JPH0455752A - 四重極マスフィルタ - Google Patents
四重極マスフィルタInfo
- Publication number
- JPH0455752A JPH0455752A JP2166507A JP16650790A JPH0455752A JP H0455752 A JPH0455752 A JP H0455752A JP 2166507 A JP2166507 A JP 2166507A JP 16650790 A JP16650790 A JP 16650790A JP H0455752 A JPH0455752 A JP H0455752A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass filter
- rods
- temperature
- quadrupole mass
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く産業上の利用分野〉
本発明は、高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供給
し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じ
させ該プラズマを利用して前記試料中の被測定元素を分
析する高周波Xi結合プラズマ分析装画(以下、rlc
P−MSJという)などに装着され前記プラズマで励起
されたイオンなどを通過させる四重極マスフィルタに関
する。
し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じ
させ該プラズマを利用して前記試料中の被測定元素を分
析する高周波Xi結合プラズマ分析装画(以下、rlc
P−MSJという)などに装着され前記プラズマで励起
されたイオンなどを通過させる四重極マスフィルタに関
する。
〈従来の技術〉
四重極マスフィルタは特定の質量比を有するイオンを通
過させる機構として多くの機器に組込まれて使用されて
いるが、ここでは、ICP−MSの一部として組み込ま
れて使用されている場合について説明する。
過させる機構として多くの機器に組込まれて使用されて
いるが、ここでは、ICP−MSの一部として組み込ま
れて使用されている場合について説明する。
第2図は、I CP−MS17)−船釣な4111Is
、説明図である。この図において、プラズマトーチ1の
外室1bと最外室1Cにはガス調節器2を介してアルゴ
ンガス供給源3からアルゴンガスが供給され、内室1a
には試料導入装wI4内の固体試料がレーザ光195か
ら照射されたレーザ光によって気化されてのちキャリア
ガスであるアルゴンガスによって搬入されるようになっ
ている。尚、試料が液体の場合は、第2図の試料導入装
置14とレーザ光源5が除去され、導入される液体試料
を霧化してプラズマトーチ1の内W1aに供給するネプ
ライザが装着される。また、試料は固体であることより
も液体であることが多い。
、説明図である。この図において、プラズマトーチ1の
外室1bと最外室1Cにはガス調節器2を介してアルゴ
ンガス供給源3からアルゴンガスが供給され、内室1a
には試料導入装wI4内の固体試料がレーザ光195か
ら照射されたレーザ光によって気化されてのちキャリア
ガスであるアルゴンガスによって搬入されるようになっ
ている。尚、試料が液体の場合は、第2図の試料導入装
置14とレーザ光源5が除去され、導入される液体試料
を霧化してプラズマトーチ1の内W1aに供給するネプ
ライザが装着される。また、試料は固体であることより
も液体であることが多い。
更に、プラズマトーチ1に巻回された高周波誘導コイル
6には^周波電源10によって高周波電流が流され、該
コイル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。この状態で上記^周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付番ノられると、a*周wt磁
界の作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生
ずる。
6には^周波電源10によって高周波電流が流され、該
コイル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。この状態で上記^周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付番ノられると、a*周wt磁
界の作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生
ずる。
また、ノズル8とスキマー9に挟まれたフォアチャンバ
ー本体11内は、真空ポンプ12によって例えばITo
rr、に吸引されている。更に、センターチャンバー1
3内にはイオンレンズ14a、14b7%設Gノられる
と共に、該センターチャンバ−13の内部は第7油拡散
ポンプ15によって例えば10″″’Torr、に吸引
され、マスフィルタ(例えば四重極マスフィルタ)16
を収容しているリアチャンバー17内は第2油拡散ポン
プ18によって例えば10−’Torr、に吸引されて
いる。この状態で高周波lt導結合プラズマ中に上述の
ようにして気化された試料が導入され、イオン化や発光
が行われる。該プラズマ7内のイオンは、ノズル8ヤス
キマ−9を経由してのちイオンレンズ14a、14b(
ダブレット四重極レンズ)の間を通って収束され、四重
極マスフィルタ16に導入される。四重極マスフィルタ
16に入ったイオンのうち目的の質INN荷此のイオン
だけが、四重極マスフィルタを通過し二次電子増倍管1
9に導かれて検出される。この検出信号が信号処理部2
0に送出されて演算・処理されることによって、前記試
料中の被測定元素分析値が求められるようになっている
。
ー本体11内は、真空ポンプ12によって例えばITo
rr、に吸引されている。更に、センターチャンバー1
3内にはイオンレンズ14a、14b7%設Gノられる
と共に、該センターチャンバ−13の内部は第7油拡散
ポンプ15によって例えば10″″’Torr、に吸引
され、マスフィルタ(例えば四重極マスフィルタ)16
を収容しているリアチャンバー17内は第2油拡散ポン
プ18によって例えば10−’Torr、に吸引されて
いる。この状態で高周波lt導結合プラズマ中に上述の
ようにして気化された試料が導入され、イオン化や発光
が行われる。該プラズマ7内のイオンは、ノズル8ヤス
キマ−9を経由してのちイオンレンズ14a、14b(
ダブレット四重極レンズ)の間を通って収束され、四重
極マスフィルタ16に導入される。四重極マスフィルタ
16に入ったイオンのうち目的の質INN荷此のイオン
だけが、四重極マスフィルタを通過し二次電子増倍管1
9に導かれて検出される。この検出信号が信号処理部2
0に送出されて演算・処理されることによって、前記試
料中の被測定元素分析値が求められるようになっている
。
〈発明が解決しようとする問題点〉
然るに、四m極マスフィルタを用いて高い質膳のイオン
を測定する場合、四重極マスフィルタ16のロッドに大
きな電圧を発生させるためには大きな電力を供給するこ
とが必要となる。このため、高質量のイオンを長時間測
定すると、四重極マスフィルタ16のロッド温度が上昇
し四本のロッドが彫版するようになる。その結果、四重
極マスフィルタの特性が変化し、実際に四aiNiマス
フィルタを通過するイオンと設定したイオンが異なるよ
うになる。従って、特に畠い質優のイオンを測定する場
合、イオンのピーク位置が変動してイオンの正しい測定
が困難になるという欠点があった。
を測定する場合、四重極マスフィルタ16のロッドに大
きな電圧を発生させるためには大きな電力を供給するこ
とが必要となる。このため、高質量のイオンを長時間測
定すると、四重極マスフィルタ16のロッド温度が上昇
し四本のロッドが彫版するようになる。その結果、四重
極マスフィルタの特性が変化し、実際に四aiNiマス
フィルタを通過するイオンと設定したイオンが異なるよ
うになる。従って、特に畠い質優のイオンを測定する場
合、イオンのピーク位置が変動してイオンの正しい測定
が困難になるという欠点があった。
また、[!!1ffi極マスフィルタ16のロッドは高
置空中で動作するうえ、これらのロッドを保持するため
接触している部分の容積は小さい。よって、放熱性が思
いうえ温度も上昇し易くなっている。従って、四重極マ
スフィルタ16のロッドaimが上昇すると該ロッド間
の内接半径が大きくなり、四重極マスフィルタ16を透
過するイオンの容量が変化するようになる。このように
イオン透過特性が変化する結果、イオンの正しい測定が
困ガになるという欠点もあった。
置空中で動作するうえ、これらのロッドを保持するため
接触している部分の容積は小さい。よって、放熱性が思
いうえ温度も上昇し易くなっている。従って、四重極マ
スフィルタ16のロッドaimが上昇すると該ロッド間
の内接半径が大きくなり、四重極マスフィルタ16を透
過するイオンの容量が変化するようになる。このように
イオン透過特性が変化する結果、イオンの正しい測定が
困ガになるという欠点もあった。
本発明は、かかる状況に鑑みてなされものであり、その
課題は、四重極マスフィルタのイオンの通過特性が変化
しない四重極マスフィルタを提供することにある。
課題は、四重極マスフィルタのイオンの通過特性が変化
しない四重極マスフィルタを提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は、^周波誘導結合プラズマ分析装置などに使用
される四重極マスフィルタにおいて、ロッドの近傍に温
度検出端を設け、該検出端からの温度検出信号に基いて
前記ロッドに印加される電圧を調整することにある。
される四重極マスフィルタにおいて、ロッドの近傍に温
度検出端を設け、該検出端からの温度検出信号に基いて
前記ロッドに印加される電圧を調整することにある。
〈作用〉
本発明は次のように作用する。
即ら、CPUの設定質量数信号がマスフィルタのコント
ローラ・ドライブ回路に送られ、該コントローラ・ドラ
イブ回路は必要な電圧を四垂極マスフィルタのロッドに
印加する。また、四重極マスフィルタのロッドや周辺の
温度が一度検出端によって検出され、a!度補償部に送
出されて演算で1度補正値が求められて後、コントロー
ラ・ドライブ回路に送出される。その結果、コントロー
ラ・ドライブ回路は、ロッドに印加する電圧を補正して
四重極マスフィルタのロッドに印加する。このような調
節動作が繰返されて、画電極マスフィルタのロッドのa
i度上昇に起因する責最数のずれがハードウェアで自動
的に補正されるようになる。
ローラ・ドライブ回路に送られ、該コントローラ・ドラ
イブ回路は必要な電圧を四垂極マスフィルタのロッドに
印加する。また、四重極マスフィルタのロッドや周辺の
温度が一度検出端によって検出され、a!度補償部に送
出されて演算で1度補正値が求められて後、コントロー
ラ・ドライブ回路に送出される。その結果、コントロー
ラ・ドライブ回路は、ロッドに印加する電圧を補正して
四重極マスフィルタのロッドに印加する。このような調
節動作が繰返されて、画電極マスフィルタのロッドのa
i度上昇に起因する責最数のずれがハードウェアで自動
的に補正されるようになる。
〈実施例〉
以下、本発明について図を用いて七細に説明する。第1
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、16
a〜16dは四重極マスフィルタのロッド、21は例え
ばサーミスタのような温度検出端、22は例えばマイク
ロコンピュータの中央処理装置でなるCPU、23はC
PU22から設定質量数信号を受1ノで必要な電圧を四
重極マスフィルタ16のロッド16a〜16dに印加す
るマスフィルタのコントローラ・ドライブ回路、24は
温度検出端21の温度検出信号を受けて演粋により温度
補正値を求めてコントローラ・ドライブ回路23に送出
する温度補償部である。尚、CP U 22はシステム
構成に応じてスイッチや電圧電源であったりすることも
ある。
図は本発明実施例の要部構成説明図であり、図中、16
a〜16dは四重極マスフィルタのロッド、21は例え
ばサーミスタのような温度検出端、22は例えばマイク
ロコンピュータの中央処理装置でなるCPU、23はC
PU22から設定質量数信号を受1ノで必要な電圧を四
重極マスフィルタ16のロッド16a〜16dに印加す
るマスフィルタのコントローラ・ドライブ回路、24は
温度検出端21の温度検出信号を受けて演粋により温度
補正値を求めてコントローラ・ドライブ回路23に送出
する温度補償部である。尚、CP U 22はシステム
構成に応じてスイッチや電圧電源であったりすることも
ある。
このような要部構成からなる本発明の実施例において、
CPU22から設定質量数信号がマスフィルタのコント
ローラ・ドライブ回路23に送られ、該コントローラ・
ドライブ回路23はこの司令信号を受けて必要な電圧を
四重極マスフィルタ16のロッド16a〜16dに印加
する。また、四重極マスフィルタ16のロッド16a〜
16dや該ロッド周辺の温度が温度検出端21によって
検出され、該温度検出信号は温度補償部24に送出され
演算で温度補正値が求められて後、コントローラ・ドラ
イブ回路23に送出される。その結果、コントローラ・
ドライブ回路23は、ロッド16a〜16dに印加する
電圧を補正し該補正電圧を四重極マスフィルタ16のロ
ッド16a〜16dに印加する。このような調節動作が
繰返されて、四重極マスフィルタ16のロッド16a〜
16dの温度上昇に起因プる質量数のずれが電気回路(
即ち、ハードウェア)で自動的に補正される。
CPU22から設定質量数信号がマスフィルタのコント
ローラ・ドライブ回路23に送られ、該コントローラ・
ドライブ回路23はこの司令信号を受けて必要な電圧を
四重極マスフィルタ16のロッド16a〜16dに印加
する。また、四重極マスフィルタ16のロッド16a〜
16dや該ロッド周辺の温度が温度検出端21によって
検出され、該温度検出信号は温度補償部24に送出され
演算で温度補正値が求められて後、コントローラ・ドラ
イブ回路23に送出される。その結果、コントローラ・
ドライブ回路23は、ロッド16a〜16dに印加する
電圧を補正し該補正電圧を四重極マスフィルタ16のロ
ッド16a〜16dに印加する。このような調節動作が
繰返されて、四重極マスフィルタ16のロッド16a〜
16dの温度上昇に起因プる質量数のずれが電気回路(
即ち、ハードウェア)で自動的に補正される。
尚、本発明実施例の他の部分の動作は、第2図を用いて
詳述した前記従来例の場合と同一であるためここでの重
複説明は省略する。また、本発明は上述の実施例に限定
されることなく種々の変形が可能であり、例えば温度補
償部24をコンピュータのソフトウェアで処理しても良
い。
詳述した前記従来例の場合と同一であるためここでの重
複説明は省略する。また、本発明は上述の実施例に限定
されることなく種々の変形が可能であり、例えば温度補
償部24をコンピュータのソフトウェアで処理しても良
い。
〈発明の効果〉
以上詳しく説明したように、本発明は、四重極マスフィ
ルタにおいて、四1極マスフィルタのロッド部の温度を
常時監視し、そのyArIIによるアライメント(寸法
)の変化量を補正するように四重極マスフィルタのロッ
ドへの印加電圧をW!lImする構成にした。
ルタにおいて、四1極マスフィルタのロッド部の温度を
常時監視し、そのyArIIによるアライメント(寸法
)の変化量を補正するように四重極マスフィルタのロッ
ドへの印加電圧をW!lImする構成にした。
このため、^質量数のイオンを長時間測定する場合など
、四重極マスフィルタのロッド部の温度が上昇しても四
重極マスフィルタを透過するイオンの質量数が変化しな
い。従って、本発明によれば、四重極マスフィルタの温
度が変化しても該四重極マスフィルタを通過するイオン
の質量数が変化しない四重極マスフィルタが実現する。
、四重極マスフィルタのロッド部の温度が上昇しても四
重極マスフィルタを透過するイオンの質量数が変化しな
い。従って、本発明によれば、四重極マスフィルタの温
度が変化しても該四重極マスフィルタを通過するイオン
の質量数が変化しない四重極マスフィルタが実現する。
第1図は本発明実施例の要部構成説明図、第2図は高周
波誘導プラズマ111分析i!置のに一般装な構成説明
図である。 1・・・・・・プラズマトーチ、2・・・・・・流a
u+ m部、3・・・・・・アルゴンガス供給源、4・
・・・・・試料セル、6・・・・・・高周波鱈導コイル
、 7・・・・・・高周波誘導結合プラズマ、8・・・・・
・ノズル、9・・・・・・スキマー、16・・・・・・
マスフィルタ、168〜16d・・・四重極マスフィル
タのロッド、17・・・・・・リアチャンバー、20・
・・・・・信号処理部、21・・・温度検出端、22・
・・CPU、23・・・四重極マスフィルタのコントロ
ーラ・ドライブ回路、24・・・温度補償部
波誘導プラズマ111分析i!置のに一般装な構成説明
図である。 1・・・・・・プラズマトーチ、2・・・・・・流a
u+ m部、3・・・・・・アルゴンガス供給源、4・
・・・・・試料セル、6・・・・・・高周波鱈導コイル
、 7・・・・・・高周波誘導結合プラズマ、8・・・・・
・ノズル、9・・・・・・スキマー、16・・・・・・
マスフィルタ、168〜16d・・・四重極マスフィル
タのロッド、17・・・・・・リアチャンバー、20・
・・・・・信号処理部、21・・・温度検出端、22・
・・CPU、23・・・四重極マスフィルタのコントロ
ーラ・ドライブ回路、24・・・温度補償部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高周波誘導結合プラズマ分析装置などに使用される四重
極マスフィルタにおいて、 ロッドの近傍に温度検出端を設け、該検出端からの温度
検出信号に基いて前記ロッドに印加される電圧を調整す
ることを特徴とする四重極マスフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2166507A JP2956139B2 (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 四重極マスフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2166507A JP2956139B2 (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 四重極マスフィルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0455752A true JPH0455752A (ja) | 1992-02-24 |
| JP2956139B2 JP2956139B2 (ja) | 1999-10-04 |
Family
ID=15832632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2166507A Expired - Fee Related JP2956139B2 (ja) | 1990-06-25 | 1990-06-25 | 四重極マスフィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2956139B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05217548A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-08-27 | Shimadzu Corp | 四重極型質量分析計 |
| JPH10106484A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Shimadzu Corp | 四重極質量分析装置 |
| WO2008146440A1 (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-04 | Shimadzu Corporation | 飛行時間型質量分析装置 |
| GB2641921A (en) * | 2024-06-18 | 2025-12-24 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | A Multipole Ion Guide and Methods of Controlling the Voltage Applied to a Multipole Ion Guide |
| GB2641922A (en) * | 2024-06-18 | 2025-12-24 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | A multipole ion guide and methods of controlling the voltage applied to a multipole ion guide |
-
1990
- 1990-06-25 JP JP2166507A patent/JP2956139B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05217548A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-08-27 | Shimadzu Corp | 四重極型質量分析計 |
| JPH10106484A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Shimadzu Corp | 四重極質量分析装置 |
| WO2008146440A1 (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-04 | Shimadzu Corporation | 飛行時間型質量分析装置 |
| US8013293B2 (en) | 2007-05-30 | 2011-09-06 | Shimadzu Corporation | Time-of-flight mass spectrometer |
| JP4816794B2 (ja) * | 2007-05-30 | 2011-11-16 | 株式会社島津製作所 | 飛行時間型質量分析装置 |
| GB2641921A (en) * | 2024-06-18 | 2025-12-24 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | A Multipole Ion Guide and Methods of Controlling the Voltage Applied to a Multipole Ion Guide |
| GB2641922A (en) * | 2024-06-18 | 2025-12-24 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | A multipole ion guide and methods of controlling the voltage applied to a multipole ion guide |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2956139B2 (ja) | 1999-10-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5808697B2 (ja) | ドライエッチング装置及びドライエッチング方法 | |
| US20070194245A1 (en) | Ion sources and methods for generating an ion beam with a controllable ion current density distribution | |
| JP2011151042A (ja) | 磁界レンズ | |
| EP3686918B1 (en) | Analyzer apparatus and control method | |
| JPH0455752A (ja) | 四重極マスフィルタ | |
| EP0179294A1 (en) | Ion microbeam apparatus | |
| US7060985B2 (en) | Multipole field-producing apparatus in charged-particle optical system and aberration corrector | |
| KR100308720B1 (ko) | 색보상파티클빔컬럼 | |
| JPH0536376A (ja) | 四重極質量分析計 | |
| US5773784A (en) | Electron beam processing apparatus | |
| JPH07282771A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ分析計のプラズマ点火方法 | |
| JPH0255899B2 (ja) | ||
| JP3123654B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
| JPH04106857A (ja) | 四重極質量分析計 | |
| JP3031043B2 (ja) | イオン照射装置とその制御方法 | |
| JP2953010B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
| JP3154831B2 (ja) | 誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
| JPH05242860A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
| JPH05242859A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
| JPH0431759A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 | |
| JPH0731494Y2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
| KR100610758B1 (ko) | 플라즈마 식각 장치 | |
| JPH02176458A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
| JPH0465059A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
| JP2001084936A (ja) | 電子顕微鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |