JPH0456675B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0456675B2 JPH0456675B2 JP57135417A JP13541782A JPH0456675B2 JP H0456675 B2 JPH0456675 B2 JP H0456675B2 JP 57135417 A JP57135417 A JP 57135417A JP 13541782 A JP13541782 A JP 13541782A JP H0456675 B2 JPH0456675 B2 JP H0456675B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- unevenness
- transparent
- shadow mask
- concave
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、小型電気機器製品などの被処理体
の表面に、紫外線もしくは電子線硬化性樹脂で所
望形状の凹凸を形成する方法に関する。
の表面に、紫外線もしくは電子線硬化性樹脂で所
望形状の凹凸を形成する方法に関する。
被処理体の表面に種々形状の凹凸即ち立体的な
浮彫模様などを形成する方法としては、一般に、
被処理体がプラスチツク成形品の場合は被処理体
の成形金型を用いて被処理体を成形すると同時に
その表面に凹凸を一体に成形している。
浮彫模様などを形成する方法としては、一般に、
被処理体がプラスチツク成形品の場合は被処理体
の成形金型を用いて被処理体を成形すると同時に
その表面に凹凸を一体に成形している。
しかし、上記した方法では凹凸の形状いかんに
よつては、被処理体成形品の肉厚が不均一とな
り、ヒケ（凹み）発生などの成形不良を招きやす
いばかりか、金型加工の製作が厄介であり、加工
コスト高となる。とくに、凹凸の表面に更に小さ
い凹凸を形成する場合には金型製作がよく困難と
なる。
よつては、被処理体成形品の肉厚が不均一とな
り、ヒケ（凹み）発生などの成形不良を招きやす
いばかりか、金型加工の製作が厄介であり、加工
コスト高となる。とくに、凹凸の表面に更に小さ
い凹凸を形成する場合には金型製作がよく困難と
なる。
この発明の目的は、かかる不具合な問題を解消
し、被処理体の表面に、紫外線もしくは電子線硬
化性樹脂で所望形状の凹凸を成形金型を用いるこ
となく簡単に形成できる方法を提供しようとする
ものである。
し、被処理体の表面に、紫外線もしくは電子線硬
化性樹脂で所望形状の凹凸を成形金型を用いるこ
となく簡単に形成できる方法を提供しようとする
ものである。
この発明の方法では、図示例に示すように、被
処理体１の表面に紫外線もしくは電子線硬化性樹
脂を塗布して塗膜２を形成する工程と、未硬化状
態下で該塗膜２の表面に、内面に凹凸６を有し、
かつ紫外線もしくは電子線を透過させる透過部４
と紫外線もしくは電子線を透過させない非透過部
５とを有するシヤドウマスク兼凹凸型板３を重
ね、該凹凸型板３の表面に紫外線もしくは電子線
を照射して塗膜２の前記透過部４と一致する部分
４ａを硬化させる工程と、塗膜硬化後にシヤドウ
マスク兼凹凸型板３を塗膜２から離型する工程
と、離型後塗膜２の前記非透過部５と一致する部
分５ａを溶剤で除去する工程とからなる。
処理体１の表面に紫外線もしくは電子線硬化性樹
脂を塗布して塗膜２を形成する工程と、未硬化状
態下で該塗膜２の表面に、内面に凹凸６を有し、
かつ紫外線もしくは電子線を透過させる透過部４
と紫外線もしくは電子線を透過させない非透過部
５とを有するシヤドウマスク兼凹凸型板３を重
ね、該凹凸型板３の表面に紫外線もしくは電子線
を照射して塗膜２の前記透過部４と一致する部分
４ａを硬化させる工程と、塗膜硬化後にシヤドウ
マスク兼凹凸型板３を塗膜２から離型する工程
と、離型後塗膜２の前記非透過部５と一致する部
分５ａを溶剤で除去する工程とからなる。
上記工程を経ることにより被処理体１の表面に
紫外線もしくは電子線照射で硬化する樹脂からな
る凸状の部分４ａと未硬化のままで除去される凹
状の部分５ａとからなる第１凹凸９が形成される
と同時に、第１凹凸９の表面にシヤドウマスク兼
凹凸型板３の内面の凹凸６により第２凹凸７が型
付けされる。
紫外線もしくは電子線照射で硬化する樹脂からな
る凸状の部分４ａと未硬化のままで除去される凹
状の部分５ａとからなる第１凹凸９が形成される
と同時に、第１凹凸９の表面にシヤドウマスク兼
凹凸型板３の内面の凹凸６により第２凹凸７が型
付けされる。
この発明の方法によれば、被処理体１の表面に
凹凸を形成するに際し紫外線もしくは電子線硬化
性樹脂を用いるので、極めて短時間に硬化し生産
性を向上できる。またその樹脂の硬化に熱を必要
としないため、加熱を不適当とする被処理体１に
も凹凸を良好に形成できる。とくに、内面に凹凸
６を有し、かつ紫外線もしくは電子線を透過させ
る透過部４と紫外線もしくは電子線を透過させな
い非透過部５とを有するシヤドウマスク兼凹凸型
板３を用いることにより、被処理体１の表面に第
１凹凸９を形成すると同時にその表面に第２凹凸
７を型付けすることができるため、成形金型を用
いて凹凸を形成するよりも簡単にかつ低コストで
製造できる。
凹凸を形成するに際し紫外線もしくは電子線硬化
性樹脂を用いるので、極めて短時間に硬化し生産
性を向上できる。またその樹脂の硬化に熱を必要
としないため、加熱を不適当とする被処理体１に
も凹凸を良好に形成できる。とくに、内面に凹凸
６を有し、かつ紫外線もしくは電子線を透過させ
る透過部４と紫外線もしくは電子線を透過させな
い非透過部５とを有するシヤドウマスク兼凹凸型
板３を用いることにより、被処理体１の表面に第
１凹凸９を形成すると同時にその表面に第２凹凸
７を型付けすることができるため、成形金型を用
いて凹凸を形成するよりも簡単にかつ低コストで
製造できる。
以下、この発明の実施例を図面に基づき説明す
る。
る。
この実施例では、第３図に示すように被処理体
１の表面に浮彫状の文字、記号、図形等の第１凹
凸９を形成すると同時に、第１凹凸９の表面に虹
彩色を現出する微細な第２凹凸７を形成する。
１の表面に浮彫状の文字、記号、図形等の第１凹
凸９を形成すると同時に、第１凹凸９の表面に虹
彩色を現出する微細な第２凹凸７を形成する。
第１図および第２図において、まず、被処理体
１の表面に、透明な紫外線硬化性樹脂をコーテイ
ングして塗膜２を形成し、次いで該塗膜２が未硬
化状態の下で該塗膜２の表面にシヤドウマスク兼
凹凸型板３を重ね合わす。
１の表面に、透明な紫外線硬化性樹脂をコーテイ
ングして塗膜２を形成し、次いで該塗膜２が未硬
化状態の下で該塗膜２の表面にシヤドウマスク兼
凹凸型板３を重ね合わす。
シヤドウマスク兼凹凸型板３は、透明板の表面
に、所望の文字、記号、図形あるいは塗膜必要領
域を区画するようなパターンマスクを形成すべく
透明板のままにして紫外線を透過させる透過部４
と、紫外線を透過させないよう着色不透明にする
非透過部５とを設けるとともに、透明板の内面全
体もしくは透過部４の内面側のみに多数の小さい
凹凸６を該設してある。
に、所望の文字、記号、図形あるいは塗膜必要領
域を区画するようなパターンマスクを形成すべく
透明板のままにして紫外線を透過させる透過部４
と、紫外線を透過させないよう着色不透明にする
非透過部５とを設けるとともに、透明板の内面全
体もしくは透過部４の内面側のみに多数の小さい
凹凸６を該設してある。
このシヤドウマスク兼凹凸型板３を未硬化な塗
膜２の表面に重ね合せてから紫外線を照射する。
すると、塗膜２はこの表面がシヤドウマスク兼凹
凸型板３の内面の凹凸６で第２凹凸７に型付けさ
れるとともに、透過部４に一致する部分４ａが紫
外線照射で硬化され、非透過部分５に一致する部
分５ａが未硬化な状態のまま残る。
膜２の表面に重ね合せてから紫外線を照射する。
すると、塗膜２はこの表面がシヤドウマスク兼凹
凸型板３の内面の凹凸６で第２凹凸７に型付けさ
れるとともに、透過部４に一致する部分４ａが紫
外線照射で硬化され、非透過部分５に一致する部
分５ａが未硬化な状態のまま残る。
しかる後、シヤドウマスク兼凹凸型板３を離型
し、溶剤で塗膜２の未硬化な部分５ａを洗浄除去
すれば、第３図および第４図に示すごとく被処理
体１の表面に、第２凹凸７が表面に型付けされた
目的の文字、記号あるいは図形等の塗膜必要領域
に合つた第１凹凸９が一体に形成される。
し、溶剤で塗膜２の未硬化な部分５ａを洗浄除去
すれば、第３図および第４図に示すごとく被処理
体１の表面に、第２凹凸７が表面に型付けされた
目的の文字、記号あるいは図形等の塗膜必要領域
に合つた第１凹凸９が一体に形成される。
ここで被処理体１の具体例としては、第５図に
示すように電気かみそり製品が挙げられ、この製
品のケース表面はABS樹脂で形成される。この
表面に、例えばアクリロイル基を分子中に持つア
クリル系オリゴマーを主体とする光重合性樹脂な
どの紫外線硬化性樹脂による「ABC」や
「PUSH」の文字の第１凹凸９が上記した方法で
一体形成される。その第１凹凸９の表面に型付け
された第２凹凸７は筋目状に形成し、１本の凸条
の断面形状は三角形とし、その本数は大体１mmあ
たり300〜500本程度とする。
示すように電気かみそり製品が挙げられ、この製
品のケース表面はABS樹脂で形成される。この
表面に、例えばアクリロイル基を分子中に持つア
クリル系オリゴマーを主体とする光重合性樹脂な
どの紫外線硬化性樹脂による「ABC」や
「PUSH」の文字の第１凹凸９が上記した方法で
一体形成される。その第１凹凸９の表面に型付け
された第２凹凸７は筋目状に形成し、１本の凸条
の断面形状は三角形とし、その本数は大体１mmあ
たり300〜500本程度とする。
このようにして得られた第１凹凸９の場合には
これに光が当ると、鮮やかな色に輝き、見る方向
によつてその色が虹の色のようにかわる。これは
光の分散による。すなわち、光線は第２凹凸７に
よつて屈折と反射とを受けてマルチプリズムと同
じように光を７色のスペクトルに分けるので、第
２凹凸７を出た光は７色の虹となつてあらわれる
のである。
これに光が当ると、鮮やかな色に輝き、見る方向
によつてその色が虹の色のようにかわる。これは
光の分散による。すなわち、光線は第２凹凸７に
よつて屈折と反射とを受けてマルチプリズムと同
じように光を７色のスペクトルに分けるので、第
２凹凸７を出た光は７色の虹となつてあらわれる
のである。
なお、第２凹凸７は図示する平行な筋目以外
に、第１凹凸９の表面に形成できるものであれば
多角形、あるいは半球形状のように整列された凹
凸や不揃いな凹凸に形成してもよい。
に、第１凹凸９の表面に形成できるものであれば
多角形、あるいは半球形状のように整列された凹
凸や不揃いな凹凸に形成してもよい。
勿論、第２凹凸７が不揃いな場合はつや消し状
態となる。
態となる。
紫外線硬化性樹脂に代え、電子線硬化性樹脂で
あつてもよく、また紫外線もしくは電子線硬化性
樹脂は半透明体であつてもよい。
あつてもよく、また紫外線もしくは電子線硬化性
樹脂は半透明体であつてもよい。
図面はこの発明の一実施例を示すもので、第１
図は被処理体の表面の塗膜にシヤドウマスク兼凹
凸型板を重ねた状態を示す斜視図、第２図は紫外
線照射状態を示す断面図、第３図は被処理体の表
面に凹凸が形成された状態を示す斜視図、第４図
は凹凸の断面図、第５図は凹凸の施された電気か
みそりの斜視図である。 １……被処理体、２……塗膜、３……シヤドウ
マスク兼凹凸型板、４……透過部、５……非透過
部、６……シヤドウマスク兼凹凸型板の凹凸、７
……第２凹凸、９……第１凹凸。
図は被処理体の表面の塗膜にシヤドウマスク兼凹
凸型板を重ねた状態を示す斜視図、第２図は紫外
線照射状態を示す断面図、第３図は被処理体の表
面に凹凸が形成された状態を示す斜視図、第４図
は凹凸の断面図、第５図は凹凸の施された電気か
みそりの斜視図である。 １……被処理体、２……塗膜、３……シヤドウ
マスク兼凹凸型板、４……透過部、５……非透過
部、６……シヤドウマスク兼凹凸型板の凹凸、７
……第２凹凸、９……第１凹凸。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被処理体１の表面に紫外線もしくは電子線硬
化性樹脂を塗布して塗膜２を形成する工程と、 未硬化状態下で該塗膜２の表面に、内面に凹凸
６を有し、かつ紫外線もしくは電子線を透過させ
る透過部４と紫外線もしくは電子線を透過させな
い非透過部５とを有するシヤドウマスク兼凹凸型
板３を重ね、該凹凸型板３の表面に紫外線もしく
は電子線を照射して塗膜２の前記透過部４と一致
する部分４ａを硬化させる工程と、 塗膜硬化後にシヤドウマスク兼凹凸型板３を塗
膜２から離型する工程と、 離型後塗膜２の前記非透過部５と一致する部分
５ａを溶剤で除去する工程とからなることを特徴
とする、被処理体の表面に凹凸を形成する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13541782A JPS5924729A (ja) | 1982-08-02 | 1982-08-02 | 被処理体の表面に凹凸を形成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13541782A JPS5924729A (ja) | 1982-08-02 | 1982-08-02 | 被処理体の表面に凹凸を形成する方法 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15267291A Division JPH04261898A (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | 凹凸の転写方法 |
| JP15267191A Division JPH04270634A (ja) | 1991-05-27 | 1991-05-27 | トップコート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5924729A JPS5924729A (ja) | 1984-02-08 |
| JPH0456675B2 true JPH0456675B2 (ja) | 1992-09-09 |
Family
ID=15151241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13541782A Granted JPS5924729A (ja) | 1982-08-02 | 1982-08-02 | 被処理体の表面に凹凸を形成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5924729A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61266245A (ja) * | 1985-05-21 | 1986-11-25 | 大日本印刷株式会社 | 表面強化エンボス化粧シ−トの製造方法 |
| JP2780034B2 (ja) * | 1989-01-30 | 1998-07-23 | 大日本印刷株式会社 | 凹凸模様の付与方法 |
| JPH0351993A (ja) * | 1989-07-19 | 1991-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ホームセキュリティ装置 |
| JP2001029878A (ja) * | 1999-07-27 | 2001-02-06 | Takeuchi Kogyo Kk | 塗装体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4945946A (ja) * | 1972-09-09 | 1974-05-02 |
-
1982
- 1982-08-02 JP JP13541782A patent/JPS5924729A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5924729A (ja) | 1984-02-08 |
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