JPH0455431B2 - - Google Patents

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JPH0455431B2
JPH0455431B2 JP61110095A JP11009586A JPH0455431B2 JP H0455431 B2 JPH0455431 B2 JP H0455431B2 JP 61110095 A JP61110095 A JP 61110095A JP 11009586 A JP11009586 A JP 11009586A JP H0455431 B2 JPH0455431 B2 JP H0455431B2
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JP
Japan
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alkyl
formula
compound
alkylcarbamoyl
halogen
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JP61110095A
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Ikuo Ueda
Yosuke Katsura
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS61267562A publication Critical patent/JPS61267562A/ja
Publication of JPH0455431B2 publication Critical patent/JPH0455431B2/ja
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    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P25/00Drugs for disorders of the nervous system
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 この発明は、新規なオキソチアゾリジン化合物
に関する。さらに詳しくは、この発明は、医薬特
に認識賦活剤として有用な新規オキソチアゾリジ
ン化合物および医薬として許容されるその塩、お
よびその製造法、ならびにそれを含有する医薬組
成物に関する。 従来の技術および発明が解決しようとする問題点 意識障害改善および脳循環代謝障害改善のため
に、従来種々の認識賦活剤(Cognition
activator)またはヌートロピツクス
(Nootropics)と呼ばれる向精神薬が開発されて
いるが、これらの従来の向精神薬はその効力、副
作用等の面で必ずしも満足されるものではなく、
この発明者等はさらに優れた認識賦活作用を有す
る新規化合物の創成を企図した。 発明の構成および効果 この発明のオキソチアゾリジン化合物は、式: [式中、R1は適当な置換基を1個以上有して
いてもよいアロイル、適当な置換基を1個以上有
していてもよいアレーンスルホニル、ピリジルカ
ルボニル、フロイル、テノイルジ(低級)アルキ
ルアミノ(低級)アルキルカルバモイル(低級)
アルキル、アリールカルバモイル(低級)アルキ
ル、アル(低級)アルキルカルバモイル(低級)
アルキル、複素環カルバモイル(低級)アルキ
ル、複素環(低級)アルキルカルバモイル(低
級)アルキル、チアゾリジニルカルボニル(低
級)アルキル、モルホリニルカルボニル(低級)
アルキルまたは式:
【式】(式中、Aは低級 アルキレン、nは0または1の整数、mは2また
は3の整数、Xは=N−、
【式】または=CH −、R2はヒドロキシ、ヒドロキシを有していて
もよい低級アルキル、ハロゲンを有していてもよ
いアル(低級)アルキル、ハロゲンを有していて
もよいアリールチオ、アシルまたは複素環基をそ
れぞれ意味する)で示される基、Yは−S−、
【式】または
【式】をそれぞれ意味する]で 示される。 化合物()の塩としては、フマル酸塩、マレ
イン酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、ヨウ化水素酸
塩、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、安息香酸塩等の
酸付加塩を挙げることができる。 化合物()およびその塩は、例えば下記の製
法で製造することができる。 [式中、R2、A、m、XおよびYはそれぞれ
前と同じ意味であり、Raはジ(低級)アルキル
アミノ(低級)アルキルアミノ、アリールアミ
ノ、アル(低級)アルキルアミノ、複素環アミ
ノ、複素環(低級)アルキルアミノ、チアゾリジ
ニル、モルホリニルまたは式:
【式】(式中、R2、Xおよびmは 各々それぞれ前と同じ意味)R1 bは適当な置換基
を1個以上有していてもよいアロイル、適当な置
換基を1個以上有していてもよいアレーンスルホ
ニル、ピリジルカルボニル、フロイル、テノイ
ル、Y1
【式】または
【式】Zは酸残基を それぞれ意味する] 出発化合物()および()は新規化合物で
あり、例えば下記の製法で製造することができ
る。 [上記式中、AおよびZはそれぞれ前と同じ意
味、Vは保護されたカルボキシ、ZaおよびZbはそ
れぞれ酸残基を意味する。] 化合物()は、既知の化合物であり、その製
造法は薬学雑誌、第76巻、第73頁(1955年)に記
載されている。 化合物()および()の塩としては、例え
ば水素化リチウム等のアルカリ金属水素化物、例
えばブチルリチウム等のアルキルアルカリ金属、
例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属水酸化物、トリメチルアミン、N,N
−ジシクロヘキシルアミン等のような無機または
有機塩基との塩を挙げることができる。 化合物(Ia)、(Ib)、(Id)、(Ie)、()、お

び()の塩としては、化合物()の医薬とし
て許容される塩の説明において例示したような無
機または有機酸付加塩を挙げることができる。 この明細書の前記および以下の記載における
種々の定義の適切な例示を、以下に詳しく述べ
る。 「低級」とは、炭素原子1〜6個を意味するも
のである。 「アシル」とは、有機カルボン酸、有機スルホ
ン酸、有機カルバミン酸、有機炭酸のような有機
酸の残基を挙げることができる。 適切な「アシル」としては、例えばメトキシ、
エトキシ、プロポキシ等の低級アルコキシ、例え
ばフツ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、例
えばメチル、エチル等の低級アルキル、例えばト
リフルオロメチル等のトリハロメチルのような適
当な置換基を1個以上有していてもよい例えばベ
ンゾイル、ナフトイル等のアロイル;例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ等の低級アルコキシ
および例えばフツ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハ
ロゲンのような適切な置換基を1個以上有してい
てもよい例えばベンゼンスルホニル、トルエンス
ルホニル等のアレーンスルホニル;例えばピリジ
ルカルボニル、フロイル、テノイル等の複素環カ
ルボニル等を挙げることができる。 「ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アルキル
カルバモイル(低級)アルキル」、「アリールカル
バモイル(低級)アルキル」、「アル(低級)アル
キルカルバモイル(低級)アルキル」、「複素環カ
ルバモイル(低級)アルキル」、「複素環(低級)
アルキルカルバモイル(低級)アルキル」、「チア
ゾリジニルカルボニル(低級)アルキル」、「モル
ホリニルカルボニル(低級)アルキル」、「低級ア
ルキル」および「ジ(低級)アルキルアミノ(低
級)アルキルアミノ」における「低級アルキル」
としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブ
チル、ペンチル、ヘキシル等を挙げることができ
る。 「アリールカルバモイル(低級)アルキル」、
「アリールチオ」および「アリールアミノ」にか
ける「アリール」としては、フエニル、トリル、
キシリル、ナフチル等を挙げることができる。 「アル(低級)アルキルカルバモイル(低級)
アルキル」、「アル(低級)アルキル」および「ア
ル(低級)アルキルアミノ」の適切な「アル(低
級)アルキル」としては、ベンジル、ジフエニル
メチル、トリチル、フエネチル等のようなモノ
(またはジまたはトリ)フエニル(低級)アルキ
ルを挙げることができる。 「複素環カルバモイル(低級)アルキル」、「複
素環(低級)アルキルカルバモイル(低級)アル
キル」、「複素環基」、「複素環アミノ」および「複
素環(低級)アルキルアミノ」の適切な「複素
環」基としては、酸素、硫黄、窒素原子のような
ヘテロ原子を少くとも1個含有する飽和または不
飽和、単環または多環複素環基を挙げることがで
きるが、好ましい「複素環基」は、フリル、ピリ
ジル、等のような酸素または窒素原子を含有する
5〜6員複素単環基、およびインドリル等のよう
な窒素原子を含有するベンゼン融合複素環基が挙
げられる。 「低級アルキレン」としては、メチレン、メチ
ルメチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレ
ン、エチルエチレン、テトラメチレン、ペンタメ
チレン、ヘキサメチレン等を挙げることができ
る。 「ハロゲン」としては、フツ素、塩素、臭素お
よびヨウ素を挙げることができる。 適切な「酸残基」としては、例えばフツ素、塩
素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、アレーンスルホ
ニル等を挙げることができる。 「保護されたカルボキシ」としては、例えばメ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブ
トキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコキ
シカルボニル等のようなエステル化されたカルボ
キシを挙げることができる。 目的化合物()の好ましい実施態様は以下の
とおりである。 R1の好ましい実施態様は、適当な置換基を1
個以上有していてもよいアロイル[最も好ましく
は、低級アルコキシ、ハロゲン、低級アルキルお
よびトリハロメチルより選択される置換基を1ま
たは2個有していてもよいベンゾイル]、適当な
置換基を1個以上有していてもよいアレーンスル
ホニル[最も好ましくは、低級アルコキシを有し
ていてもよいベンゼンスルホニル]および複素環
カルボニル[最も好ましくは、ピリジルカルボニ
ル、フロイルおよびテノイル]、ジ(低級)アル
キルアミノ(低級)アルキルカルバモイル(低
級)アルキル、アリールカルバモイル(低級)ア
ルキル(より好ましくは、フエニルカルバモイル
(低級)アルキルおよびキシリルカルバモイル
(低級)アルキル]、アル(低級)アルキルカルバ
モイル(低級)アルキル[より好ましくは、フエ
ニル(低級)アルキルカルバモイル(低級)アル
キル]、複素環カルバモイル(低級)アルキル
[より好ましくは、ピリジルカルバモイル(低級)
アルキル]、複素環(低級)アルキルカルバモイ
ル(低級)アルキル[より好ましくは、フリル
(低級)アルキルカルバモイル(低級)アルキ
ル]、チアゾリジニルカルボニル(低級)アルキ
ル、モルホリニルカルボニル(低級)アルキル、
または式: (式中、Aは低級アルキレン、nは0または1
の整数、mは2または3の整数、Xは=N−、
【式】または=CH−、R2はヒドロキシ、ヒド ロキシを有していてもよい低級アルキル、ハロゲ
ンを有していてもよいアル(低級)アルキル[よ
り好ましくは、ハロゲンを有していてもよいモノ
(またはジ)フエニル(低級)アルキル]、ハロゲ
ンを有していてもよいアリールチオ[より好まし
くは、ハロゲンを有していてもよいフエニルチ
オ]、アシル[より好ましくはアロイル[最も好
ましくはベンゾイル]およびハロゲンを有してい
てもよいアレーンスルホニル[最も好ましくはハ
ロゲンを有していてもよいベンゼンスルホニル]]
または複素環基[より好ましくはインドリル]; Yは−S−、
【式】または
【式】である) で示される基である。 以下に、上記で示した製造法および調製法をさ
らに詳しく説明する。 製造法1: 目的化合物(Ia)またはその塩は、化合物
()またはそのカルボキシ基における反応性誘
導体またはその塩を、化合物()またはそのア
ミノ基における反応性誘導体またはその塩と反応
させることによつて製造することができる。 化合物()のカルボキシ基における反応性誘
導体としては、例えば酸塩化物、酸臭化物等の酸
ハロゲン化物、酸無水物、酸アジド、活性アミド
または例えばコハク酸イミドエステル等の活性エ
ステル等を挙げることができる。 化合物()のアミノ基における反応性誘導体
としては、化合物()を例えばビス(トリメチ
ルシリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセ
トアミド等のシリル化合物と反応させることによ
つて生成されるシリル誘導体を挙げることができ
る。 出発化合物()が遊離酸の形で用いられる場
合は、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド等
の慣用の縮合剤の存在下に反応を行うことが好ま
しい。 反応は、通常、無溶媒またはN,N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒ
ドロフラン、ジクロロメタン、クロロホルム、ト
ルエン、キシレン、ピリジンまたはその混合物の
ような反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われ
る。 反応は、また、例えばナトリウム等のアルカリ
金属、例えばカルシウム等のアルカリ土類金属、
例えば水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の
アルカリまたはアルカリ土類金属水素化物、例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カ
ルシウム等のアルカリまたはアルカリ土類金属水
酸化物、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム等のアルカリまたはアルカリ
土類金属炭酸塩または炭酸水素塩、例えばナトリ
ウムエトキシド、リチウムメトキシド、マグネシ
ウムメトキシド等のアルカリまたはアルカリ土類
金属アルコキシド、例えばトリエチルアミン等の
トリアルキルアミン、、ピリジン、例えば1,5
−ジアザビシクロ[3,4,0]ノネン−5,
1,5−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセ
ン−5等のビシクロジアザ化合物等のような有機
または無機塩基の存在下でも行うことができる。 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加熱
下の範囲で反応を行うことができる。 製造法2: 化合物(Ib)またはその塩は、化合物()を
化合物()またはその塩と反応させることによ
つて製造することができる。 反応は、通常、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルム等のような反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒中で行われる。 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加熱
下の範囲でこの反応を行うことができる。 製造法3: 化合物(Ic)は、化合物()またはその塩を
アシル化剤と反応させることによつて製造するこ
とができる。 この反応に用いるアシル化剤としては、有機酸
[すなわちR1 bが適当な置換基を1個以上有してい
てもよいアロイル、適当な置換基を1個以上有し
ていてもよいアレーンスルホニル、ピリジルカル
ボニル、フロイル、テノイルであるR1 bOH(X)]
およびその反応性誘導体が挙げられる。 化合物(X)の適切な反応性誘導体としては、
例えば酸塩化物、酸臭化物等の酸ハロゲン化物、
酸アジト、酸無水物、活性アミド、活性エステ
ル、イソシアネート等の慣用のものが挙げられ
る。 遊離酸がアシル化剤として用いられる場合は、
慣用の縮合剤の存在下に、アシル化反応を行うこ
とが好ましい。 反応は、通常、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラ
ン、ジクロロメタン、クロロホルム、ピリジンま
たはその混合物のような反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒中で行われる。 また製造法1の説明で例示したような有機また
は無機塩基の存在下でも反応を行うことができ
る。 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加熱
下の範囲で、この反応は行われる。 製造法4: 化合物(Ie)またはその塩は、化合物(Id)ま
たはその塩を酸化することによつて製造すること
ができる。 酸化は、通常、例えばm−クロロ過安息香酸、
過酸化水素等の複素環中の硫黄原子の酸化に用い
られる酸化剤を使用して行われる。 反応は、通常、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラ
ン、ジクロロメタン、クロロホルム、ピリジンま
たはその混合物のような反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒中で行われる。 反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加温
下の範囲で、反応は行われる。 調製法1: 化合物()は、化合物()またはその塩
を、化合物()と反応させることによつて製造
することができる。 この反応の反応条件は、前記製造法2の条件と
実質的には同じである。 調製法2: 化合物()またはその塩は、化合物()を
カルボキシ保護基の除去反応に付すことによつて
製造することができる。 この製法の除去反応としては、加水分解等の慣
用のカルボキシ保護基除去反応を挙げることがで
きる。 加水分解は、例えば塩酸、硫酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸等の無機または有機酸、または水酸化
ナトリウム等の無機または有機塩基の存在下に行
うことが好ましい。 反応は、通常、水、メタノール、エタノール、
プロパノール、酢酸等のような反応に悪影響を及
ぼさない溶媒中、冷却下ないし加熱下の範囲で行
われる。 調製法3: 化合物()は、化合物()またはその塩を
化合物()と反応させることによつて製造する
ことができる。 この反応の反応条件は、製造法2で例示した条
件と実質的には同じである。 前記製造法および調製法の目的化合物は、反応
混合物より分離、精製し、常法により所望の塩に
転換することができる。 この発明の目的化合物()およびその塩は、
薬剤として有用であり、とりわけ、老人性痴呆
症、記憶喪失症、意識障害および健忘症等の患者
の治療に有用である認識賦活剤として有用であ
る。さらに、目的化合物()はある種の学習不
能患者の治療に有用である。 この発明の化合物()の薬理学的作用を示す
ために、下記の試験を示す。 試験例(電撃シヨツク痙攣誘発健忘に対する化合
物()の作用) 実験方法: 動物は体重30−35gのddy系雄性マウス(6週
令)を1群20匹として使用した。 装置はstep−through型受動的回避実験箱を使
用した。この実験箱は同じ寸法をしたV型の2つ
の部屋(明室、暗室)から成り立つており、それ
ぞれの部屋はギロチンドアで仕切られている。 実験箱の1つの部屋のサイズは床面4cm、天井
面10cm、高さ10cm、奥行き14cmとした。明室はす
べて透明のプラスチツク製とし、または暗室はす
べて黒色の不透明なプラスチツク製とした。また
明室の証明には上方約10cmより60Wの白熱球を使
用した。それぞれの部屋の床には直径2mmのステ
ンレススチール製の棒で5mm間隔のグリツドが施
されており、その暗室の床のグリツドにシヨツク
ジエネレータ(小原医科産業製)を用いて定電圧
の交流電流を通じ、動物の足に電気シヨツクが入
るようにした。 獲得試行としては、まず動物を明室に置き30秒
間慣らせてからギロチンドアを開け、その後動物
が暗室に四肢を総て入れた時ギロチンドアを閉
じ、それから3秒後に60Vの電気シヨツクを3秒
間与えた。ギロチンドアを開けてから明室に逃げ
てきたマウスは実験箱から出し、直ちに両耳より
電撃シヨツク痙攣(22mA,0.3秒)を与えた後試
験化合物を経口投与した。 また、試験化合物は再生テストを行う1時間前
にも経口投与した。 再生テストは24時間後に動物が暗室に入つた時
電気シヨツクを与えないという点だけを除き、後
は獲得試行の時と同様の方法で行つた。そこで動
物が暗室に入るまでの潜時を測定し、もしも動物
が300秒経過しても暗室に入らない時はその時点
で再生テストを終了した。 試験化合物は0.5%メチルセルロース水溶液に
懸濁した。 試験化合物:
【表】 結 果: 電撃シヨツク痙攣誘発健忘に対する薬物の作用
を表1に示した。 獲得試行後、動物に電撃シヨツク痙攣を与える
と完璧に健忘を生じた。一方、試験化合物は有意
に電撃シヨツク痙攣誘発健忘を抑制した。すなわ
ち、これらの化合物を投与することにより受動回
避反応の減少した反応潜時を増加させた。
【表】 急性毒性: 6週令のICR系雄マウスに上記試験化合物1ま
たは2を含む0.5%メチルセルロース懸濁液を経
口投与して5日間観察した結果、各試験化合物の
LD50値は1000mg/Kg以上であつた。 目的化合物()または医薬として許容される
その塩は、通常、ヒトを含む哺乳動物に、カプセ
ル、マイクロカプセル、錠剤、顆粒、粉末、トロ
ーチ、シロツプ、エアゾール剤、吸入剤、液剤、
注射剤、懸濁剤、乳剤、坐剤、軟膏剤等のような
慣用の医薬組成物の形で投与することができる。 この発明の医薬組成物は、例えばスクロース、
でん粉、マンニツト、ソルビツト、ラクトース、
グルコース、セルロース、タルク、リン酸カルシ
ウム、炭酸カルシウム等の賦形剤、例えばセルロ
ース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース、ポリプロピルピロリドン、ゼラチン、
アニビアゴム、ポリエチレングリコール、スクロ
ース、でん粉等の結合剤、例えばでん粉、カルボ
キシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ースのカルシウム塩、ヒドロキシプロピルスター
チ、グリコールナトリウム−スターチ、炭酸水素
ナトリウム、リン酸カルシウム、クエン酸ナトリ
ウム等の崩壊剤、例えばステアリン酸マグネシウ
ム、タルク、ラウリル硫酸ナトリウム等の滑沢
剤、例えばクエン酸、メントール、グリシン、オ
レンジ粉末等の喬味剤、例えば安息香酸ナトリウ
ム、亜硫酸水素ナトリウム、メチルパラベン、プ
ロピルパラベン等の保存剤、例えばクエン酸、ク
エン酸ナトリウム、酢酸等の安定化剤、例えばメ
チルセルロース、ポリビニルピロリドン、ステア
リン酸アルミニウム等の懸濁化剤、分散剤、例え
ば水等の水性希釈剤、例えばカカオバター、ポリ
エチレングリコール、白色ワセリン等の基材ワツ
クスのような製剤化に通常用いられる種々の有機
または無機の担体を含有することができる。 この有効成分の投与量は、患者の体重、年令お
よび/または疾患の種類、さらには投与経路のよ
うな種々の要因に応じて変化するものである。一
般的に、最適投与量は、経口投与では1日約2−
1000mg、筋注ないし静注では1日約1〜250mgの
範囲から選択することができる。 上記の1日用量は、6〜12時間間隔に分けて患
者に投与してもよい。この有効成分の好ましい1
回投与量は、例えば錠剤またはカプセル剤1個当
り約1〜300mg、1バイアルまたは1アンプル当
り約1〜250mg等であればよい。 この発明の目的化合物()の製造に用いられ
る出発化合物の調製法を調製例により詳細に説明
する。 調製例 1 4−オキソチアゾリジン(50g)のテトラヒド
ロフラン(900ml)溶液を、水素化ナトリウム
(鉱油中69%分散、22.6g)のテトラヒドロフラン
(850ml)中懸濁液に室温で滴下し、混合物を還流
温度迄加温する。混合物をさらに30分間還流した
後、ブロム酢酸エチル(60ml)を同条件で滴下す
る。混合物をさらに1時間還流し、冷却する。不
溶物を濾去する。濾液を減圧下に蒸発させ、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイにかけクロ
ロホルムで溶出して、4−オキソ−3−チアゾリ
ジニル酢酸エチル(78.5g)を淡褐色の粉末とし
て得る。 融点:35〜39℃ IR(ヌジヨール):1700,1635cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.28(3H,t,J=7.5
Hz),3.58 (2H,t,J=1.0Hz),4.12(2H,s),
4.22(2H,q,J=7.5Hz)と4.48(2H,
q,J=1.0Hz) 調製例 2 調製例1の方法に準じて、下記の化合物を製造
する。 (1) 3−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)プ
ロピオン酸エチル、無色の油状物。 IR(ヌジヨール):1720,1660cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.28(3H,t,J=7
Hz),2.62(2H,t,J=7Hz),3.57(2H,
t,J=1Hz),3.67(2H,t,J=7
Hz),4.18(2H,q,J=7Hz),と4.48
(2H,t,J=1Hz) (2) 2−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)プ
ロピオン酸エチル、無色の油状物。 IR(フイルム):1725,1670cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.28(3H,t,J=7.5
Hz),1.49(3H,d,J=7.5Hz),3.57
(2H,t,J=1.0Hz),4.19(2H,q,J
=7.5Hz),4.39(1H,d,J=11.0Hz),
4.51(1H,d,J=11.0Hz)と4.89(1H,
q,J=7.5Hz) 調製例 3 2−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)プロ
ピオン酸エチル(2.60g)の1N水酸化ナトリウム
水溶液(12.8ml)とメタノール(64ml)との混液
中溶液を、室温で2時間攪拌する。溶媒を減圧下
に蒸発させた後、残渣に1N塩酸(19.2ml)を加
え、混合物を数分間攪拌する。混合物を濃縮乾固
した後、残渣をテトラヒドロフラン(50ml)と混
合し、得られる不溶固体を濾去する。 濾液を減圧下に蒸発させ、2−(4−オキソ−
3−チアゾリジニル)プロピオン酸(2.25g)を
淡黄色の半固体状物として得る。 IR(ヌジヨール):1715,1660−1680cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.52(3H,d,J=7.5
Hz),3.65(2H,s),4.44(1H,d,J=
11.0Hz),4.56(1H,d,J=11.0Hz),4.93
(1H,q,J=7.5Hz)と9.85(1H,s) 調製例 4 4−オキソチアゾリジン(3.00g)のテトラヒ
ドロフラン(40ml)溶液を、水素化ナトリウム
(鉱油中60%分散、1.28g)のテトラヒドロフラン
(30ml)中懸濁液に、室温で攪拌しながら滴下す
る。3−ブロモ−1−クロロプロパン(3.15ml)
を還流下に滴下し、混合物を9時間還流させる。
得られる沈殿物を濾去し、濾液を減圧下に蒸発さ
せる。残渣を塩基性アルミナクロマトグラフイに
かけ、酢酸エチル次いでトルエン−酢酸エチル混
液(10:1)で溶出して、3−(3−クロロプロ
ピル)−4−オキソチアゾリジン(2.60g)を無色
の油状物として得る。 IR(フイルム):1760,1650cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.07(2H,q,J=7
Hz),3.55(2H,t,J=7Hz),3.57(2H,
t,J=7Hz),3.58(2H,S),と4.43
(2H,t,J=1Hz) 調製例 5 調製例3の方法に準じて、下記の化合物を製造
する。 4−オキソ−3−チアゾリジニル酢酸 融点:176〜178℃ IR(ヌジヨール):1880,1735(肩),1705,
1690cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.53(2H,t,J=
1.5Hz),4.03(2H,s)と4.43(2H,t,
J=1.5Hz) 調製例 6 塩化チオニル(2.00ml)を、4−オキソ−3−
チアゾリジニル酢酸(1.60g)のジクロロメタン
(20ml)−テトラヒドロフラン(5.0ml)混液中溶
液に、室温で滴下する。混合物を同温度で5時間
攪拌し、溶媒を減圧下に蒸発させて、4−オキソ
−3−チアゾリジニルアセチルクロリド(1.78g)
を褐色の半固体状物として得る。 IR(ヌジヨール):1770,1710,1650cm-1 次に、実施例によりこの発明を説明する。 実施例 1 4−オキソ−3−チアゾリジニル酢酸エチル
(25.0g)と1−ジフエニルメチルピペラジン
(67.0g)との混合物を、135℃に15時間保つ。反
応混合物を塩基性アルミナクロマトグラフイにか
け、トルエン−酢酸エチル混液(20:1)で溶出
し、淡褐色の粉末(46.4g)を得、これをエタノ
ール−n−ヘキサン混液より再結晶して、1−
(4−オキソ−3−チアゾリジニル)アセチル−
4−ジフエニルメチルピペラジン(30.7g)を微
褐色のプリズム晶として得る。 融点:147〜148℃ IR(ヌジヨール):1670(肩),1660cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):2.10−2.38(4H,
m),3.37−3.63(6H,m),4.13(2H,
s),4.32(1H,s),4.37(2H,s),と
7.07−7.52(10H,m) 実施例 2 実施例1の方法に準じて、下記の化合物を製造
する。 (1) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−ベンジルピペラジン、微褐色のプ
リズム晶。 融点:136〜137℃(酢酸エチル−n−ヘキサン
混液より再結晶) IR(ヌジヨール):1685,1665,1645cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.36−2.53(4H,m),
3.40−3.70(4H,m),3.53(2H,s),3.58
(2H,t,J=1Hz),4.18(2H,s),
4.52(2H,t,J=1Hz),と7.32(5H,
s) (2) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−イソプロピルピペラジン、微褐色
のプリズム晶。 融点:126〜128℃(酢酸エチル−n−ヘキサン
混液より再結晶) IR(ヌジヨール):1675,1650cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.04(6H,d,J=6.5
Hz),2.50(4H,t,J=5.0Hz),2.59
(1H,m,J=6.5Hz),3.52(4H,t,J
=5.0Hz),3.57(2H,t,J=1.0Hz),4.18
(2H,s)と4.52(2H,t,J=1.0Hz) (3) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−メチルピペラジン・モノマレイン
酸塩、淡褐色の結晶。 融点:146〜148℃(エタノールより再結晶) IR(ヌジヨール):1660,1650cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):2.82(3H,s),3.05
−3.32(4H,m),3.53(2H,t,J=1
Hz),3.60−3.78(4H,m),4.28(2H,
s),4.38(2H,t,J=1Hz),6.10(2H,
s)と12.00(2H,br s) (4) 1−[3−(4−オキソ−3−チアゾリジニ
ル)プロピオニル]−4−ジフエニルメチルピ
ペラジン、微黄褐色のプリズム晶。 融点:184〜185℃(エタノール−酢酸エチル混
液より再結晶) IR(ヌジヨール):1665,1635cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.28−2.45(4H,m),
2.58(3H,t,J=6Hz),3.35−3.72
(8H,m),4.25(1H,s),4.48(2H,t,
J=1Hz)と7.08−7.48(10H,m) (5) 1−[2−(4−オキソ−3−チアゾリジニ
ル)プロピオニル]−4−ジフエニルメチルピ
ペラジン、微褐色のプリズム晶。 融点:151〜152℃ IR(ヌジヨール):1670,1640cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.33(3H,d,J=7
Hz),2.40−2.48(4H,m),3.37−3.68
(6H,m),4.20(1H,s),4.40(2H,t,
J=1Hz),5.11(1H,q,J=7Hz)と
7.08−7.48(10Hm) (6) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−ヒドロキシピペリジン、無色プリ
ズム晶。 融点:153〜155℃(エタノールより再結晶) IR(ヌジヨール):3380,3320,1670,1635,
1610cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.03−2.00(4H,
m),2.75−4.00(5H,m),3.50(2H,t,
J=1Hz),4.17(2H,s),4.38(2H,t,
J=1Hz)と4.68(1H,d,J=4Hz) (7) N−[2−(ジイソプロピルアミノ)エチル]
−4−オキソ−3−チアゾリジニルアセトアミ
ド・3/4フマル酸塩、微褐色のプリズム晶。 融点:152〜154℃(エタノール−n−ヘキサン
混液より再結晶) IR(ヌジヨール):3175,2400,1690,1670cm-
NMR(DMSO−d6,δ):1.08(12H,d,J=6
Hz),2.64−2.79(2H,m),2.96−3.38
(4H,m),3.51(2H,t,J=1Hz),
3.91(2H,s),4.42(2H,t,J=1Hz),
6.49(3/2H,s),8.04(3H,br s)と
8.41(1H,t,J=6Hz) 実施例 3 2−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)プロ
ピオン酸(2.00g)、2,6−ジメチルアニリン
(1.38g)、ジシクロヘキシルカルボジイミド
(2.35g)のクロロホルム(15ml)中混合物を48時
間還流する。得られる沈殿を濾去し、濾液を減圧
下に蒸発させる。残渣をジエチルエーテルで摩砕
し、エタノールより再結晶して、N−(2,6−
ジメチルフエニル)−2−(4−オキソ−3−チア
ゾリジニル)プロピオンアミド(1.45g)を無色
のプリズム晶として得る。 融点:153〜154℃ IR(ヌジヨール):3260,1660cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.49(3H,d,J=
7.5Hz),2.12(6H,s),3.55(2H,t,J
=1.0Hz),4.53(1H,d,J=9.0Hz),4.66
(1H,d,J=9.0Hz),4.83(1H,q,J
=7.5Hz),7.05(3H,s)と9.35(1H,br
s) 実施例 4 トリエチルアミン(2.13ml)を、3−(3−ク
ロロプロピル)−4−オキソチアゾリジン
(2.50g)、1−ジフエニルメチルピペラジン
(3.86g)、ヨウ化カリウム(2.54g)のN,N−ジ
メチルホルムアミド(25ml)中混合物に、室温で
攪拌下に加え、混合物を45℃で15時間加温する。
溶媒を減圧下に蒸発させ、残渣を水(50ml)と混
合し、ジクロロメタン(40ml)で抽出する。抽出
液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に蒸発させる。残渣をエタノール−ジエチルエヘ
ーテル混液で摩砕し、淡褐色の粉末(2.80g)を
得、これをメタノールより再結晶して、1−[3
−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)プロピル]
−4−ジフエニルメチルピペラジン・モノヨウ化
水素酸塩(1.80g)を無色のプリズム晶として得
る。 融点:216〜217℃ IR(ヌジヨール):1665cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.63−2.17(2H,
m),2.20−3.35(12H,m),3.52(2H,
s),4.45(2H,s),4.53(1H,s),と
7.15−7.53(10H,m) 実施例 5 4−メトキシベンゾイルクロリド(20.7g)の
テトラヒドロフラン(50ml)溶液を、4−オキソ
チアゾリジン(12.5g)とトリエチルアミン
(16.9ml)のテトラヒドロフラン(200ml)中混合
物に、−5℃で攪拌下に滴下する。混合物を同温
度で3時間、室温で4時間攪拌し、一夜放置す
る。溶媒を減圧下に蒸発させ、残渣を水と混合
し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液次いで水で洗い、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。残渣を酢
酸エチル−n−ヘキサン混液より再結晶して、3
−(4−メトキシベンゾイル)−4−オキソチアゾ
リジン(18.1g)を微褐色のプリズム晶として得
る。 融点:123〜124℃ IR (ヌジヨール):1730,1650cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.63(2H,s),3.80(3H,
s),4.83(2H,s),6.86(2H,d,J=
8.5Hz)と7.61(2H,d,J=8.5Hz) 実施例 6 実施例5の方法に準じて、下記の化合物を製造
する。 3−(2−メトキシベンゾイル)−4−オキソチ
アゾリジン、微黄褐色のプリズム晶。 融点:90〜91℃ IR(ヌジヨール):1730,1645cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.59(2H,s),3.75(3H,
s),4.88(2H,s),と6.78−7.53(4H,
m) 実施例 7 4−オキソ−3−チアゾリジニルアセチルクロ
リド(1.75g)のテトラヒドロフラン(5.00ml)
溶液を、3−(4−ピペリジル)インドール
(2.00g)とトリエチルアミン(4.10ml)のテトラ
ヒドロフラン(15.0ml)−クロロホルム(5.00ml)
混液中の懸濁液に、4〜7℃で攪拌しながら滴下
するる。混合物を氷浴冷却下で1時間攪拌した
後、得られた沈殿を濾去し、濾液を減圧下に蒸発
させる。残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
(10.0ml)と混合し、混合物をクロロホルム
(20.0ml)で抽出する。抽出液を水洗し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に蒸発させる。残渣
をメタノール−アセトン混液より再結晶して、4
−(3−インドリル)−1−[(4−オキソ−3−チ
アゾリジニル)アセチル]ピペリジン(0.92g)
を微褐色のプリズム晶として得る。 融点:174〜175℃ IR(ヌジヨール):3175,1645,1625cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.37−2.20(4H,
m),2.73−4.03(5H,m),3.58(2H,t,
J=1Hz),4.28(2H,s),4.48(2H,t,
J=1Hz),6.87−7.70(5H,m)と10.87
(1H,br s) 実施例 8 塩化チオニル(1.82ml)を、4−オキソ−3−
チアゾリジニル酢酸(1.45g)のジクロロメタン
(18.2ml)−テトラヒドロフラン(5.00ml)混液中
溶液に、室温で滴下する。混合物を5時間攪拌し
た後、溶媒を減圧下に蒸発させ褐色の半固体状物
を得る。この半固体状物のテトラヒドロフラン
(5.00ml)溶液を、1−(4−フルオロフエニルス
ルホニル)ピペラジン(2.00g)とトリエチルア
ミン(2.49ml)のテトラヒドロフラン(10.0ml)
中混合物に、0℃で攪拌しながら滴下する。混合
物を同温度でさらに1時間攪拌する。溶媒を減圧
下に蒸発させ、残渣を酢酸エチル(15.0ml)およ
び水(15.0ml)と混合する。得られる不溶物を濾
取し、アセトン−メタノール混液より再結晶し
て、1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−(4−フルオロフエニルスルホニル)
ピペラジンを微褐色の針状晶として得る。 融点:201〜202℃ IR (ヌジヨール):1680(肩)、1665,1350,
1170,1155cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):2.83−3.14(4H,
m),3.43−3.69(6H,m),4.18(2H,
s),4.35(2H,s)と7.30−7.93(4H,
m) 実施例 9 実施例8の方法に準じて、下記の化合物を製造
する。 (1) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−ベンゾイルピペリジン(酢酸エチ
ル−n−ヘキサン混液より再結晶) 融点:142〜143℃ IR(ヌジヨール):1670,1655(肩),1645cm-1 NMR(CDCl3,δ):1.57−2.17(4H,m),
2.73−4.47(5H,m),3.62(2H,t,J=
1Hz),4.25(2H,d,J=2Hz),4.58
(2H,t,J=1Hz)と7.32−8.07(5H,
m) (2) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−(2−フルオロフエニルチオ)ピ
ペリジン(酢酸エチル−n−ヘキサン混液より
再結晶) 融点:99〜100℃ IR(ヌジヨール):1670,1645cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.03−2.17(4H,
m),2.67−4.08(4H,m),3.52(2H,t,
J=1Hz),4.20(2H,s),4.40(2H,t,
J=1Hz)と7.03−7.67(4H,m) (3) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−(2−フルオロフエニルスルホニ
ル)ピペリジン(エタノールより再結晶) 融点:150〜151℃ IR(ヌジヨール):1680,1660,1325,1150cm-
NMR(DMSO−d6,δ):1.07−2.13(4H,
m),2.67−4.10(5H,m),3.53(2H,t,
J=1Hz),4.22(2H,s),4.40(2H,t,
J=1Hz)と7.33−8.05(4H,m) (4) 3−(4−オキソ−3−チアゾリジニルアセ
チル)チアゾリジン(酢酸エチル−n−ヘキサ
ン混液より再結晶) 融点:106〜107℃ IR(ヌジヨール):1675,1650cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.12(2H,t,J=
7Hz),3.55(2H,t,J=1.5Hz),3.73
(2H,t,J=7Hz),4.23(2H,s),
4.43(2H,t,J=1.5Hz)と4.48−4.65
(2H,m) (5) N−フエニル−4−オキソ−3−チアゾリジ
ニルアセトアミド(アセトン−メタノール混液
より再結晶) 融点:218〜219℃ IR(ヌジヨール):1680(肩),1660cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.55(2H,t,J=
1Hz),4.15(2H,s),4.50(2H,t,J
=1Hz),6.87−7.63(5H,m)と10.05
(1H,br s) (6) N−(3−ピリジル)−4−オキソ−3−チア
ゾリジニルアセトアミド(メタノール−N,N
−ジメチルホルムアミド混液より再結晶) 融点:205〜206℃ IR(ヌジヨール):3310,3275,3180,3125,
3075,1690,1650cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.60(2H,t,J=
1.5Hz),4.23(2H,s),4.57(2H,t,J
=1.5Hz),7.36(1H,dd,J=8Hzと4
Hz),8.03(1H,d,t,J=8Hzと2
Hz),8.30(1H,d,J=2Hz),8.77(1H,
d,J=2Hz)と10.33(1H,s) (7) N−ベンジル−4−オキソ−3−チアゾリジ
ニルアセトアミド(エタノール−酢酸エチルよ
り再結晶) 融点:139〜140℃ IR(ヌジヨール):1660,1645cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.58(2H,t,J=
1.5Hz),4.06(2H,s),4.34(2H,d,J
=6Hz),4.51(2H,t,J=1.5Hz),7.33
(5H,s)と8.50(1H,t,J=6Hz) (8) N−フルフリル−4−オキソ−3−チアゾリ
ジニルアセトアミド(酢酸エチルより再結晶) 融点:124〜125℃ IR(ヌジヨール):1650cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.48(2H,t,J=
1.5Hz),3.93(2H,s),4.25(2H,d,J
=5.5Hz),4.42(2H,t,J=1.5Hz),6.15
−6.38(2H,m),7.45−7.53(1H,m)と
8.43(1H,t,J=5.5Hz) 実施例 10 実施例1の方法に準じて、下記の化合物を製造
する。 (1) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−[α−(4−クロロフエニル)ベン
ジル]ピペラジン・モノ蓚酸塩(アセトン−ジ
エチルエーテル混液より再結晶) 融点:117〜126℃ IR(ヌジヨール):1720,1660cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):2.18−2.40(4H,
m),3.32−3.63(4H,m),3.52(2H,
s),4.17(2H,s),4.38(2H,s),4.43
(1H,s),7.22−7.60(9H,m)と9.25
(2H,br s) (2) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−(2−ヒドロキシ)エチルピペラ
ジン・モノ塩酸塩(エタノール−ジエチルエー
テル混液より再結晶) 融点:>128℃ IR(ヌジヨール):3460,1650(肩),1630cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):2.83−4.07(8H,
m),3.18(2H,t,J=5Hz),5.30(2H,
s),3.82(2H,t,J=5Hz),4.30(2H,
s),4.39(2H,s)と11.17(1H,br s) (3) 4−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチルモルホリン(メタノールより再結晶) 融点:155〜156℃ IR(ヌジヨール):1680(肩),1650(肩),1635
cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.30−3.70(10H,
m),2.22(2H,s)と4.42(2H,t,J=
1.5Hz) (4) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−ジフエニルメチルホモピペラジ
ン・モノ硫酸塩(エタノールより再結晶) 融点:198〜199℃ IR(ヌジヨール):1665,1645cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):1.83−2.20(2H,
m),2.97−3.97(8H,m),3.52(2H,
s),4.23(2H,s),4.42(2H,s),5.70
(1H,s)と7.17−7.83(10H,m) 実施例 11 実施例5の方法に準じて、下記の化合物を製造
する。 (1) 3−ベンゾイル−4−オキソチアゾリジン
(酢酸エチルより再結晶) 融点:139〜140℃ IR(ヌジヨール):1735,1660cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.75(2H,s),4.88
(2H,s)と7.23−7.73(5H,m) (2) 3−(4−メチルベンゾイル)−4−オキソチ
アゾリジン(酢酸エチル−n−ヘキサン混液よ
り再結晶) 融点:122〜123℃ IR(ヌジヨール):1725,1665cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.40(3H,s),3.63(2H,
s),4.85(2H,s),7.16(1H,d,J=
9Hz)と7.50(1H,d,J=9Hz) (3) 3−(4−クロロベンゾイル)−4−オキソチ
アゾリジン(酢酸エチル−n−ヘキサン混液よ
り再結晶) 融点:116〜117℃ IR(ヌジヨール):1710,1670cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.67(2H,s),4.88(2H,
s),7.33(2H,d,J=8Hz)と7.55
(2H,d,J=8Hz) (4) 3−(4−トリフルオロメチルベンゾイル)−
4−オキソチアゾリジン(エタノールより再結
晶) 融点:102〜104℃ IR(ヌジヨール):1750,1685cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.67(2H,s),4.90(2H,
s)と7.65(4H,s) (5) 3−(2,4−ジメトキシベンゾイル)−4−
オキソチアゾリジン(アセトン−メタノール混
液より再結晶) 融点:147〜149℃ IR(ヌジヨール):1715,1680cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.72(2H,s),3.73
(3H,s),3.78(3H,s),4.82(2H,
s),6.50(1H,dd,J=9Hzと2Hz),
6.52(1H,d,J=2Hz)と7.20(1H,d,
J=9Hz) (6) 3−(3−ピリジンカルボニル)−4−オキソ
チアゾリジン(エタノールより再結晶) 融点:81〜82℃ IR(ヌジヨール):1745,1670cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.73(2H,s),4.97(2H,
s),7.27−7.47(1H,m),7.77−8.00
(1H,m)と8.70−8.83(2H,m) (7) 3−(2−フロイル)−4−オキソチアゾリジ
ン(酢酸エチル−n−ヘキサンより再結晶) 融点:101〜102℃ IR(ヌジヨール):1715,1675cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.70(2H,s),4.85(2H,
s),6.53(1H,dd,J=4Hzと2Hz),
7.29(1H,d,J=4Hz)と7.59(1H,d,
J=2Hz) (8) 3−(2−テノイル)−4−オキソチアゾリジ
ン(酢酸エチル−ジイソプロピルエーテル混液
より再結晶) 融点:86〜87℃ IR(ヌジヨール):1715,1650cm-1 NMR(CDCl3,δ):3.70(2H,s),4.87(2H,
s),7.00−7.23(1H,m)と7.52−7.80
(2H,m) 実施例 12 水素化ナトリウム(鉱油中60%分散、0.58g)
を4−オキソチアゾリジン(1.50g)と4−メト
キシベンゼンスルホニルクロリド(3.01g)のテ
トラヒドロフラン(30ml)溶液に、0℃で攪拌し
ながら少量づつ加え、混合物を同温度で1時間攪
拌する。溶媒を減圧下に蒸発させ、残渣を酢酸エ
チル(10ml)および水(50ml)と混合し、得られ
る沈殿を濾取する。ケーキを水とジイソプロピル
エーテルで洗い、エタノール−酢酸エチル混液よ
り再結晶して、3−(4−メトキシベンゼンスル
ホニル)−4−オキソチアゾリジン(1.65g)を微
褐色のプリズム晶として得る。 融点:129〜130℃ IR(ヌジヨール):1710.1365,1155cm-1 NMR(DMSO−d6,δ):3.65(2H,s),3.87
(3H,s),4.92(2H,s),7.62(2H,d,
J=9Hz)と7.96(2H,d,J=9Hz) 実施例 13 m−クロロ過安息香酸(0.84g)のジクロロメ
タン(15ml)溶液を、1−(4−オキソ−3−チ
アゾリジニル)アセチル−4−ジフエニルメチル
ピペラジン(1.45g)のジクロロメタン(15ml)
溶液に、0℃で攪拌しながら滴下する。溶液を同
温度で2時間攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液(30ml)と混合する。有機層を分離し、
水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する。蒸留残留
物をアセトン−メタノール混液より再結晶して、
4−オキソ−3−(4−ジフエニルメチルピペラ
ジン−1−イルカルボニルメチル)チアゾリジン
−1−オキシド(1.03g)を無色のプリズム晶と
して得る。 融点:225〜226℃ IR(ヌジヨール):1680,1650,1610cm-1 NMR(CDCl−CD OD,δ):2.23−2.63(4H,
m),3 3 3.27−3.70(6H,m),3.80
−4.95(5H,m)と7.10−7.53(10H,m) 実施例14 (顆粒または小顆粒の製造) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)アセ
チル−4−ジフエニルメチルピペラジン
500(g) シユクロース 9250 ヒドロキシプロピルセルロース 200 でん粉 50 上記成分を常法により混合、顆粒形成して顆粒
ないし小顆粒を製造する。 実施例 15 過マンガン酸カリウム(0.34g)の水溶液(3.5
ml)を1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)
アセチル−4−ジフエニルメチルピペラジン
(0.5g)の酢酸(5ml)溶液に20℃で5分間を要
して攪拌下滴下する。反応液を室温で1時間攪拌
した後、亜硫酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、
クロロホルム(10ml)で抽出する。水層をクロロ
ホルムで抽出する。クロロホルム層を合わせ、水
洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過する。濾液
を減圧乾固して固形物(0.42g)を得る。固形物
をクロロホルムに溶解し、クロロホルムを展開剤
として用いるシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーに付す。目的化合物を含む画分を減圧濃縮して
4−オキソ−3−(4−ジフエニルメチルピペラ
ジン−1−イルカルボニルメチル)チアゾリジン
−1,1−ジオキシド(0.15g)を無色プリズム
晶として得る。 融点:209〜211℃ IR(ヌジヨール):1675,1640,1420cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.17−2.55(4H,m),3.2
−3.7(4H,m),3.78(2H,s),4.25(3H,
s),4.65(2H,s),6.95−7.55(10H,
m) 実施例 16 m−クロロ過安息香酸(0.87g)のジクロロメ
タン(10ml)溶液に1−(4−オキソ−3−チア
ゾリジニル)アセチル−4−ジフエニルメチルピ
ペラジン(1g)のジクロロメタン(10ml)溶液
を10℃で30分間を要し、攪拌下滴下する。反応液
を室温で5.5時間攪拌した後これにN,N−ジメ
チルホルムアミド(20ml)を加え、次いで同温で
一夜攪拌する。反応液に氷水(100ml)、クロロホ
ルム(100ml)および沃化ナトリウム水溶液を加
える。クロロホルム層を分取し、チオ硫酸ナトリ
ウム水、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後濾過する。濾液を減圧濃
縮し油状残渣を得る。この残渣をエーテルおよび
ジイソプロピルエーテルで粉末化し、粉末を得
る。これをジイソプロピルエーテルで洗浄し、乾
燥して次の式で示される4−オキソ−3−(4−
ジフエニルメチルピペラジン−1−イルカルボニ
ルメチル)チアゾリジン−S,N4−ジオキシド
(0.34g)を得る。 融点:161.5−164℃ IR(ヌジヨール):1690,1675,1640,1490,
1480,1415cm-1 NMR(CDCl3,δ):2.45−3.7(10H,m),
3.75(1H,d,J=17Hz),4.22(1H,d,
J=12Hz),4.68(1H,d,J=17Hz),
4.85(1H,d,J=12Hz),5.68(1H,s),
7.1−7.4(10H,m) MASS(M/Z):427(M+) 実施例 17 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)アセ
チル−4−ジフエニルメチルピペラジン(1.00g)
に水(1.5ml)および1N塩酸(3.5ml)を加え、10
分間激しく攪拌し、50℃で10分間放置し、50℃で
30分間、および室温で24時間攪拌すると結晶が沈
殿してくる。結晶を濾取し、減圧乾固して1−
(4−オキソ−3−チアゾリジニル)アセチル−
4−ジフエニルメチルピペラジンのモノ塩酸塩
(0.9g)を得る。 融点:220〜222℃(分解) IR(ヌジヨール):1680(s),1660cm-1 上記と同様にして次の塩を得る。 (1) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−ジフエニルメチルピペラジンの
1/2硫酸塩 IR(ヌジヨール):1650cm-1 (2) 1−(4−オキソ−3−チアゾリジニル)ア
セチル−4−ジフエニルメチルピペラジンのモ
ノ臭化水素酸塩 IR(ヌジヨール):1650cm-1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式: [式中、R1は適当な置換基を1個以上有して
    いてもよいアロイル;適当な置換基を1個以上有
    していてもよいアレーンスルホニル;ピリジルカ
    ルボニル;フロイル;テノイル;ジ(低級)アル
    キルアミノ(低級)アルキルカルバモイル(低
    級)アルキル;アリールカルバモイル(低級)ア
    ルキル;アル(低級)アルキルカルバモイル(低
    級)アルキル;複素環カルバモイル(低級)アル
    キル;複素環(低級)アルキルカルバモイル(低
    級)アルキル;チアゾリジニルカルボニル(低
    級)アルキル;モルホリニルカルボニル(低級)
    アルキル;または式:
    【式】 (式中、Aは低級アルキレン;nは0または1
    の整数;mは2または3の整数;Xは=N−、
    【式】または=CH−;R2はヒドロキシ;ヒド ロキシを有していてもよい低級アルキル;ハロゲ
    ンを有していてもよいアル(低級)アルキル;ハ
    ロゲンを有していてもよいアリールチオ;アシル
    または複素環基をそれぞれ意味する)で示される
    基;Yは−S−、【式】または【式】をそれ ぞれ意味する]で示されるオキソチアゾリジン化
    合物またはその塩。 2 Yが特許請求の範囲第1項の定義と同じであ
    り、R1が適当な置換基を1個以上有していても
    よいアロイル;適当な置換基を1個以上有してい
    てもよいアレーンスルホニル;ピリジルカルボニ
    ル;フロイル;テノイル;ジ(低級)アルキルア
    ミノ(低級)アルキルカルバモイル(低級)アル
    キル;アリールカルバモイル(低級)アルキル;
    アル(低級)アルキルカルバモイル(低級)アル
    キル;ピリジルカルバモイル(低級)アルキル;
    フリル(低級)アルキルカルバモイル(低級)ア
    ルキル;チアゾリジニルカルボニル(低級)アル
    キル;モルホリニルカルボニル(低級)アルキル
    または式: (式中、Aは低級アルキレン;nは0または1
    の整数;mは2または3の整数;Xは=N−、
    【式】または=CH−;R2はヒドロキシ;ヒド ロキシを有していてもよい低級アルキル;ハロゲ
    ンを有していてもよいアル(低級)アルキル;ハ
    ロゲンを有していてもよいアリールチオ;アロイ
    ル;ハロゲンを有していてもよいアレーンスルホ
    ニルまたはインドリルをそれぞれ意味する)で示
    される基である特許請求の範囲第1項記載の化合
    物またはその塩。 3 Yが特許請求の範囲第1項の定義と同じであ
    り、R1が低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
    ゲンおよびトリハロメチルより選択される適当な
    置換基を1または2個有していてもよいベンゾイ
    ル;低級アルコキシを有していてもよいベンゼン
    スルホニル;ピリジルカルボニル;フロイル;テ
    ノイル;ジ(低級)アルキルアミノ(低級)アル
    キルカルバモイル(低級)アルキル;フエニルカ
    ルバモイル(低級)アルキル;キシリルカルバモ
    イル(低級)アルキル;フエニル(低級)アルキ
    ルカルバモイル(低級)アルキル;ピリジルカル
    バモイル(低級)アルキル;フリル(低級)アル
    キルカルバモイル(低級)アルキル;チアゾリジ
    ニルカルボニル(低級)アルキル;モルホリニル
    カルボニル(低級)アルキル;または式: (式中、Aは低級アルキレン;nは0または1
    の整数;mは2または3の整数;Xは=N−、
    【式】または=CH−、R2はヒドロキシ;ヒド ロキシを有していてもよい低級アルキル;ハロゲ
    ンを有していてもよいモノ(またはジ)フエニル
    (低級)アルキル;ハロゲンを有していてもよい
    フエニルチオ;ベンゾイル;ハロゲンを有してい
    てもよいベンゼンスルホニルまたはインドリルを
    それぞれ意味する)で示される基である特許請求
    の範囲第2項記載の化合物またはその塩。 4 式: (式中、A、n、R2、Yは特許請求の範囲第
    1項の定義とそれぞれ同じである)で示される化
    合物である特許請求の範囲第1項記載の化合物ま
    たはその塩。 5 AおよびYが特許請求の範囲第4項の定義と
    それぞれ同じであり、nが1、R2がハロゲンを
    有していてもよいアル(低級)アルキルである特
    許請求の範囲第4項記載の化合物またはその塩。 6 化合物が1−(4−オキソ−3−チアゾリジ
    ニル)アセチル−4−ジフエニルメチルピペラジ
    ンである特許請求の範囲第5項記載の化合物また
    はその塩。 7 化合物が4−オキソ−3−(4−ジフエニル
    メチルピペラジン−1−イルカルボニルメチル)
    −チアゾリジン−1−オキシドである特許請求の
    範囲第5項記載の化合物またはその塩。 8 Yが特許請求の範囲第1項の定義と同じであ
    り、R1が適当な置換基を1個以上有していても
    よいアロイル;適当な置換基を1個以上有してい
    てもよいアレーンスルホニル;ピリジルカルボニ
    ル;フロイル;テノイルである特許請求の範囲第
    1項記載の化合物またはその塩。 9 化合物が3−(4−メトキシベンゾイル)−4
    −オキソチアゾリジンである特許請求の範囲第8
    項記載の化合物またはその塩。 10 式: [式中、R1はジ(低級)アルキルアミノ(低
    級)アルキルカルバモイル(低級)アルキル;ア
    リールカルバモイル(低級)アルキル;アル(低
    級)アルキルカルバモイル(低級)アルキル;複
    素環カルバモイル(低級)アルキル;複素環(低
    級)アルキルカルバモイル(低級)アルキル;チ
    アゾリジニルカルボニル(低級)アルキル;モル
    ホリニルカルボニル(低級)アルキル;または
    式:【式】 (式中、Aは低級アルキレン;nは0または1
    の整数;mは2または3の整数;Xは=N−、
    【式】または=CH−、R2はヒドロキシ;ヒド ロキシを有していてもよい低級アルキル;ハロゲ
    ンを有していてもよいアル(低級)アルキル;ハ
    ロゲンを有していてもよいアリールチオ;アシル
    または複素環基をそれぞれ意味する)で示される
    基であり、Yは−S−、【式】または【式】 をそれぞれ意味する]で示されるオキソチアゾリ
    ジン化合物またはその塩を製造するにあたり、 式: [式中、AおよびYはそれぞれ前と同じ意味]
    で示される化合物またはカルボキシ基におけるそ
    の反応性誘導体あるいはその塩を、式: RaH [式中、Raはジ(低級)アルキルアミノ(低
    級)アルキルアミノ、アリールアミノ、アル(低
    級)アルキルアミノ、複素環アミノ、複素環(低
    級)アルキルアミノ、チアゾリジニル、モルホリ
    ニルまたは式:【式】(式中、R2、 X、mはそれぞれ前と同じ意味)で示される基を
    意味する]で示される化合物またはアミノ基にお
    けるその反応性誘導体あるいはその塩と反応させ
    ることを特徴とするオキソチアゾリジン化合物ま
    たはその塩の製造法。 11 式: [式中、R1は適当な置換基を1個以上有して
    いてもよいアロイル;適当な置換基を1個以上有
    していてもよいアレーンスルホニル;ピリジルカ
    ルボニル;フロイル;テノイル;ジ(低級)アル
    キルアミノ(低級)アルキルカルバモイル(低
    級)アルキル;アリールカルバモイル(低級)ア
    ルキル;アル(低級)アルキルカルバモイル(低
    級)アルキル;複素環カルバモイル(低級)アル
    キル;複素環(低級)アルキルカルバモイル(低
    級)アルキル;チアゾリジニルカルボニル(低
    級)アルキル;モルホリニルカルボニル(低級)
    アルキル;または式:
    【式】(式中、Aは低級 アルキレン;nは0または1の整数;mは2また
    は3の整数;Xは=N−、【式】または=CH −;R2はヒドロキシ;ヒドロキシを有していて
    もよい低級アルキル;ハロゲンを有していてもよ
    いアル(低級)アルキル;ハロゲンを有していて
    もよいアリールチオ;アシルまたは複素環基をそ
    れぞれ意味する)で示される基;Yは−S−、
    【式】または【式】をそれぞれ意味する]で 示されるオキソチアゾリジン化合物またはその塩
    を含有する認識賦活剤。
JP61110095A 1985-05-14 1986-05-13 オキソチアゾリジン化合物 Granted JPS61267562A (ja)

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