JPH0459897B2 - - Google Patents
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- JPH0459897B2 JPH0459897B2 JP61013570A JP1357086A JPH0459897B2 JP H0459897 B2 JPH0459897 B2 JP H0459897B2 JP 61013570 A JP61013570 A JP 61013570A JP 1357086 A JP1357086 A JP 1357086A JP H0459897 B2 JPH0459897 B2 JP H0459897B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Surgical Instruments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、衝撃波管用の渦巻き形フラツトコイ
ルとその製作方法に関する。本発明によるフラツ
トコイルは特に患者の結石たとえば腎石を破砕す
るための衝撃波管用に使用される。
ルとその製作方法に関する。本発明によるフラツ
トコイルは特に患者の結石たとえば腎石を破砕す
るための衝撃波管用に使用される。
この種の衝撃波管はかなり前から知られている
(刊行物「アクステイツシエ バイヘフテ
“Akustische Beihefte)”」1962年発行、第1号、
第185頁〜第202頁参照)。この衝撃波管は、たと
えば西独特許出願公開第3312014号公報に開示さ
れているような新しい診察法に基づいて、患者の
身体内の結石を破砕するための医科技術において
使用される。西独特許出願公開第3312014号公報
においてはこのような目的に使用可能な衝撃波管
が開示されている。約100バールというような高
い圧力パルスのために、衝撃波放出の都度かかる
衝撃波管の材料は強く応力を受ける。特に放電コ
イルとダイヤフラムとは高い機械力を受ける。西
独特許出願公開第3312014号公報においては、球
欠状コイルが設けられているが、その球欠形状は
たとえばフラツトコイルをくり抜くような付加的
な加工によつて作られる。
(刊行物「アクステイツシエ バイヘフテ
“Akustische Beihefte)”」1962年発行、第1号、
第185頁〜第202頁参照)。この衝撃波管は、たと
えば西独特許出願公開第3312014号公報に開示さ
れているような新しい診察法に基づいて、患者の
身体内の結石を破砕するための医科技術において
使用される。西独特許出願公開第3312014号公報
においてはこのような目的に使用可能な衝撃波管
が開示されている。約100バールというような高
い圧力パルスのために、衝撃波放出の都度かかる
衝撃波管の材料は強く応力を受ける。特に放電コ
イルとダイヤフラムとは高い機械力を受ける。西
独特許出願公開第3312014号公報においては、球
欠状コイルが設けられているが、その球欠形状は
たとえばフラツトコイルをくり抜くような付加的
な加工によつて作られる。
しかしながら、そのような加工方法は当然材料
費用がかかり、しかもたとえば精度等に関して要
求の高い加工工具を必要とする。
費用がかかり、しかもたとえば精度等に関して要
求の高い加工工具を必要とする。
そこで本発明は、任意の渦巻き形状を有するフ
ラツトコイルを簡単な手段にて製作することがで
きるような、冒頭で述べた種類の製作方法および
フラツトコイルを提供することを目的とする。
ラツトコイルを簡単な手段にて製作することがで
きるような、冒頭で述べた種類の製作方法および
フラツトコイルを提供することを目的とする。
この目的を達成するために、本発明は、渦巻き
形の遮蔽膜が支持膜とこの支持膜の上に位置する
導電性膜と感光性上部膜とを有するプリント板に
ホトグラフイツク(写真術)的に転写され、上部
膜が現像され、転写された遮蔽膜の渦巻き路の間
が導電性膜からエツチング除去され、導電性膜に
残された渦巻き路が電気鍍金により増強され、最
後にプリント板がフラツトコイル支持体に貼着さ
れることを特徴とする。
形の遮蔽膜が支持膜とこの支持膜の上に位置する
導電性膜と感光性上部膜とを有するプリント板に
ホトグラフイツク(写真術)的に転写され、上部
膜が現像され、転写された遮蔽膜の渦巻き路の間
が導電性膜からエツチング除去され、導電性膜に
残された渦巻き路が電気鍍金により増強され、最
後にプリント板がフラツトコイル支持体に貼着さ
れることを特徴とする。
本発明による製作方法によつて製作されたフラ
ツトコイルは、支持膜と、銅から成り支持膜に固
定された渦巻きと、音響反射性を有する非導電性
材料から成りフラツトコイル支持体として備えら
れる板状体とを備え、この板状体には渦巻きおよ
び(または)支持膜が貼着されることを特徴とす
る。
ツトコイルは、支持膜と、銅から成り支持膜に固
定された渦巻きと、音響反射性を有する非導電性
材料から成りフラツトコイル支持体として備えら
れる板状体とを備え、この板状体には渦巻きおよ
び(または)支持膜が貼着されることを特徴とす
る。
本発明による製作方法の利点は、任意の渦巻き
形状を有するコイルを何ら問題なく製作すること
ができる点である。このために、たとえば旋盤ま
たはフライス盤のような費用のかかる機械的な加
工工具を必要としない。
形状を有するコイルを何ら問題なく製作すること
ができる点である。このために、たとえば旋盤ま
たはフライス盤のような費用のかかる機械的な加
工工具を必要としない。
本発明による製作方法の特に有利な実施態様に
よれば、プリント板は渦巻きを支持する表面がフ
ラツトコイル支持体に貼着される。このようにす
ることによつて、衝撃波管においてはプリント板
の非導電性部分を、同時にコイルとこのコイルの
前に支持されているダイヤフラムとの間の絶縁膜
として使用することができる。それにより、衝撃
波管の主要構成要素つまりフラツトコイル、絶縁
膜およびダイヤフラムの取付けは著しく簡単化さ
れる。
よれば、プリント板は渦巻きを支持する表面がフ
ラツトコイル支持体に貼着される。このようにす
ることによつて、衝撃波管においてはプリント板
の非導電性部分を、同時にコイルとこのコイルの
前に支持されているダイヤフラムとの間の絶縁膜
として使用することができる。それにより、衝撃
波管の主要構成要素つまりフラツトコイル、絶縁
膜およびダイヤフラムの取付けは著しく簡単化さ
れる。
次に本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説
明する。
明する。
簡略化のため図面には個々の膜厚は実際の寸法
通りに示されていない。このことは以下の説明か
ら明らかである。
通りに示されていない。このことは以下の説明か
ら明らかである。
第1図において1は、主要構成要素が渦巻き形
コイル4(第3図および第4図参照)を有するフ
ラツトコイル支持体3と絶縁膜5とダイヤフラム
7とから成る衝撃波管全体を示す。コイル4と絶
縁膜5とダイヤフラム7との保持手段は示されて
いない。
コイル4(第3図および第4図参照)を有するフ
ラツトコイル支持体3と絶縁膜5とダイヤフラム
7とから成る衝撃波管全体を示す。コイル4と絶
縁膜5とダイヤフラム7との保持手段は示されて
いない。
衝撃波を発生するために、フラツトコイル4に
は高電圧パルスが短期間与えられる。コイル4と
ダイヤフラム7との電磁的相互作用に基づいて、
ダイヤフラム7はコイル4から突き離される。そ
れによりダイヤフラム7が衝撃波を発生する。衝
撃波管1が良好な機能を発揮しかつ所定の望まし
い波形が作成されるようにするためには、コイル
4は規定された形状を持たなければならない。コ
イル4の表面は、たとえば平面状衝撃波を発生し
たい場合には平面状に形成され、また発生された
衝撃波が一点に集束するように走行させたい場合
には凹面状球欠形に形成され得る。コイル4を規
定された形状に形成することのほかに、渦巻き路
(渦巻き形コイルを構成する導体)間の絶縁がた
とえば空気を包含することなく良好に形成される
ことは非常に重要である。コイル4に印加される
電圧パルスは10〜30kV程度の大きさである。
は高電圧パルスが短期間与えられる。コイル4と
ダイヤフラム7との電磁的相互作用に基づいて、
ダイヤフラム7はコイル4から突き離される。そ
れによりダイヤフラム7が衝撃波を発生する。衝
撃波管1が良好な機能を発揮しかつ所定の望まし
い波形が作成されるようにするためには、コイル
4は規定された形状を持たなければならない。コ
イル4の表面は、たとえば平面状衝撃波を発生し
たい場合には平面状に形成され、また発生された
衝撃波が一点に集束するように走行させたい場合
には凹面状球欠形に形成され得る。コイル4を規
定された形状に形成することのほかに、渦巻き路
(渦巻き形コイルを構成する導体)間の絶縁がた
とえば空気を包含することなく良好に形成される
ことは非常に重要である。コイル4に印加される
電圧パルスは10〜30kV程度の大きさである。
コイル4を備えたフラツトコイル支持体3の製
作は円形状セラミツク板から出発する。この円板
はたとえば155mmの直径の際には40mmの厚さを有
する。しかしながら上述の方法を実施する場合、
15mmの厚さの際にはたとえば60mmの直径の小さな
円板も同様に製作される。セラミツクから成りフ
ラツトコイル支持体3として使用されるこの円板
のほかに、プリント板9が他の出発材料として用
いられる。このプリント板9はコイル4を製作す
るために備えられる。プリント板9は好適にはポ
リイミドから成る非導電性支持膜11から構成さ
れている。このポリイミド膜は約200μmの厚さ
を有することができる。支持膜11の一方の面に
は、導電性物質から成る薄膜13、特に約7μm
の厚さの銅膜が備えられている。この銅膜13上
にはさらに感光性上部膜15が設けられている。
作は円形状セラミツク板から出発する。この円板
はたとえば155mmの直径の際には40mmの厚さを有
する。しかしながら上述の方法を実施する場合、
15mmの厚さの際にはたとえば60mmの直径の小さな
円板も同様に製作される。セラミツクから成りフ
ラツトコイル支持体3として使用されるこの円板
のほかに、プリント板9が他の出発材料として用
いられる。このプリント板9はコイル4を製作す
るために備えられる。プリント板9は好適にはポ
リイミドから成る非導電性支持膜11から構成さ
れている。このポリイミド膜は約200μmの厚さ
を有することができる。支持膜11の一方の面に
は、導電性物質から成る薄膜13、特に約7μm
の厚さの銅膜が備えられている。この銅膜13上
にはさらに感光性上部膜15が設けられている。
第2図にはフラツトコイル支持体3と第1およ
び第2の工程に基づいて加工されたプリント板9
とが示されている。感光性上部膜15の種類に応
じて、ポジテイブまたはネガテイブ製法による渦
巻き形状を含む遮蔽膜(図示されていない)を載
置し、次に感光性膜15のその遮蔽膜によつて覆
われていない部分に露光を行い、渦巻き路13a
の間の間隙の現像およびエツチング除去を行うこ
とによつて、第2図に示されたプリント板9が構
成される。このプリント板9は支持膜11ともと
もとあつた銅膜13の部分とから構成されてい
る。これにより渦巻き路13aは渦巻き形のフラ
ツトコイル4を形成する。
び第2の工程に基づいて加工されたプリント板9
とが示されている。感光性上部膜15の種類に応
じて、ポジテイブまたはネガテイブ製法による渦
巻き形状を含む遮蔽膜(図示されていない)を載
置し、次に感光性膜15のその遮蔽膜によつて覆
われていない部分に露光を行い、渦巻き路13a
の間の間隙の現像およびエツチング除去を行うこ
とによつて、第2図に示されたプリント板9が構
成される。このプリント板9は支持膜11ともと
もとあつた銅膜13の部分とから構成されてい
る。これにより渦巻き路13aは渦巻き形のフラ
ツトコイル4を形成する。
第3図においては、フラツトコイル支持体3の
ほかに、上述の現像およびエツチング工程の後に
電気鍍金工程によつて約7μmからたとえば約
150μmの全厚に増強された渦巻き形銅膜13が
示されている。このようにして作られた渦巻き路
13aを有する渦巻きは、個々の渦巻き路13a
が充分な間隔を有する場合には、衝撃波発生の際
に高電圧衝撃および高電流衝撃に耐えることがで
きる。
ほかに、上述の現像およびエツチング工程の後に
電気鍍金工程によつて約7μmからたとえば約
150μmの全厚に増強された渦巻き形銅膜13が
示されている。このようにして作られた渦巻き路
13aを有する渦巻きは、個々の渦巻き路13a
が充分な間隔を有する場合には、衝撃波発生の際
に高電圧衝撃および高電流衝撃に耐えることがで
きる。
第4図においては、フラツトコイル支持体3と
集積化コイル4との完成装置が示されている。渦
巻き形銅膜13の間の間隙には合成樹脂17が充
填されている。コイル4はフラツトコイル支持体
3の端面に接着されている。コイル4をフラツト
コイル支持体3に良好に接着し、かつ上記間隙合
成樹脂を充填するために、同様に1つの作業工程
において、フラツトコイル支持体3の端面全体に
合成樹脂を塗布することができる。
集積化コイル4との完成装置が示されている。渦
巻き形銅膜13の間の間隙には合成樹脂17が充
填されている。コイル4はフラツトコイル支持体
3の端面に接着されている。コイル4をフラツト
コイル支持体3に良好に接着し、かつ上記間隙合
成樹脂を充填するために、同様に1つの作業工程
において、フラツトコイル支持体3の端面全体に
合成樹脂を塗布することができる。
プリント板9は原理的にはフラツトコイル支持
体3に対して支持膜11でもつてあるいは膜13
でもつて接着することができる。この第2の実施
例の利点は、コイル4をダイヤフラム7から電気
的に絶縁するために、支持膜11を同時に絶縁膜
5として使用することができることである。
体3に対して支持膜11でもつてあるいは膜13
でもつて接着することができる。この第2の実施
例の利点は、コイル4をダイヤフラム7から電気
的に絶縁するために、支持膜11を同時に絶縁膜
5として使用することができることである。
フラツトコイル支持体3用の材料としては特に
酸化アルミニウム・セラミツクが適し、その場合
にはエポキシ樹脂を充填しても充填しなくても良
好な結果が得られる。
酸化アルミニウム・セラミツクが適し、その場合
にはエポキシ樹脂を充填しても充填しなくても良
好な結果が得られる。
以上に説明したように、本発明によれば、任意
の渦巻き形状を有するフラツトコイルを何ら問題
なく製作することができる。しかもこのために、
たとえば旋盤またはフライス盤のような費用のか
かる機械的な加工工具を必要としない。
の渦巻き形状を有するフラツトコイルを何ら問題
なく製作することができる。しかもこのために、
たとえば旋盤またはフライス盤のような費用のか
かる機械的な加工工具を必要としない。
第1図はコイル支持体と絶縁膜に接合されるプ
リント板とダイヤフラムとを有する衝撃波管を示
す分解図、第2図はコイル支持体と渦巻き路の間
の間隙がエツチング除去されているプリント板と
を示す概略図、第3図はコイル支持体と電気鍍金
によつて補強された渦巻き路とを示す概略図、第
4図はコイル支持体とプリント板から製作されて
そのコイル支持体に接着された渦巻き形コイルと
から成る完成されたフラツトコイル装置を示す概
略図である。 1……衝撃波管、3……フラツトコイル支持
体、4……コイル、5……絶縁膜、7……ダイヤ
フラム、9……プリント板、11……支持膜、1
3……銅膜、13a……渦巻き路、15……感光
性上部膜、17……合成樹脂。
リント板とダイヤフラムとを有する衝撃波管を示
す分解図、第2図はコイル支持体と渦巻き路の間
の間隙がエツチング除去されているプリント板と
を示す概略図、第3図はコイル支持体と電気鍍金
によつて補強された渦巻き路とを示す概略図、第
4図はコイル支持体とプリント板から製作されて
そのコイル支持体に接着された渦巻き形コイルと
から成る完成されたフラツトコイル装置を示す概
略図である。 1……衝撃波管、3……フラツトコイル支持
体、4……コイル、5……絶縁膜、7……ダイヤ
フラム、9……プリント板、11……支持膜、1
3……銅膜、13a……渦巻き路、15……感光
性上部膜、17……合成樹脂。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 衝撃波管用の渦巻き形フラツトコイルを製作
するための方法において、渦巻き形の遮蔽膜が支
持膜11とこの支持膜の上に位置する導電性膜1
3と感光性上部膜15とを有するプリント板9上
にホトグラフイツク的に転写され、上部膜15が
現像され、転写された遮蔽膜の渦巻き路13aの
間が導電性膜13からエツチング除去され、導電
性膜13に残された渦巻き路13aが電気鍍金に
より増強され、最後にプリント板9がフラツトコ
イル支持体3に貼着されることを特徴とする衝撃
波管用フラツトコイルの製作方法。 2 支持膜11としてポリイミド膜が備えられ、
導電性膜13として銅膜が備えられることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 ポリイミド膜11は約200μmの厚さであり、
銅膜13は約7μmの厚さであることを特徴とす
る特許請求の範囲第2項記載の方法。 4 渦巻き路13aは電気鍍金により約150μm
の厚さに増強されることを特徴とする特許請求の
範囲第1項ないし第3項のいずれか1項に記載の
方法。 5 プリント板9は渦巻き路13aを支持する表
面がフラツトコイル支持体3に貼着されることを
特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第4項の
いずれか1項に記載の方法。 6 支持膜11と、銅から成り支持膜11に固定
された渦巻き路13aと、音響反射性を有する非
導電性材料から成りフラツトコイル支持体3とし
て備えられる板状体とを備え、板状体には前記渦
巻き路13aおよび(または)支持膜11が貼着
されることを特徴とする衝撃波管用フラツトコイ
ル。 7 フラツトコイル支持体3はセラミツクから成
ることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の
フラツトコイル。 8 フラツトコイル支持体3はエポキシ樹脂から
成ることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載
のフラツトコイル。 9 板状体3に渦巻き路13aおよび(または)
支持膜11を貼着するために樹脂17が備えられ
ていることを特徴とする特許請求の範囲第6項な
いし第8項のいずれか1項に記載のフラツトコイ
ル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3502770.3 | 1985-01-28 | ||
| DE19853502770 DE3502770A1 (de) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | Verfahren zur herstellung einer flachspule sowie flachspule fuer ein stosswellenrohr |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61176334A JPS61176334A (ja) | 1986-08-08 |
| JPH0459897B2 true JPH0459897B2 (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=6260970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61013570A Granted JPS61176334A (ja) | 1985-01-28 | 1986-01-24 | 衝撃波管用フラツトコイルとその製作方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0189781B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61176334A (ja) |
| DE (2) | DE3502770A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5026470A (en) * | 1989-12-19 | 1991-06-25 | International Business Machines | Sputtering apparatus |
| JPH05100223A (ja) * | 1991-04-03 | 1993-04-23 | Riyoosan:Kk | 光源装置 |
| GB2290171B (en) * | 1994-06-03 | 1998-01-21 | Plessey Semiconductors Ltd | Inductor chip device |
| DE10144421B4 (de) | 2001-09-10 | 2004-07-15 | Siemens Ag | Stosswellenquelle |
| DE10144422B4 (de) | 2001-09-10 | 2004-07-15 | Siemens Ag | Stosswellenquelle |
| DE102006040728A1 (de) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines elektronischen Moduls |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3189767A (en) * | 1963-01-28 | 1965-06-15 | Gen Electric | Ultrasonic transmitting means and method of producing same |
| JPS4978159A (ja) * | 1972-12-05 | 1974-07-27 | ||
| US4494100A (en) * | 1982-07-12 | 1985-01-15 | Motorola, Inc. | Planar inductors |
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1985
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1986
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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