JPH0455749U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0455749U JPH0455749U JP9760790U JP9760790U JPH0455749U JP H0455749 U JPH0455749 U JP H0455749U JP 9760790 U JP9760790 U JP 9760790U JP 9760790 U JP9760790 U JP 9760790U JP H0455749 U JPH0455749 U JP H0455749U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- ionization chamber
- ion source
- exit port
- injection gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 229910001285 shape-memory alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例のイオン源の縦断面
図、第２図は本考案の主要部の斜視図である。 １……イオン源、１６……イオン化室、１７…
…スリツト材、１８……イオン出射口、１９……
クリーナ片、２０……出射口側面、２１……クリ
ーナ凹部、２２……形状記憶合金材、２３……結
合部穴、２６……加速電極。
図、第２図は本考案の主要部の斜視図である。 １……イオン源、１６……イオン化室、１７…
…スリツト材、１８……イオン出射口、１９……
クリーナ片、２０……出射口側面、２１……クリ
ーナ凹部、２２……形状記憶合金材、２３……結
合部穴、２６……加速電極。
Claims (1)
- イオン源のイオン化室に導入される注入ガスの
導入部を有して、このイオン化室が磁石より発生
する磁界の内部に配し、このイオン化室に導入さ
れた注入ガスをこの磁界とイオン化する手段でイ
オン化し、このイオン化された注入ガスをスリツ
ト材のイオン出射口より高電圧を印加し加速して
イオンビームを引き出す電磁系を有しているイオ
ン源において、前記のイオン出射口に摺動可能な
ようにはめ込まれたクリーナ片を設けこれと連結
した形状記憶合金材から構成され、イオン源部の
使用及び未使用または他の温度差制御手段により
この形状記憶合金材を変動させ、これに連結され
たクリーナ片がイオン出射口を摺動できるよう構
成されたことを特徴とするイオン注入装置のイオ
ン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9760790U JPH0455749U (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9760790U JPH0455749U (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0455749U true JPH0455749U (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=31838120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9760790U Pending JPH0455749U (ja) | 1990-09-19 | 1990-09-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0455749U (ja) |
-
1990
- 1990-09-19 JP JP9760790U patent/JPH0455749U/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR960702167A (ko) | 스퍼터 에칭 제어용 플라즈마 성형 플러그(Plasma shaping plug for control of spuffer etching) | |
| JPH0455749U (ja) | ||
| GB792043A (en) | Improvements relating to mass spectrometers | |
| JPH0353402Y2 (ja) | ||
| JPH01158573U (ja) | ||
| JP2879342B2 (ja) | 電子ビーム励起イオン源 | |
| JPH01158640U (ja) | ||
| JPS62152086U (ja) | ||
| JP2814084B2 (ja) | デュオピガトロンイオン源 | |
| RU94012686A (ru) | Источник ионов с периферийным магнитным полем | |
| JPH0166741U (ja) | ||
| JPH0449447U (ja) | ||
| JPH0217549U (ja) | ||
| JPS56160743A (en) | Ion source | |
| JPS63109433U (ja) | ||
| Horiike et al. | Ion Source and Ion Etching Process. | |
| JPS59163743A (ja) | イオン源 | |
| JPH0176033U (ja) | ||
| JPH0388257U (ja) | ||
| JPS6174950U (ja) | ||
| JPS617542A (ja) | マイクロ波イオン源 | |
| RU97105506A (ru) | Способ измерения модуля и направления вектора скорости разреженного газового потока и устройство для его осуществления | |
| JPH03118600U (ja) | ||
| JPS58165899U (ja) | 中性粒子入射装置 | |
| JPH0435344U (ja) |