JPH0456706A - イリジウム焼結体の製造方法 - Google Patents

イリジウム焼結体の製造方法

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JPH0456706A
JPH0456706A JP2165276A JP16527690A JPH0456706A JP H0456706 A JPH0456706 A JP H0456706A JP 2165276 A JP2165276 A JP 2165276A JP 16527690 A JP16527690 A JP 16527690A JP H0456706 A JPH0456706 A JP H0456706A
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iridium
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sintering
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Koichi Sakairi
弘一 坂入
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Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Tanaka Precious Metal Technologies Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ルツボ、電極材料及び装飾品として用いられ
るイリジウム焼結体の製造方法に関する。
(従来の技術) 従来からルツボ及び電極材料等を作る場合には、貴金属
の中でも高い融点と優れた耐蝕性を有するイリジウムが
用いられてきたが、室温での塑性加工が困難である為、
ビーム溶解イリジウムを熱間で加工する方法が採られて
きた。
(発明が解決しようとする課題) ところで、上記のビーム溶解イリジウムを熱間加工を行
うと、加工金型や圧延ロールなどによる表面汚染が生じ
、これを除去する作業が必要であった。このような表面
汚染層の除去作業は歩留りの低下をもたらすと共に汚染
イリジウムの回収、精製作業が困難であった。
一方、粉末焼結法による製造方法も用いられてきたが、
ビーム溶解法と比較して真比重が得られにくく、表面粗
度も著しく荒いものであった。
そこで本発明は、溶解、圧延法のような表面汚染が生ぜ
ず、また粉末焼結法のように表面粗度が著しく荒くなる
ことがないイリジウム焼結体の製造方法を提供しようと
するものである。
(課題を解決するための手段) 上記課題を解決するための本発明のイリジウム焼結体の
製造方法は、化学的に析出沈降させたイリジウム粉末を
H2気流中400〜800℃の温度範囲で処理する工程
と、その処理をしたイリジウム粉末を圧力0.5〜5t
on/crlで金型にて成形する工程と、そのイリジウ
ム粉末成形体をH2又は真空中800〜1400℃にて
予備焼成した後焼結を行う工程と、そのイリジウム焼結
体を該焼結体とのクリアランスを0.02〜0.3mm
に設定した金型を用いて再圧縮する工程との諸工程から
なるものである。
本発明のイリジウム焼結体の製造方法において、化学的
に析出沈降させたイリジウム粉末をH2気流中400〜
800℃の温度範囲で処理するとしたのは、化学沈降法
による粉末は一次粒子径が細か(表面エネルギーが多い
ために焼結を促進するものであるが、反面吸着物が多い
ので、これを除去することが必要であるからで、こ、二
で吸着物除去をH2気流中400〜800℃で行うと限
定した理由は、400℃未満では吸着物の除去が不完全
でイリジウム焼結体表面にふ(れが生じ、800℃を超
えるとイリジウム粉末の焼結の進行がみられ、イリジウ
ム粉末が粗大化するからである。
また上記のように処理したイリジウム粉末を圧力0.5
〜5ton/airで金型にて成形するとしたのは、0
,5ton/cr1未満の圧力では金型離型時に粉末が
くずれ易くなり、5ton/cdを超えると成形時にと
じ込められたガスが焼結時に抜けきらず、焼結密度の低
下をもたらすからである。
さらに前記のように成形したイリジウム粉末成形体をH
2又は真空中800−1400℃にて予備焼成した後焼
結を行うとしたのは、まず予備焼成で粉末の吸着物を完
全に除去すると共に成形時のまき込みガスを抜くためで
あり、ここで予備焼成温度を800〜1400℃と限定
した理由は、800℃未満では上記効果が薄く、140
0℃を超えると焼成の進行が早すぎるためにガスが完全
に抜けきらないからである。
尚前述の最初の工程における吸着物除去の雰囲気と第3
の工程における予備焼成の雰囲気をH2又は真空中とし
たのは、酸化性ガスではイリジウムが酸化し、不活性ガ
スでは粉末の吸着物を分解除去することが難しいからで
ある。
さらに前記のように予備焼成した後焼成したイリジウム
焼結体を、該焼結体とのクリアランスを0.02〜0.
3Mに設定した金型を用いて再圧縮するとしたのは、再
圧縮をすることで焼結体表面の面粗度を少なくするため
で、金型とのクリアランスが0.02mm未満ではイリ
ジウム焼結体が金型に入りにくくなり、0.3mmを超
えるとイリジウムの伸びが小さいために再圧縮中に焼結
体が破壊してしまうからである。
(作用) 上記本発明のイリジウム焼結体の製造方法は、化学的に
沈降析出させたイリジウム粉末をH2気流中400〜8
00℃の温度範囲で処理するので、吸着物の除去が十分
に行われてイリジウム粉末の表面にふくれが生ぜず、し
かもイリジウム粉末の焼結の進行が見られず、粗大化す
ることがない。またこのように処理したイリジウム粉末
を圧力0.5〜5ton/cotで金型にて成形するの
で、金型離型時にイリジウム粉末が(ずれず、且つ成形
時にとじ込められるガスを次工程の予備焼成時に抜くこ
とができ、焼結密度を低下することがない。さらにこの
ように成形したイリジウム粉末成形体をH2又は真空中
800〜1400℃にて予備焼成した後焼結を行うので
、予備焼成で粉末の吸着物が完全に除去され、且つ前記
成形時のまき込みガスを完全に抜(ことができ、良好な
焼結が行われる。そしてこのように予備焼成温度結した
イリジウム焼結体を、該焼結体とのクリアランスを0.
02〜0.3mmに設定した金型を用いて再圧縮するの
で、焼結体表面の面粗度を少な(できる。かくして表面
汚染が無く、滑らかな表面状態で焼結密度の十分なイリ
ジウム焼結体が得られる。
(実施例) 本発明のイリジウム焼結体の製造方法の一実施例を比較
例と共に説明する。
下記の表に各工程の条件により直径20mm、重さ10
gのディスク状イリジウム焼結体を製作した後、焼結密
度を測定した。ここで使用した化学沈降法によるイリジ
ウム粉末は純度99.99%以上の平均粒子径5μmの
ものを用い、 で行った。
(以下余白) 焼結は2000°Cの温度 上記の表で判るように比較例1〜3及び5〜9は焼結密
度が低く、実施例と比較例4では、真密度22.4 g
 /cut’に近い焼結密度が得られた。この実施例と
比較例4のサンプルをクリアランス0.farmと0.
4mmの再圧縮金型を用い、10ton/cofの圧力
で圧縮したところ、比較例4のサンプルは破壊したか、
実施例のサンプルは表面粗度1μmの滑らかな表面状態
が得られた。
(発明の効果) 以上の通り本発明のイリジウム焼結体の製造方法によれ
ば、表面汚染が無く、表面粗度が低く、滑らかな表面状
態で焼結密度の高いイリジウム焼結体を得ることができ
る。
出願人  田中貴金属工業株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)化学的に析出沈降させたイリジウム粉末をH_2気
    流中400〜800℃の温度範囲で処理する工程と、そ
    の処理をしたイリジウム粉末を圧力0.5〜5ton/
    cm^2で金型にて成形する工程と、そのイリジウム粉
    末成形体をH_2又は真空中800〜1400℃にて予
    備焼成した後焼結を行う工程と、そのイリジウム焼結体
    を該焼結体とのクリアランスを0.02〜0.3mmに
    設定した金型を用いて再圧縮する工程との諸工程からな
    るイリジウム焼結体の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2017099635A1 (ru) * 2015-12-09 2017-06-15 Общество С Ограниченной Ответственностью Научно-Производственное Объединение "Металлы Урала" Способ получения изделий из металлического иридия

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EP3388170A4 (de) * 2015-12-09 2019-07-03 Obschestvo S Ogranichennoi Otvetstvennostyu Nauchno - Proizvodstvennoe Ob''Edinenie ''Metally Urala'' Verfahren zur herstellung von artikeln aus iridiummetall
US10717150B2 (en) 2015-12-09 2020-07-21 OOO NPO “Metally Urala” Method for producing articles from iridium metal

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JP2902060B2 (ja) 1999-06-07

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