JPH0456107B2 - - Google Patents
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- JPH0456107B2 JPH0456107B2 JP61014835A JP1483586A JPH0456107B2 JP H0456107 B2 JPH0456107 B2 JP H0456107B2 JP 61014835 A JP61014835 A JP 61014835A JP 1483586 A JP1483586 A JP 1483586A JP H0456107 B2 JPH0456107 B2 JP H0456107B2
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- JP
- Japan
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- alloy
- less
- thermal expansion
- yield strength
- etching
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
(産業上の利用分野)
本発明は、プレス成形性およびエツチング性に
優れるFe−Ni系低熱膨張合金に関し、特に本発
明は各種電子管の管内部品、例えばシヤドウマス
ク、マスクフレーム、マスクホルダーに、またプ
レス成形加工により製作される低温用機器に好適
に用いることのできるプレス成形性およびエツチ
ング性に優れるFe−Ni系低熱膨張合金に関する
ものである。 (従来の技術) Ni30〜45%を含むFe−Ni系合金は、室温から
300℃の温度域では熱膨張係数が著しく小さいた
め、各種電子管用材料として用いられ、特にシヤ
ドウマスク、マスクフレームおよびマスクホルダ
ー等の機能材料として用途が拡大しつつある。 従来よりカラー受像管シヤドウマスクにあつて
は温度上昇に伴う加熱膨張に問題があつた。シヤ
ドウマスクの開孔部を通過する電子ビームは螢光
面で発光するが、開孔部を通過しない電子ビーム
はシヤドウマスクに照射され加熱されるため、前
記シヤドウマスクは熱膨張して電子ビームが決め
られた螢光面に当らなくなる、いわゆるドーミン
グ現象が生ずるが、このドーミング現象をなくす
ため熱膨張の小さいアンバー合金の採用が検討さ
れている。 しかし、前記アンバー合金は従来の軟鋼にくら
べて0.2%耐力が高いため、シヤドウマスクのよ
うな高精度の加工が困難であるため、その実用化
が妨げられていた。 前記高精度の加工性を向上させるため低耐力化
が検討され始めており、その方法として、特開昭
59−27434号、特開昭59−27435号、特開昭60−
21331号に記載の方法が知られている。前記特開
昭59−27434号によれば、アンバー材をマスクに
エツチングし、真空焼鈍し、粗粒化させて低耐力
化をはかつているが、そのアンバー材のMnを0.1
%以下とすることにより、より効果のあることが
開示されている。また、特開昭60−21331号によ
れば、冷間圧下率を50〜80%に制限することによ
り、面内異方性が小さくなることが開示されてい
る。 (発明が解決しようとする問題点) しかしこのような方法によつて低耐力化をはか
つても、その値は必ずしも十分でなく、特に特開
昭59−27434号記載の方法のように、低耐力化の
ため熱処理により粗粒化を行うとマスクのプレス
時に肌荒れをひきおこし、実用に供することがで
きないという大きな問題がある。また特開昭60−
21331号記載の方法によれば、面内異方性を小さ
くしてもプレス時のスプリングバツクを極めて小
さくすることは不可能であり、実用に供すること
はできないという欠点がある。 (問題点を解決するための手段) 本発明は、前記従来のFe−Ni系低熱膨張合金
を有する欠点あるいは問題点を除去・改善した合
金を提供することを目的とし、プレス成形性およ
びエツチング性に優れるFe−Ni系低熱膨張合金
を提供することによつて前記目的を達成すること
ができる。すなわち本発明は、C0.009%以下、
Si0.2%以下、Mn0.5%以下、Ni30〜45%、Cr1.5
〜6%、B0.001〜0.02%を含有し、残部Feよりな
るプレス成形性およびエツチング性に優れるFe
−Ni系低熱膨張合金(以下「第1発明」と称す)
とし、上記第1発明合金にさらにCo4%以下を含
有させたものを第2発明合金、前記第1発明合金
にさらにTa0.005〜0.4%含有させたものを第3発
明合金とするものである。 次に本発明を詳細に説明する。 従来のシヤドウマスク用合金はエツチング加工
が施されなければならないため、良好なエツチン
グ性を有することが要求され、このためには合金
は細粒組織からなる必要があつた。一方、シヤド
ウマスク用合金は耐力が低くなければならないこ
とが要求されるため、プレス加工前に熱処理され
て結晶が粗粒化されなければならなかつた。 しかし、本発明合金はもともと細粒結晶組織か
らなるため、エツチング性は良好であるだけでな
くまた耐力も低いので、シヤドウマスク用合金と
して極めて優れ、かつ熱膨張率は比較的小さい合
金である。 本発明者等は従来のいわゆる36Niアンバー合
金にCrを所定量添加することにより低耐力化を
図ると共に、Bの添加により圧延面に各種結晶面
のうちエツチング速度が最も速い結晶面である1
00結晶面が集合しやすくなり、エツチング性に
優れることを新規に知見して本発明を完成した。 すなわち本発明合金にあつては、Crは耐力の
盆しい低下をひきおこし、Bは再結晶時に圧延面
に平行に100結晶面に集合するようになること
を本発明者等は新規に知見した。 次に本発明合金を実験データならびに実験結果
について説明する。 第1図はC0.005%、Si0.05%、Mn0.4%、
Ni36.0%を含有し、残部Feよりなる合金(以下
30Niベース合金と称す)にCrを添加した場合の
0.2%耐力に及ぼすCr量の影響を示す図であり、
Crが増加するにつれて0.2%耐力が著しく減少す
ることがわかる。この0.2%耐力の低下はプレス
加工時のスプリングバツク量すなわちもどり量を
減少させ、高精度の加工がしやすくなる。 第2図は前記第1図に示すものと同一合金につ
いて圧延面への100結晶面の集合度に対するB
量の影響を示す図である。縦軸は集合度であり、
X線回折による311,110,100,111
面のピーク強度の合計に対する100面のピーク
強度の比を表わした図である。同図からBが増加
するにつれてエツチング速度の速い100面が圧
延面に集合することがわかる。 第1および2図より、Crの添加により0.2%耐
力が降下してプレス性が向上し、またBの添加に
より圧延面に100面が集合してエツチング性が
向上することがわかつた。 次に本発明において合金の成分組成を限定する
理由を説明する。 C:Cは熱膨張係数を増加させ、また0.2%耐力
を増加させる元素であり、なるべく少ないこと
が望ましくCは0.009%以下にする必要がある。 Si:SiはCと同様に熱膨張係数を増加させ、また
0.2%耐力を増加させる元素であり、なるべく
少ないことが望ましい。またSiの偏析はマスク
のエツチング時のエツチングムラなどをひきお
こすので偏析を発生させないためにも少ないこ
とが望ましく、Siは0.2%以下にする必要があ
る。 Mn:MnはC、Siと同様に熱膨張係数を増加さ
せ、0.2%耐力を増加させる元素であり、なる
べく少ないことが望ましい。またMnの偏析は
Siの場合と同様にマスクのエツチング時のエツ
チングムラなどをひきおこすため少ないことが
望ましく、Mnは0.5%以下にする必要がある。 Ni:Niは熱膨張係数を支配する基本的成分元素
であり、100℃以下の低温側においてはNi36%
付近で、またより高温側においてはNi42%付
近で最も小さい熱膨張係数を示す。30%未満に
おいてはマルテンサイトが生成し熱膨張係数が
大きくなり、一方45%を超えるとまた熱膨張係
数が大きくなるので、Niは30〜45%の範囲内
にする必要がある。 Cr:Crは0.2%耐力を著しく低下させ、プレス成
形性を向上させ、一方では熱膨張係数を増加さ
せる元素である。しかし、1.5%未満では0.2%
耐力の低下が十分でなく、一方6%を超えると
熱膨張係数が大きくなりすぎて、例えばシヤド
ウマスク材料として使用する場合には電子ビー
ムが螢光面に当たらなくなるという障害が生じ
るので、Crは1.5〜6%にする必要がある。 B:Bは同一冷間加工度ならびに同一焼鈍温度の
材料において、その添加量が増加するにつれ、
例えばシヤドウマスクなどのエツチングを施す
場合にはエツチング速度の最も速い結晶面であ
る100面が板面に集合するので同一腐食液中
で早く開孔することができ、生産性の向上に大
きく寄与する元素である。しかし、Bは0.001
%未満では上述の効果が乏しく、一方0.01未満
を超えるとBの固溶量が多くなり、Cと同様に
0.2%耐力を増加させてプレス成形性を阻害す
る。従つてBは0.001〜0.01%未満の範囲内に
する必要がある。 Ta:Taは、CおよびNと結合して炭化物、窒化
物を生成し、結晶粒度の微細化に寄与する元素
である。一方、Bも鋼中のC、Nと結びついて
炭化物、窒化物となるが、このTaはBよりも
C、Nと親和力が強い。従つて、このTaを添
加して炭化物、窒化物としてC、Nを固定して
おくことは、有効B量を増すことになり、Bの
作用を向上させることにも寄与する元素であ
り、極めて有効である。このTaの添加量は、
0.005%未満では上記寄与効果を十分に得るこ
とができず、一方0.4%より多いとC、Nと結
合すると共にOとの親和力も強いことから、表
面層にこれらの元素の酸化物を生成しやすくな
り、0.2%耐力の低下を阻害するので、0.005〜
0.4%の範囲内にする必要がある。 Co:Coはアンバー特性を向上させるのに寄与す
る元素であり、Co含有量が増加するにつれて
アンバー特性を示すNi含有量の下限が拡大す
るが、Coは4%より多いと0.2%耐力が増加し
てプレス性を阻害するのでCoは4%以下にす
る必要がある。 次に本発明合金の製造方法について説明する。 本発明合金の製造用諸原料を大気下で電気炉溶
解した後、AOD法(アルゴン−酸素吹き脱炭法)
又はVOD法(真空−酸素吹き脱炭法)により精
錬した後、大気中または真空中で造塊する。次い
で熱間圧延、冷間圧延、焼鈍、酸洗工程を経て最
終製品とする。なお、前記焼鈍は空気中および/
または非酸化性雰囲気中で施す。 次に本発明を実施例について説明する。 実施例 下記の表にCrとBとを必須元素とする本発明
合金とBを含有しない従来型のFe−Ni系合金の
0.2%耐力、硬さ、熱膨張係数ならびにエツチン
グ性に有効な100結晶面の集合度を示す。 表中いずれの供試材も板厚0.20mmの材料を950
℃1分間保持の熱処理を施した後各種試験に供し
た。0.2%耐力はJIS 13B号試験片に加工後、JIS
G4303に準じ、硬さ試験はJIS Z2244に準じて実
施した。熱膨張試験は室温から100℃までの平均
熱膨張を測定した。また、集合度はMoターゲツ
トを用い45°〜20°まで走査し、311,110,
100,111面のピーク高さをそれぞれ測定
し、その高さの合計に対する100面の高さ比を
求めた。
優れるFe−Ni系低熱膨張合金に関し、特に本発
明は各種電子管の管内部品、例えばシヤドウマス
ク、マスクフレーム、マスクホルダーに、またプ
レス成形加工により製作される低温用機器に好適
に用いることのできるプレス成形性およびエツチ
ング性に優れるFe−Ni系低熱膨張合金に関する
ものである。 (従来の技術) Ni30〜45%を含むFe−Ni系合金は、室温から
300℃の温度域では熱膨張係数が著しく小さいた
め、各種電子管用材料として用いられ、特にシヤ
ドウマスク、マスクフレームおよびマスクホルダ
ー等の機能材料として用途が拡大しつつある。 従来よりカラー受像管シヤドウマスクにあつて
は温度上昇に伴う加熱膨張に問題があつた。シヤ
ドウマスクの開孔部を通過する電子ビームは螢光
面で発光するが、開孔部を通過しない電子ビーム
はシヤドウマスクに照射され加熱されるため、前
記シヤドウマスクは熱膨張して電子ビームが決め
られた螢光面に当らなくなる、いわゆるドーミン
グ現象が生ずるが、このドーミング現象をなくす
ため熱膨張の小さいアンバー合金の採用が検討さ
れている。 しかし、前記アンバー合金は従来の軟鋼にくら
べて0.2%耐力が高いため、シヤドウマスクのよ
うな高精度の加工が困難であるため、その実用化
が妨げられていた。 前記高精度の加工性を向上させるため低耐力化
が検討され始めており、その方法として、特開昭
59−27434号、特開昭59−27435号、特開昭60−
21331号に記載の方法が知られている。前記特開
昭59−27434号によれば、アンバー材をマスクに
エツチングし、真空焼鈍し、粗粒化させて低耐力
化をはかつているが、そのアンバー材のMnを0.1
%以下とすることにより、より効果のあることが
開示されている。また、特開昭60−21331号によ
れば、冷間圧下率を50〜80%に制限することによ
り、面内異方性が小さくなることが開示されてい
る。 (発明が解決しようとする問題点) しかしこのような方法によつて低耐力化をはか
つても、その値は必ずしも十分でなく、特に特開
昭59−27434号記載の方法のように、低耐力化の
ため熱処理により粗粒化を行うとマスクのプレス
時に肌荒れをひきおこし、実用に供することがで
きないという大きな問題がある。また特開昭60−
21331号記載の方法によれば、面内異方性を小さ
くしてもプレス時のスプリングバツクを極めて小
さくすることは不可能であり、実用に供すること
はできないという欠点がある。 (問題点を解決するための手段) 本発明は、前記従来のFe−Ni系低熱膨張合金
を有する欠点あるいは問題点を除去・改善した合
金を提供することを目的とし、プレス成形性およ
びエツチング性に優れるFe−Ni系低熱膨張合金
を提供することによつて前記目的を達成すること
ができる。すなわち本発明は、C0.009%以下、
Si0.2%以下、Mn0.5%以下、Ni30〜45%、Cr1.5
〜6%、B0.001〜0.02%を含有し、残部Feよりな
るプレス成形性およびエツチング性に優れるFe
−Ni系低熱膨張合金(以下「第1発明」と称す)
とし、上記第1発明合金にさらにCo4%以下を含
有させたものを第2発明合金、前記第1発明合金
にさらにTa0.005〜0.4%含有させたものを第3発
明合金とするものである。 次に本発明を詳細に説明する。 従来のシヤドウマスク用合金はエツチング加工
が施されなければならないため、良好なエツチン
グ性を有することが要求され、このためには合金
は細粒組織からなる必要があつた。一方、シヤド
ウマスク用合金は耐力が低くなければならないこ
とが要求されるため、プレス加工前に熱処理され
て結晶が粗粒化されなければならなかつた。 しかし、本発明合金はもともと細粒結晶組織か
らなるため、エツチング性は良好であるだけでな
くまた耐力も低いので、シヤドウマスク用合金と
して極めて優れ、かつ熱膨張率は比較的小さい合
金である。 本発明者等は従来のいわゆる36Niアンバー合
金にCrを所定量添加することにより低耐力化を
図ると共に、Bの添加により圧延面に各種結晶面
のうちエツチング速度が最も速い結晶面である1
00結晶面が集合しやすくなり、エツチング性に
優れることを新規に知見して本発明を完成した。 すなわち本発明合金にあつては、Crは耐力の
盆しい低下をひきおこし、Bは再結晶時に圧延面
に平行に100結晶面に集合するようになること
を本発明者等は新規に知見した。 次に本発明合金を実験データならびに実験結果
について説明する。 第1図はC0.005%、Si0.05%、Mn0.4%、
Ni36.0%を含有し、残部Feよりなる合金(以下
30Niベース合金と称す)にCrを添加した場合の
0.2%耐力に及ぼすCr量の影響を示す図であり、
Crが増加するにつれて0.2%耐力が著しく減少す
ることがわかる。この0.2%耐力の低下はプレス
加工時のスプリングバツク量すなわちもどり量を
減少させ、高精度の加工がしやすくなる。 第2図は前記第1図に示すものと同一合金につ
いて圧延面への100結晶面の集合度に対するB
量の影響を示す図である。縦軸は集合度であり、
X線回折による311,110,100,111
面のピーク強度の合計に対する100面のピーク
強度の比を表わした図である。同図からBが増加
するにつれてエツチング速度の速い100面が圧
延面に集合することがわかる。 第1および2図より、Crの添加により0.2%耐
力が降下してプレス性が向上し、またBの添加に
より圧延面に100面が集合してエツチング性が
向上することがわかつた。 次に本発明において合金の成分組成を限定する
理由を説明する。 C:Cは熱膨張係数を増加させ、また0.2%耐力
を増加させる元素であり、なるべく少ないこと
が望ましくCは0.009%以下にする必要がある。 Si:SiはCと同様に熱膨張係数を増加させ、また
0.2%耐力を増加させる元素であり、なるべく
少ないことが望ましい。またSiの偏析はマスク
のエツチング時のエツチングムラなどをひきお
こすので偏析を発生させないためにも少ないこ
とが望ましく、Siは0.2%以下にする必要があ
る。 Mn:MnはC、Siと同様に熱膨張係数を増加さ
せ、0.2%耐力を増加させる元素であり、なる
べく少ないことが望ましい。またMnの偏析は
Siの場合と同様にマスクのエツチング時のエツ
チングムラなどをひきおこすため少ないことが
望ましく、Mnは0.5%以下にする必要がある。 Ni:Niは熱膨張係数を支配する基本的成分元素
であり、100℃以下の低温側においてはNi36%
付近で、またより高温側においてはNi42%付
近で最も小さい熱膨張係数を示す。30%未満に
おいてはマルテンサイトが生成し熱膨張係数が
大きくなり、一方45%を超えるとまた熱膨張係
数が大きくなるので、Niは30〜45%の範囲内
にする必要がある。 Cr:Crは0.2%耐力を著しく低下させ、プレス成
形性を向上させ、一方では熱膨張係数を増加さ
せる元素である。しかし、1.5%未満では0.2%
耐力の低下が十分でなく、一方6%を超えると
熱膨張係数が大きくなりすぎて、例えばシヤド
ウマスク材料として使用する場合には電子ビー
ムが螢光面に当たらなくなるという障害が生じ
るので、Crは1.5〜6%にする必要がある。 B:Bは同一冷間加工度ならびに同一焼鈍温度の
材料において、その添加量が増加するにつれ、
例えばシヤドウマスクなどのエツチングを施す
場合にはエツチング速度の最も速い結晶面であ
る100面が板面に集合するので同一腐食液中
で早く開孔することができ、生産性の向上に大
きく寄与する元素である。しかし、Bは0.001
%未満では上述の効果が乏しく、一方0.01未満
を超えるとBの固溶量が多くなり、Cと同様に
0.2%耐力を増加させてプレス成形性を阻害す
る。従つてBは0.001〜0.01%未満の範囲内に
する必要がある。 Ta:Taは、CおよびNと結合して炭化物、窒化
物を生成し、結晶粒度の微細化に寄与する元素
である。一方、Bも鋼中のC、Nと結びついて
炭化物、窒化物となるが、このTaはBよりも
C、Nと親和力が強い。従つて、このTaを添
加して炭化物、窒化物としてC、Nを固定して
おくことは、有効B量を増すことになり、Bの
作用を向上させることにも寄与する元素であ
り、極めて有効である。このTaの添加量は、
0.005%未満では上記寄与効果を十分に得るこ
とができず、一方0.4%より多いとC、Nと結
合すると共にOとの親和力も強いことから、表
面層にこれらの元素の酸化物を生成しやすくな
り、0.2%耐力の低下を阻害するので、0.005〜
0.4%の範囲内にする必要がある。 Co:Coはアンバー特性を向上させるのに寄与す
る元素であり、Co含有量が増加するにつれて
アンバー特性を示すNi含有量の下限が拡大す
るが、Coは4%より多いと0.2%耐力が増加し
てプレス性を阻害するのでCoは4%以下にす
る必要がある。 次に本発明合金の製造方法について説明する。 本発明合金の製造用諸原料を大気下で電気炉溶
解した後、AOD法(アルゴン−酸素吹き脱炭法)
又はVOD法(真空−酸素吹き脱炭法)により精
錬した後、大気中または真空中で造塊する。次い
で熱間圧延、冷間圧延、焼鈍、酸洗工程を経て最
終製品とする。なお、前記焼鈍は空気中および/
または非酸化性雰囲気中で施す。 次に本発明を実施例について説明する。 実施例 下記の表にCrとBとを必須元素とする本発明
合金とBを含有しない従来型のFe−Ni系合金の
0.2%耐力、硬さ、熱膨張係数ならびにエツチン
グ性に有効な100結晶面の集合度を示す。 表中いずれの供試材も板厚0.20mmの材料を950
℃1分間保持の熱処理を施した後各種試験に供し
た。0.2%耐力はJIS 13B号試験片に加工後、JIS
G4303に準じ、硬さ試験はJIS Z2244に準じて実
施した。熱膨張試験は室温から100℃までの平均
熱膨張を測定した。また、集合度はMoターゲツ
トを用い45°〜20°まで走査し、311,110,
100,111面のピーク高さをそれぞれ測定
し、その高さの合計に対する100面の高さ比を
求めた。
【表】
この表からわかるように、CrとBを添加した
本発明合金は、比較合金にくらべて0.2%耐力、
硬さが低く、100集合度が高いことがわかる。 なお、比較合金No.12(36Ni−3Cr−残部Fe)は
特開昭59−59861号記載と同一成分範囲の合金で
ある。同公報によれば、Crの添加は強度改善・
硬度上昇に寄与し、36%Ni鋼に3%のCrを添加
すると硬度が著るしく上昇することが記載されて
いる。しかし本発明者らは比較合金No.12から明ら
かなように、これとは全く反対に、Crが0.2%耐
力と硬度の低下に寄与することを新たに知見し
た。さらにこのCrを添加した合金にBを添加す
ることにより100集合度を高めることができる
ことを新規に知見した。 (発明の効果) 本発明合金では従来合金にくらべ、熱膨張係数
は問題となるほど大きくはならず、このような1
00結晶面の高い集合度をもつような材料ではエ
ツチングによりシヤドウマスクの製造時にエツチ
ングスピードを速くすることができ、またエツチ
ングによるマスク孔の形状もきれいに仕上げるこ
とができる。またこのような0.2%耐力及び硬さ
の低下はエツチングにより製造したシヤドウマス
クのプレス加工時のスプリングバツクを減少さ
せ、金型へのなじみを大きくさせ、良好なプレス
加工形状が得られる。
本発明合金は、比較合金にくらべて0.2%耐力、
硬さが低く、100集合度が高いことがわかる。 なお、比較合金No.12(36Ni−3Cr−残部Fe)は
特開昭59−59861号記載と同一成分範囲の合金で
ある。同公報によれば、Crの添加は強度改善・
硬度上昇に寄与し、36%Ni鋼に3%のCrを添加
すると硬度が著るしく上昇することが記載されて
いる。しかし本発明者らは比較合金No.12から明ら
かなように、これとは全く反対に、Crが0.2%耐
力と硬度の低下に寄与することを新たに知見し
た。さらにこのCrを添加した合金にBを添加す
ることにより100集合度を高めることができる
ことを新規に知見した。 (発明の効果) 本発明合金では従来合金にくらべ、熱膨張係数
は問題となるほど大きくはならず、このような1
00結晶面の高い集合度をもつような材料ではエ
ツチングによりシヤドウマスクの製造時にエツチ
ングスピードを速くすることができ、またエツチ
ングによるマスク孔の形状もきれいに仕上げるこ
とができる。またこのような0.2%耐力及び硬さ
の低下はエツチングにより製造したシヤドウマス
クのプレス加工時のスプリングバツクを減少さ
せ、金型へのなじみを大きくさせ、良好なプレス
加工形状が得られる。
第1図は36%Ni合金にCrを添加したときの0.2
%耐力に及ぼす影響を示す図、第2図は36%Ni
−3%Cr合金にBを添加したときの100集合
度に及ぼす影響を示す図である。
%耐力に及ぼす影響を示す図、第2図は36%Ni
−3%Cr合金にBを添加したときの100集合
度に及ぼす影響を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 C0.009%以下、Si0.2%以下、Mn0.5%以下、
Ni30〜45%、Cr1.5〜6%、B0.001〜0.01%未満
を含有し、残部Feよりなるプレス成形性および
エツチング性に優れるFe−Ni系低熱膨張合金。 2 C0.009%以下、Si0.2%以下、Mn0.5%以下、
Ni30〜45%、Co4%以下、Cr1.5〜6%、B0.001
〜0.01%未満を含有し、残部Feよりなるプレス成
形性およびエツチング性に優れるFe−Ni系低熱
膨張合金。 3 C0.009%以下、Si0.2%以下、Mn0.5%以下、
Ni30〜45%、Cr1.5〜6%、B0.001〜0.01%未満
およびTaを0.005〜0.4%含有し、残部Feよりな
るプレス成形性およびエツチング性に優れるFe
−Ni系低熱膨張合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1483586A JPS62174353A (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | プレス成形性およびエツチング性に優れるFe−Ni系低熱膨張合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1483586A JPS62174353A (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | プレス成形性およびエツチング性に優れるFe−Ni系低熱膨張合金 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62174353A JPS62174353A (ja) | 1987-07-31 |
| JPH0456107B2 true JPH0456107B2 (ja) | 1992-09-07 |
Family
ID=11872085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1483586A Granted JPS62174353A (ja) | 1986-01-28 | 1986-01-28 | プレス成形性およびエツチング性に優れるFe−Ni系低熱膨張合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62174353A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2565058B2 (ja) * | 1992-07-06 | 1996-12-18 | 日本鋼管株式会社 | 黒化処理性に優れたシャドウマスク用Fe−Ni系合金冷延板およびその製造方法 |
| KR100244232B1 (en) | 1997-12-03 | 2000-02-01 | Lg Electronics Inc | Shadow mask for cathode ray tube and method of manufacturing thereof |
| JP2002038239A (ja) | 2000-07-24 | 2002-02-06 | Yamaha Metanikusu Kk | 磁気歪制御型合金板及びこれを用いたカラーブラウン管用部品並びに磁気歪制御型合金板の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62120432A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-06-01 | Nippon Mining Co Ltd | シヤドウマスクの製造方法 |
-
1986
- 1986-01-28 JP JP1483586A patent/JPS62174353A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62174353A (ja) | 1987-07-31 |
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