭(クラレケミカル
■製)にNH4VO3の水溶液を含浸させ、■を0.9
改賃%担持させた触媒を調製し、反応容器内で550℃
で排気して予備処理し、250℃で50分反応させた結
果を第8表に示す。
■製)にNH4VO3の水溶液を含浸させ、■を0.9
改賃%担持させた触媒を調製し、反応容器内で550℃
で排気して予備処理し、250℃で50分反応させた結
果を第8表に示す。
活性炭を担体としても、Ag又はVはヘキサフルオロア
セトンを殆ど生成しない。
セトンを殆ど生成しない。
ハ7発明の効果
Ru 、Rh 、Pd 、Pt及びIrからなる群から
選ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒を使用すること
により、ヘキサフルオロプロペンを分子状酸素とか−ら
ヘキサフルオロアセトンを高い選択率で得ることができ
る。
選ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒を使用すること
により、ヘキサフルオロプロペンを分子状酸素とか−ら
ヘキサフルオロアセトンを高い選択率で得ることができ
る。
Claims (1)
- Ru、Rh、Pd、Pt及びIrからなる群から選ばれ
る貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフルオロプロ
ペンを分子状酸素と共に接触させることよりなるヘキサ
フルオロアセトンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097509A JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097509A JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63264541A true JPS63264541A (ja) | 1988-11-01 |
| JPH0455415B2 JPH0455415B2 (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=14194227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62097509A Granted JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63264541A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102140057A (zh) * | 2010-01-28 | 2011-08-03 | 中国中化股份有限公司 | 一种六氟丙酮的制备方法 |
| CN112457176A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-03-09 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 连续生产六氟丙酮的方法 |
-
1987
- 1987-04-22 JP JP62097509A patent/JPS63264541A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102140057A (zh) * | 2010-01-28 | 2011-08-03 | 中国中化股份有限公司 | 一种六氟丙酮的制备方法 |
| CN112457176A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-03-09 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 连续生产六氟丙酮的方法 |
| CN112457176B (zh) * | 2020-11-25 | 2022-03-29 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 连续生产六氟丙酮的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0455415B2 (ja) | 1992-09-03 |
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