JPH0460516A - 強誘電性液晶用配向制御膜及び強誘電性液晶素子 - Google Patents
強誘電性液晶用配向制御膜及び強誘電性液晶素子Info
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶分子の初期配向状態を改善することによ
り、表示特性を改善することが出来る強誘電性液晶配向
制御膜及びそれを使用した強誘電性液晶素子に関する。
り、表示特性を改善することが出来る強誘電性液晶配向
制御膜及びそれを使用した強誘電性液晶素子に関する。
強誘電性液晶分子の屈折率異方性を利用して偏光素子と
の組み合せにより透過光線を制御する型の表示素子がク
ラーク(Clark )及びラガーウオール(I、ag
ervall )により提案されている(特開昭56−
10726号公報、米国特許第4367924号明細書
等)。この強誘電性液晶は、一般に特定の温度域におい
て、カイラルスメクチックC相(SmC*)またはH相
(SmH*)を有し、この状態において、加えられる電
界に応答して第1の光学的安定状態と第2の光学的安定
状態のいずれかを取り、且つ電界の印加の無いときはそ
の状態を維持する性質、すなわち双安定性を有し、また
電界の変化に対する応答も速やかであり、高速ならびに
記憶型の表示素子としての広い利用が期待されている。
の組み合せにより透過光線を制御する型の表示素子がク
ラーク(Clark )及びラガーウオール(I、ag
ervall )により提案されている(特開昭56−
10726号公報、米国特許第4367924号明細書
等)。この強誘電性液晶は、一般に特定の温度域におい
て、カイラルスメクチックC相(SmC*)またはH相
(SmH*)を有し、この状態において、加えられる電
界に応答して第1の光学的安定状態と第2の光学的安定
状態のいずれかを取り、且つ電界の印加の無いときはそ
の状態を維持する性質、すなわち双安定性を有し、また
電界の変化に対する応答も速やかであり、高速ならびに
記憶型の表示素子としての広い利用が期待されている。
この双安定性を有する液晶を用いた光学変調素子が所定
の駆動特性を発揮するためには、一対の平行基板間に配
置される液晶が電界の印加状態とは無関係に、上記2つ
の安定状態の間での変換か効果的に起こることが必要で
ある。
の駆動特性を発揮するためには、一対の平行基板間に配
置される液晶が電界の印加状態とは無関係に、上記2つ
の安定状態の間での変換か効果的に起こることが必要で
ある。
また、白黒文字表示素子やカラー表示素子として用いる
ためには、偏光板をクロスニコルに配し、その間に液晶
素子をはさんで第1の安定状態を最暗にした時に配向が
黒く透過光量か少ないことが必要である。
ためには、偏光板をクロスニコルに配し、その間に液晶
素子をはさんで第1の安定状態を最暗にした時に配向が
黒く透過光量か少ないことが必要である。
これらの機能を満足するためには、それに適した特殊な
配向状態を作り出す必要がある。
配向状態を作り出す必要がある。
強誘電性液晶の配向方法としては、従来からネマチック
液晶の配向て用いられてきた方法と同様に、全芳香族ポ
リイミド、ポリアミドまたはポリビニルアルコール膜な
どのラビング処理や斜方蒸着処理などによる一軸性配向
処理を施した配向制御膜を用いる方法が知られている。
液晶の配向て用いられてきた方法と同様に、全芳香族ポ
リイミド、ポリアミドまたはポリビニルアルコール膜な
どのラビング処理や斜方蒸着処理などによる一軸性配向
処理を施した配向制御膜を用いる方法が知られている。
しかしながら、前述したごとき従来の配向制御膜をクラ
ークとラガーウォールによって発表された双安定性を示
す強誘電性液晶に対する配向制御膜に適用した場合には
、下記のごとき問題点を有していた。
ークとラガーウォールによって発表された双安定性を示
す強誘電性液晶に対する配向制御膜に適用した場合には
、下記のごとき問題点を有していた。
すなわち、従来ネマチック液晶の配向に用いられてきた
ような配向制御膜で配向させて得られた強誘電性液晶で
のチルト角θ(後述の第3図に示す角度)は後述の第2
図に示す強誘電性液晶のコーン角(三角錘の頂角)の1
/2の値である角度eと比べて小さくなってしまう。
ような配向制御膜で配向させて得られた強誘電性液晶で
のチルト角θ(後述の第3図に示す角度)は後述の第2
図に示す強誘電性液晶のコーン角(三角錘の頂角)の1
/2の値である角度eと比べて小さくなってしまう。
クラークとラガーウォールによれば、双安定性を実現す
る強誘電性液晶でのチルト角は、強誘電性液晶のコーン
角のl/2のチルト角θと同一の角度を有するはずであ
るが、実際にはチルト角θの方がチルト角θより小さく
なっている。即ち、チルト角θが最大チルト角eをとる
ためには、液晶分子の配向が第4図に示すような配向状
態となっている必要があるが、実際には第5図に示すよ
うに隣接する各々の液晶分子が捻れ角αで捻れて配向し
ていることに原因するスプレィ配向状態となっているた
めに、十分に大きいチルト角θを形成することができな
い問題点があった。また、スプレィ配向状態下の液晶素
子は、第7図に示すようなパルス信号に対する光学応答
性を示し、この光学応答性がマルチプレクシング駆動を
行ったときの表示画面のちらつきの原因となる問題点か
あった。
る強誘電性液晶でのチルト角は、強誘電性液晶のコーン
角のl/2のチルト角θと同一の角度を有するはずであ
るが、実際にはチルト角θの方がチルト角θより小さく
なっている。即ち、チルト角θが最大チルト角eをとる
ためには、液晶分子の配向が第4図に示すような配向状
態となっている必要があるが、実際には第5図に示すよ
うに隣接する各々の液晶分子が捻れ角αで捻れて配向し
ていることに原因するスプレィ配向状態となっているた
めに、十分に大きいチルト角θを形成することができな
い問題点があった。また、スプレィ配向状態下の液晶素
子は、第7図に示すようなパルス信号に対する光学応答
性を示し、この光学応答性がマルチプレクシング駆動を
行ったときの表示画面のちらつきの原因となる問題点か
あった。
スプレィ配向をしない強誘電性液晶素子を得るための最
良の方法であると考えられている方法は、SiO等を斜
め蒸着した高プレチルト界面を持つ配向膜を用いること
であると考えられているが、これらの配向膜を工業的に
作成しようとする場合には、巨大な装置が必要であり、
装置上の制約が大きい。そのため、この配向膜をネマチ
ック液晶素子のような有機薄膜を用いた配向膜で置き換
えることが要望されている。
良の方法であると考えられている方法は、SiO等を斜
め蒸着した高プレチルト界面を持つ配向膜を用いること
であると考えられているが、これらの配向膜を工業的に
作成しようとする場合には、巨大な装置が必要であり、
装置上の制約が大きい。そのため、この配向膜をネマチ
ック液晶素子のような有機薄膜を用いた配向膜で置き換
えることが要望されている。
従って、本発明の目的は、前述の問題点を解決すること
、すなわち少なくとも2つの安定状態、特に双安定性を
実現する非螺旋構造の強誘電性液晶でのチルト角を増大
し、これによって画素シャッタ開口時の透過率を向上さ
せ、かつ薄膜形成が容易である配向膜とこれらを使用し
た液晶素子を提供することにある。
、すなわち少なくとも2つの安定状態、特に双安定性を
実現する非螺旋構造の強誘電性液晶でのチルト角を増大
し、これによって画素シャッタ開口時の透過率を向上さ
せ、かつ薄膜形成が容易である配向膜とこれらを使用し
た液晶素子を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、マルチプレクシレグ駆動時
の画面にちらつきを生じない液晶素子を提供することに
ある。
の画面にちらつきを生じない液晶素子を提供することに
ある。
本発明の強誘電性液晶配向膜は、
一般式(I)で表わされる繰り返し単位を5〜100%
有するポリイミド高分子物質よりなることを特徴とする
。
有するポリイミド高分子物質よりなることを特徴とする
。
(ここで、R−R6は水素、炭素数1〜22のアルキル
基であり、相互に同じであっても、一部もしくは全部が
異っていてもよい。またR7−R14は水素、炭素数1
〜声のアルキル基であり、相互に同じてあっても一部も
しくは全部か異なってもよく、そして、Arは4価の芳
香族基を示す。) また本発明の強誘電性液晶素子は、基板、電圧印加手段
、強誘電性液晶配向制御膜及び強誘電性液晶層を包含す
る強誘電性液晶素子に於て、該強誘電性液晶配向制御膜
が本発明の強誘電性液晶用配向制御膜であることを特徴
とする。
基であり、相互に同じであっても、一部もしくは全部が
異っていてもよい。またR7−R14は水素、炭素数1
〜声のアルキル基であり、相互に同じてあっても一部も
しくは全部か異なってもよく、そして、Arは4価の芳
香族基を示す。) また本発明の強誘電性液晶素子は、基板、電圧印加手段
、強誘電性液晶配向制御膜及び強誘電性液晶層を包含す
る強誘電性液晶素子に於て、該強誘電性液晶配向制御膜
が本発明の強誘電性液晶用配向制御膜であることを特徴
とする。
更に強誘電性液晶素子が、液晶光変調素子または液晶表
示素子である。
示素子である。
更に詳しく述べると、本発明の強誘電性液晶配向膜は、
強誘電性液晶素子の配向制御において、高プレチルト角
を有するポリイミドを配向制御膜とすることを特徴とす
る。
強誘電性液晶素子の配向制御において、高プレチルト角
を有するポリイミドを配向制御膜とすることを特徴とす
る。
本発明の液晶素子は一対の平行基板と該一対の平行基板
の面に対して垂直な複数の層を形成している分子の配列
を持つ強誘電性液晶とを有する液晶素子に於て、前記一
対の平行基板のうち少なくとも一方の基板が前記複数の
層を一方向に優先して配向させる配向制御膜を有し、該
配向制御膜が高プレチルト角を有するポリイミドを用い
たことを特徴とする。
の面に対して垂直な複数の層を形成している分子の配列
を持つ強誘電性液晶とを有する液晶素子に於て、前記一
対の平行基板のうち少なくとも一方の基板が前記複数の
層を一方向に優先して配向させる配向制御膜を有し、該
配向制御膜が高プレチルト角を有するポリイミドを用い
たことを特徴とする。
本発明の液晶配向膜は具体的に述べると、下記の式(I
I)で示されるテトラカルボン酸二無水物、式(III
)で表わされるジアミノ化合物を溶媒中で混合し、反応
を行い、ポリアミック酸を生成し、該ポリアミック酸を
、必要により式(IV)のシリコン化合物と共に共重合
することにより得られる強誘電性液晶配向膜である。
I)で示されるテトラカルボン酸二無水物、式(III
)で表わされるジアミノ化合物を溶媒中で混合し、反応
を行い、ポリアミック酸を生成し、該ポリアミック酸を
、必要により式(IV)のシリコン化合物と共に共重合
することにより得られる強誘電性液晶配向膜である。
NH2−Z−51(OR15) 3
(IV)
(ここで、R−R6は水素、炭素数1〜22のアルキル
基であり、相互に同じてあっても、一部もしくは全部が
異っていてもよい。またR7−R14は水素、炭素数1
〜3のアルキル基であり、相互に同してあっても一部も
しくは全部が異なってもよく、そして、Arは4価の芳
香族基、Zは炭素数2〜10のアルキレン基もしくはフ
ェニレン基、R15は炭素数1〜10のアルキル基を示
す。) 本発明の強誘電性液晶素子は、本発明に係わる強誘電性
液晶の良好な配向性を実現しうる強誘電性液晶を備えて
いることが特徴であり、通常、基板、電圧印加手段、強
誘電性液晶配向膜、強誘電性液晶等により構成される。
基であり、相互に同じてあっても、一部もしくは全部が
異っていてもよい。またR7−R14は水素、炭素数1
〜3のアルキル基であり、相互に同してあっても一部も
しくは全部が異なってもよく、そして、Arは4価の芳
香族基、Zは炭素数2〜10のアルキレン基もしくはフ
ェニレン基、R15は炭素数1〜10のアルキル基を示
す。) 本発明の強誘電性液晶素子は、本発明に係わる強誘電性
液晶の良好な配向性を実現しうる強誘電性液晶を備えて
いることが特徴であり、通常、基板、電圧印加手段、強
誘電性液晶配向膜、強誘電性液晶等により構成される。
本発明の強誘電性液晶配向膜の形成について具体的に説
明すると、強誘電性液晶配向膜となるポリイミドは、一
般に溶媒に不溶である。そのため、基板上に均一なポリ
イミド高分子膜を設けるためには、その前駆体で通常テ
トラカルボン酸二無水物とジアミノ化合物との縮合によ
って得られるボリアミック酸をN−メチル−2−ピロリ
ドン(NMP) 、ジメチルアセトアミド(DMA c
)、ジメチルホルムアミド(DMF) 、ジメチルス
ルホキシド(DMSO)などの溶剤に溶解し、この溶液
を刷毛塗り法、浸漬法、回転塗布法、スプレー法、印刷
法などの方法で基板に塗布した後、100〜450℃、
好ましくは180〜290℃で加熱処理して脱水閉環し
てイミド結合を持たせる方法によるのが好ましい。
明すると、強誘電性液晶配向膜となるポリイミドは、一
般に溶媒に不溶である。そのため、基板上に均一なポリ
イミド高分子膜を設けるためには、その前駆体で通常テ
トラカルボン酸二無水物とジアミノ化合物との縮合によ
って得られるボリアミック酸をN−メチル−2−ピロリ
ドン(NMP) 、ジメチルアセトアミド(DMA c
)、ジメチルホルムアミド(DMF) 、ジメチルス
ルホキシド(DMSO)などの溶剤に溶解し、この溶液
を刷毛塗り法、浸漬法、回転塗布法、スプレー法、印刷
法などの方法で基板に塗布した後、100〜450℃、
好ましくは180〜290℃で加熱処理して脱水閉環し
てイミド結合を持たせる方法によるのが好ましい。
上記ポリイミドの前駆体のポリアミック酸は、通常テト
ラカルボン酸二無水物とジアミノ化合物との縮合により
合成される。これらの縮合反応は無水の条件下、N−メ
チル−2−ピロリドン(NMP) 、ジメチルアセトア
ミド(D M A c )、ジメチルホルムアミド(D
MF) 、ジメチルスルホキシド(DMSO) 、硫酸
ジメチル、スルホラン、ブチロラクトン、クレゾール、
フェノール、ハロゲン化フェノール、シクロヘキサノン
、ジオキサン、テトラヒドロフランなど、好ましくはN
−メチル−2−ピロリドン(NMP)の溶媒中50℃ま
たはそれ以下の温度で行なわれる。ただし、ポリエーテ
ルイミド高分子が溶媒への溶解性に問題がない物である
場合には、基板に塗布する前の段階で高温で反応させ、
ポリイミドワニスとして使用しても良い。
ラカルボン酸二無水物とジアミノ化合物との縮合により
合成される。これらの縮合反応は無水の条件下、N−メ
チル−2−ピロリドン(NMP) 、ジメチルアセトア
ミド(D M A c )、ジメチルホルムアミド(D
MF) 、ジメチルスルホキシド(DMSO) 、硫酸
ジメチル、スルホラン、ブチロラクトン、クレゾール、
フェノール、ハロゲン化フェノール、シクロヘキサノン
、ジオキサン、テトラヒドロフランなど、好ましくはN
−メチル−2−ピロリドン(NMP)の溶媒中50℃ま
たはそれ以下の温度で行なわれる。ただし、ポリエーテ
ルイミド高分子が溶媒への溶解性に問題がない物である
場合には、基板に塗布する前の段階で高温で反応させ、
ポリイミドワニスとして使用しても良い。
また、必要であればポリイミドの生成を促進する触媒を
加えても同等問題ない。
加えても同等問題ない。
ジアミノ化合物として、前記の式(m)で示される化合
物であり、具体的にはつぎの化合物をあげることができ
る。
物であり、具体的にはつぎの化合物をあげることができ
る。
1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−(2−シクロヘキシルエチル)シクロヘキ
サン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキン)フェニル
] −4−[2−()ランス−4−メチルシクロヘキ
シル)エチルコシクロヘキサン1.1−ビスE4−(4
−アミノフェノキシ)フェニルコ −4− [2−(
トランス−4−エチルシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル] −4−[2−(I−ランス−4−n−プ
ロビルシクロヘキンル)エチルコシクロヘキサン1.1
−ビスE4〜 (4−アミノフェノキシ)フェニル]
−4−[2−(トランス−4−n−ブチルシクロヘキ
シル)エチルコシクロへ午サン1.1−ビス[4−(4
−アミノフェノキシ)フェニル] −4−[2−(ト
ランス−4−n−ペンチルシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル] −4−[2−(トランス−4−n−
ヘキシルシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン1.
1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
−4−[2−(トランス−4−n−へブチルシクロヘ
キシル)エチルコシクロヘキサン1.1〜ビス[4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル] −4−[2−(
)ランス−4−n−オクチルシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン1.1−ビス[4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル] −4−[2−(I−ランス−4−
n〜ノニルシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン1
.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
−4−[2−(トランス−4−n−デシルシクロヘ
キシル)エチルコシクロヘキサン1.1−ビス[4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル]−4−[2−(+−
ランス−4−n−ウンデシルシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
コ −4− 12− ()ランス−4−n−ドデシル
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン1.1−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル] −4−
[2−(トランス−4−n−トリデシルシクロヘキンル
)エチルコシクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
コ −4− [2−()ランス−4−n−テトラデシ
ルシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−(トランス−4−n−ぺンタデシル
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−()ランス−4−n−ヘキサデシル
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−(トランス−4−n−ヘプタデシル
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン ]、1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−(I−ランス−4−n−オクタデシ
ルシクロヘキシル)エチルフシクロへ牛サン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−(トランス−4−n−ノナデシルシ
クロへキシル)エチルコシクロヘキサン テトラカルボン酸二無水物は前記の式(II)で示され
る化合物であり、具体的には、ピロメリット酸二無水物
、3.3’ 、4.4’ −ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、2.2’ 、3.3’ビフエニルテトラ
カルボン酸二無水物、2.3゜3’ 、4’ −ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、3.3’ 、4.4
’ −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2
,3.3’ 4’ −ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物、2.2′3.3′ −ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)エーテルニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)スルホンニ無7fl、1.2.5.6−ナ
フタリンテトラカルボン酸二無水物、2,3゜6.7−
ナフタリンテトラカルボン酸二無水物等をあげることが
できる。
] −4−(2−シクロヘキシルエチル)シクロヘキ
サン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキン)フェニル
] −4−[2−()ランス−4−メチルシクロヘキ
シル)エチルコシクロヘキサン1.1−ビスE4−(4
−アミノフェノキシ)フェニルコ −4− [2−(
トランス−4−エチルシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)
フェニル] −4−[2−(I−ランス−4−n−プ
ロビルシクロヘキンル)エチルコシクロヘキサン1.1
−ビスE4〜 (4−アミノフェノキシ)フェニル]
−4−[2−(トランス−4−n−ブチルシクロヘキ
シル)エチルコシクロへ午サン1.1−ビス[4−(4
−アミノフェノキシ)フェニル] −4−[2−(ト
ランス−4−n−ペンチルシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル] −4−[2−(トランス−4−n−
ヘキシルシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン1.
1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
−4−[2−(トランス−4−n−へブチルシクロヘ
キシル)エチルコシクロヘキサン1.1〜ビス[4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル] −4−[2−(
)ランス−4−n−オクチルシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン1.1−ビス[4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル] −4−[2−(I−ランス−4−
n〜ノニルシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン1
.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]
−4−[2−(トランス−4−n−デシルシクロヘ
キシル)エチルコシクロヘキサン1.1−ビス[4−(
4−アミノフェノキシ)フェニル]−4−[2−(+−
ランス−4−n−ウンデシルシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
コ −4− 12− ()ランス−4−n−ドデシル
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン1.1−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル] −4−
[2−(トランス−4−n−トリデシルシクロヘキンル
)エチルコシクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
コ −4− [2−()ランス−4−n−テトラデシ
ルシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−(トランス−4−n−ぺンタデシル
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−()ランス−4−n−ヘキサデシル
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−(トランス−4−n−ヘプタデシル
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン ]、1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−(I−ランス−4−n−オクタデシ
ルシクロヘキシル)エチルフシクロへ牛サン 1.1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
] −4−[2−(トランス−4−n−ノナデシルシ
クロへキシル)エチルコシクロヘキサン テトラカルボン酸二無水物は前記の式(II)で示され
る化合物であり、具体的には、ピロメリット酸二無水物
、3.3’ 、4.4’ −ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、2.2’ 、3.3’ビフエニルテトラ
カルボン酸二無水物、2.3゜3’ 、4’ −ビフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、3.3’ 、4.4
’ −ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2
,3.3’ 4’ −ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物、2.2′3.3′ −ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)エーテルニ無水物、ビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)スルホンニ無7fl、1.2.5.6−ナ
フタリンテトラカルボン酸二無水物、2,3゜6.7−
ナフタリンテトラカルボン酸二無水物等をあげることが
できる。
本発明の液晶配向膜の基板への接着性を高めるため、ア
ミノシリコン化合物またはジアミノシリコン化合物をポ
リエーテルイミドもしくはポリイミドに導入して変性す
ることも可能である。
ミノシリコン化合物またはジアミノシリコン化合物をポ
リエーテルイミドもしくはポリイミドに導入して変性す
ることも可能である。
本発明の強誘電性液晶用配向制御膜用ポリイミド高分子
物質は、具体的には、一般式 形に誘導する。
物質は、具体的には、一般式 形に誘導する。
また、一般式(If)、(III)、(TV)で示され
る構造単位を主成分として、つぎの一般式(V[)で示
される構造単位を0.1〜50%、好ましくは0.1〜
30%以下を含む液晶配向膜があげられる。
る構造単位を主成分として、つぎの一般式(V[)で示
される構造単位を0.1〜50%、好ましくは0.1〜
30%以下を含む液晶配向膜があげられる。
(ここで、R−R6は水素、炭素数1〜22の■
アルキル基であり、相互に同じであっても、一部もしく
は全部が異っていてもよい。またR7−R14は水素、
炭素数1〜3のアルキル基であり、相互に同じであって
も一部もしくは全部が異なっでもよく、そしてArは4
価の芳香族基、Zは炭素数2〜10のアルキレン基もし
くはフェニレン基、R1、は炭素数1〜10のアルキル
基を示す。)(ここで、Xは炭素数1〜3のアルキレン
基もしくはフェニレン基、RI6は炭素数1〜6のアル
キル基であり、A、 rは4価の芳香族基、gは0〜4
の整数を示す。) アミノシリコン化合物としては前記一般式(IV)で示
される化合物であり、具体的にはつぎの化合物をあげる
ことができる。
は全部が異っていてもよい。またR7−R14は水素、
炭素数1〜3のアルキル基であり、相互に同じであって
も一部もしくは全部が異なっでもよく、そしてArは4
価の芳香族基、Zは炭素数2〜10のアルキレン基もし
くはフェニレン基、R1、は炭素数1〜10のアルキル
基を示す。)(ここで、Xは炭素数1〜3のアルキレン
基もしくはフェニレン基、RI6は炭素数1〜6のアル
キル基であり、A、 rは4価の芳香族基、gは0〜4
の整数を示す。) アミノシリコン化合物としては前記一般式(IV)で示
される化合物であり、具体的にはつぎの化合物をあげる
ことができる。
Nl2− (CH2) 3−51(QC)I3) 3、
Nl2 (CH2) 3 S l (QC2R5)
3、NF2−(CH2)3−5N(CH3)(OCH
3)2、NF2−(CH2)3−8i(CH3)(OC
2H5)2、NF2−(CH2)3−8i(C2H5)
(on−C3H7)2、NF2− (CH2) 2−5
i (OCH3) 3、NF2−(CH2) 2−5
i (OC2H5)3、NF2−(CH2)4−8i(
CH3)(OC2H5)2、NF2べ>S i(OCH
s ) s、NH2RyS i (OC2H5) 3、
NF2べI)−3i (CH3) (OCH3) 2、
NF2べySi(CH3)(OC2H5)2、NF2−
’CI)−CCH2) 3−5 i (OCH3) 3
NH2−(X(CH2)3−8i(OC2H5)3、こ
れらのアミノシリコン化合物のポリイミド系高分子物質
に導入する場合、その含有量は、ポリイミド原料との間
につぎの関係が満足される範囲内が好ましい。
Nl2 (CH2) 3 S l (QC2R5)
3、NF2−(CH2)3−5N(CH3)(OCH
3)2、NF2−(CH2)3−8i(CH3)(OC
2H5)2、NF2−(CH2)3−8i(C2H5)
(on−C3H7)2、NF2− (CH2) 2−5
i (OCH3) 3、NF2−(CH2) 2−5
i (OC2H5)3、NF2−(CH2)4−8i(
CH3)(OC2H5)2、NF2べ>S i(OCH
s ) s、NH2RyS i (OC2H5) 3、
NF2べI)−3i (CH3) (OCH3) 2、
NF2べySi(CH3)(OC2H5)2、NF2−
’CI)−CCH2) 3−5 i (OCH3) 3
NH2−(X(CH2)3−8i(OC2H5)3、こ
れらのアミノシリコン化合物のポリイミド系高分子物質
に導入する場合、その含有量は、ポリイミド原料との間
につぎの関係が満足される範囲内が好ましい。
(上式において、Aはテトラカルボン酸二無水物、Bは
一般式(m)で表わされるジアミノ化合物、Cはアミノ
シリコン化合物のモル数を示す。)また、式(VI)で
示される構造単位を生成するためのジアミノシリコン化
合物としては、(式中、gは0〜4の整数を示す。) H3CH3 (式中、pは0〜4の整数を示す。) をあげることができ、ポリイミド系高分子に導入する場
合、前記(III)式で表わされるジアミノ化合物の5
0モル%以下を、好ましくは30モル%以下をジアミノ
シリコン化合物で置き換えて用いることができる。
一般式(m)で表わされるジアミノ化合物、Cはアミノ
シリコン化合物のモル数を示す。)また、式(VI)で
示される構造単位を生成するためのジアミノシリコン化
合物としては、(式中、gは0〜4の整数を示す。) H3CH3 (式中、pは0〜4の整数を示す。) をあげることができ、ポリイミド系高分子に導入する場
合、前記(III)式で表わされるジアミノ化合物の5
0モル%以下を、好ましくは30モル%以下をジアミノ
シリコン化合物で置き換えて用いることができる。
本発明の液晶配向膜に用いるポリエーテルイミドまたは
ポリイミドは、前記成分の他に芳香族ジアミノ化合物、
脂環式ジアミノ化合物およびその誘導体を導入して変成
することも可能である。
ポリイミドは、前記成分の他に芳香族ジアミノ化合物、
脂環式ジアミノ化合物およびその誘導体を導入して変成
することも可能である。
具体的に例をあげると、4,4′ −ジアミノフェニル
エーテル、4.4’ −ジアミノジフェニルメタン、
4.4’ 〜ジアミノジフェニルスルホン、4.4′
−ジアミノジフェニルスルフィド、4゜4′−ジ(メ
タ−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、4.4’
−ジ(パラ−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホ
ン、オルト−フェニレンジアミン、メタ−フェニレンジ
アミン、パラ−フェニレンジアミン、ベンジジン、2.
2’ −ジアミノベンゾフェノン、4.4’ −ジ
アミノベンゾフェノン、4.4’ −ジアミノジフェ
ニル−2゜2′−プロパン、1,5−ジアミノナフタレ
ン、1.8−ジアミノナフタレン等の芳香族ジアミノ化
合物、1.4−ジアミノシクロヘキサンなどの脂環式ジ
アミノ化合物がある。
エーテル、4.4’ −ジアミノジフェニルメタン、
4.4’ 〜ジアミノジフェニルスルホン、4.4′
−ジアミノジフェニルスルフィド、4゜4′−ジ(メ
タ−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、4.4’
−ジ(パラ−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホ
ン、オルト−フェニレンジアミン、メタ−フェニレンジ
アミン、パラ−フェニレンジアミン、ベンジジン、2.
2’ −ジアミノベンゾフェノン、4.4’ −ジ
アミノベンゾフェノン、4.4’ −ジアミノジフェ
ニル−2゜2′−プロパン、1,5−ジアミノナフタレ
ン、1.8−ジアミノナフタレン等の芳香族ジアミノ化
合物、1.4−ジアミノシクロヘキサンなどの脂環式ジ
アミノ化合物がある。
本発明の液晶配向膜を、基板上に設けるには、ポリエー
テルイミドの前駆体であるテトラカルボン酸二無水物と
ジアミノ化合物との縮合によって得られるポリアミック
酸を基板上に塗布し、加熱処理して、脱水反応をさせて
ポリイミド系高分子膜を基板上に形成する方法が好まし
い。具体的に説明すると、ポリアミック酸をN−メチル
−2−ピロリドン(NMP) 、ジメチルアセトアミド
(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメ
チルスルホキシド(DMSO)などの溶剤に溶解し、0
.1〜30重量%溶液、好ましくは1〜10重量%溶液
に調整し、この溶液を刷毛塗り法、浸漬法、回転塗布法
、スプレー法、印刷法などにより塗布し、基板上に塗膜
を形成する。塗布後、100〜450℃、好ましくは1
80〜290℃で加熱処理を行ない、脱水閉環反応させ
てポリイミド系高分子膜からなる液晶配向膜を設ける。
テルイミドの前駆体であるテトラカルボン酸二無水物と
ジアミノ化合物との縮合によって得られるポリアミック
酸を基板上に塗布し、加熱処理して、脱水反応をさせて
ポリイミド系高分子膜を基板上に形成する方法が好まし
い。具体的に説明すると、ポリアミック酸をN−メチル
−2−ピロリドン(NMP) 、ジメチルアセトアミド
(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメ
チルスルホキシド(DMSO)などの溶剤に溶解し、0
.1〜30重量%溶液、好ましくは1〜10重量%溶液
に調整し、この溶液を刷毛塗り法、浸漬法、回転塗布法
、スプレー法、印刷法などにより塗布し、基板上に塗膜
を形成する。塗布後、100〜450℃、好ましくは1
80〜290℃で加熱処理を行ない、脱水閉環反応させ
てポリイミド系高分子膜からなる液晶配向膜を設ける。
もし得られたポリイミド系高分子膜の基板への接着性が
良好でない場合には、事前に基板表面上にシランカップ
リング剤で表面処理を行なった後、ポリイミド系高分子
膜を形成すれば改善される。しかる後、この被膜面を布
などで一方向にラビングして、液晶配列制御膜を得る。
良好でない場合には、事前に基板表面上にシランカップ
リング剤で表面処理を行なった後、ポリイミド系高分子
膜を形成すれば改善される。しかる後、この被膜面を布
などで一方向にラビングして、液晶配列制御膜を得る。
この基板は、通常は基板上に電極、具体的には1rO(
#化インジウムー酸化スズ)や酸化スズの透明電極が形
成されている。。更に、この電極の下に基板からのアル
カリの溶比の防止の目的の絶縁膜、偏光板、カラーフィ
ルター等のアンダーコート膜を形成していてもよく、電
極の上に絶縁膜、カラーフィルター膜、光透過防止膜等
のオーバーコート膜を形成していてもよい。これらの電
極を絶縁膜を介して2層構造にしても良い。TPT、非
直線抵抗素子等の能動素子を形成していても良い。これ
らの電極、アンダーコート、その他のセル内の構成は従
来の液晶素子の構成が使用可能である。
#化インジウムー酸化スズ)や酸化スズの透明電極が形
成されている。。更に、この電極の下に基板からのアル
カリの溶比の防止の目的の絶縁膜、偏光板、カラーフィ
ルター等のアンダーコート膜を形成していてもよく、電
極の上に絶縁膜、カラーフィルター膜、光透過防止膜等
のオーバーコート膜を形成していてもよい。これらの電
極を絶縁膜を介して2層構造にしても良い。TPT、非
直線抵抗素子等の能動素子を形成していても良い。これ
らの電極、アンダーコート、その他のセル内の構成は従
来の液晶素子の構成が使用可能である。
このようにして形成された基板を使用してセル化し、液
晶を注入して、注入口を封止する。この封入される液晶
としては、通常の強誘電性液晶のほか、二色性色素を添
加した強誘電性液晶が使用できる。
晶を注入して、注入口を封止する。この封入される液晶
としては、通常の強誘電性液晶のほか、二色性色素を添
加した強誘電性液晶が使用できる。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明ではこれらの実施例に限定されない。
本発明ではこれらの実施例に限定されない。
(実施例1)
攪拌装置、温度計、コンデンサーおよび窒素置換装置を
付した200m1の4つロフラスコに脱水精製したN−
メチル−2−ピロリドン60m1、ついて、1,1−ビ
ス[4−(4−アミノフェノキン)フェニル)−4−[
2−(トランス−4−nペンチルシクロヘキシル)エチ
ルコシクロヘキサン10.43.を仕込み攪拌溶解した
。これを13℃に冷却してピロメリット酸二無水物4.
12gを一度に投入し、冷却しながら攪拌反応させた。
付した200m1の4つロフラスコに脱水精製したN−
メチル−2−ピロリドン60m1、ついて、1,1−ビ
ス[4−(4−アミノフェノキン)フェニル)−4−[
2−(トランス−4−nペンチルシクロヘキシル)エチ
ルコシクロヘキサン10.43.を仕込み攪拌溶解した
。これを13℃に冷却してピロメリット酸二無水物4.
12gを一度に投入し、冷却しながら攪拌反応させた。
1時間後、パラアミノフェニルトリメトキシシラン0.
91gを加えて20℃ 1時間攪拌反応させた。その後
、反応液をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)75
mlで希釈することによりポリアミック酸10重量%の
透明溶液が得られた。この溶液の25℃における粘度(
東京計器轢製E型粘度計を使用し、温度25±0.1℃
で測定した。)は155センチボイズであった。
91gを加えて20℃ 1時間攪拌反応させた。その後
、反応液をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)75
mlで希釈することによりポリアミック酸10重量%の
透明溶液が得られた。この溶液の25℃における粘度(
東京計器轢製E型粘度計を使用し、温度25±0.1℃
で測定した。)は155センチボイズであった。
この溶液をブチルセロソルブ、N−メチル−2ピロリド
ン1:1で混合した溶液で3重量%に希釈した後、片面
にITO透明電極を設けた透明ガラス基板上に回転塗布
法(スピンナー法)で塗布した。回転条件は250Or
pm、20秒であった。塗布後100℃で10分間乾燥
した後、オーブン中で200℃90分加熱処理を行い、
塗膜の厚さ約700人のポリエーテルイミド膜を得た。
ン1:1で混合した溶液で3重量%に希釈した後、片面
にITO透明電極を設けた透明ガラス基板上に回転塗布
法(スピンナー法)で塗布した。回転条件は250Or
pm、20秒であった。塗布後100℃で10分間乾燥
した後、オーブン中で200℃90分加熱処理を行い、
塗膜の厚さ約700人のポリエーテルイミド膜を得た。
このポリエーテルイミド膜が形成された基板2枚の塗膜
面をそれぞれラビング処理し液晶配向膜とし、ラビング
方向が平行で、かつ互いに対向するようにセル厚20μ
mの液晶セルを組み立て、ネマチック液晶のメルク社製
液晶ZLI−,1132を封入した。封入後、等方性液
体温度まで加熱し、徐冷することによって液晶素子を得
た。この液晶素子のプレチルト角を測定したところ、2
0度であった。
面をそれぞれラビング処理し液晶配向膜とし、ラビング
方向が平行で、かつ互いに対向するようにセル厚20μ
mの液晶セルを組み立て、ネマチック液晶のメルク社製
液晶ZLI−,1132を封入した。封入後、等方性液
体温度まで加熱し、徐冷することによって液晶素子を得
た。この液晶素子のプレチルト角を測定したところ、2
0度であった。
プレチルト角を測定するために作成したセルと同様の方
法で、ポリエーテルイミド膜を形成した基板2枚を用い
、塗膜面をラビング処理し、ラビング軸方向が平行とな
るようにセル厚約1.4μmの液晶セルを作成した。
法で、ポリエーテルイミド膜を形成した基板2枚を用い
、塗膜面をラビング処理し、ラビング軸方向が平行とな
るようにセル厚約1.4μmの液晶セルを作成した。
このセル内にチッソ轢製の強誘電性液晶「C8−103
1J (商品名)を等方相下で注入し、等方相から徐
冷することにより配向させた。
1J (商品名)を等方相下で注入し、等方相から徐
冷することにより配向させた。
直交ニコル下でこのセルを観察すると、−様で欠陥のな
い非らせん構造のカイラルスメクチック相を構成したモ
ノドメインが得られていた。
い非らせん構造のカイラルスメクチック相を構成したモ
ノドメインが得られていた。
三角波を印加して、双安定性を調べたところ、双安定性
を有していることがわかった。またこのときのチルト角
θは19度であった。
を有していることがわかった。またこのときのチルト角
θは19度であった。
(実施例2)
実施例1の1.1−ビス[4−(4〜アミノフエノキシ
)フェニル)−4−[2−()ランス4−n−ペンチル
シクロヘキシル)エチルクシクロへ牛サンを1.1−ビ
ス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)−4−C
2−()ランス4−n−ヘプチルシクロヘキシル)エチ
ルコシクロヘキサンに置き換える以外は実施例1とまっ
たく同様の操作で、粘度145cpのポリアミック酸1
0重量%溶液が得られた。この溶液を実施例1と同様の
操作で希釈、塗布、加熱処理を行い、膜厚約1100人
のポリエーテルイミド膜を得た。
)フェニル)−4−[2−()ランス4−n−ペンチル
シクロヘキシル)エチルクシクロへ牛サンを1.1−ビ
ス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)−4−C
2−()ランス4−n−ヘプチルシクロヘキシル)エチ
ルコシクロヘキサンに置き換える以外は実施例1とまっ
たく同様の操作で、粘度145cpのポリアミック酸1
0重量%溶液が得られた。この溶液を実施例1と同様の
操作で希釈、塗布、加熱処理を行い、膜厚約1100人
のポリエーテルイミド膜を得た。
このポリエーテルイミド膜が形成された基板2枚を実施
例1と同様にして液晶配向膜として後、セル厚20μm
の液晶素子を得た。この液晶素子にメルク社製液晶ZL
I−1132を封入し、プレチルト角を測定したところ
15.3度であった。
例1と同様にして液晶配向膜として後、セル厚20μm
の液晶素子を得た。この液晶素子にメルク社製液晶ZL
I−1132を封入し、プレチルト角を測定したところ
15.3度であった。
実施例1と同様の操作で、ラビング軸方向が平行となる
ように、セル厚約1.4μmの液晶セルを作成した。
ように、セル厚約1.4μmの液晶セルを作成した。
このセルにチッソ観製の強誘電性液晶rcs−1031
4(商品名)を等方相下で注入し、等方相から徐冷する
ことにより配向させた。
4(商品名)を等方相下で注入し、等方相から徐冷する
ことにより配向させた。
直交ニコル下でこのセルを観察すると、−様で欠陥のな
い非らせん構造のカイラルスメクチック相を構成したモ
ノドメインが得られた。
い非らせん構造のカイラルスメクチック相を構成したモ
ノドメインが得られた。
また、このセルは、双安定性を示していた。このときの
チルト角θは18.5度であった。
チルト角θは18.5度であった。
(比較例1)
2.2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
〕プロパン24.92gと無水ピロメリット酸15.1
6g及びパラアミノフェニルトリメトキシシラン3.3
6gをN−メチル−2−ピロリドン380.3mlを溶
媒として5℃〜10℃で重合し、ポリアミック酸溶液(
I0重量%、η2o−113c p s )を得た。こ
の溶液をN−メチル−2−ピロリドン1部、ブチルセロ
ソルブ1部を混合した溶媒で3%に希釈した後、回転塗
布法(スピンナー法)で塗布した。塗布条件は回転数3
,000rpm、20秒であった。塗布後100℃で1
0分間予備加熱を行った後、200℃ 1時間で加熱処
理を行ない膜厚約600人のポリエーテルイミド膜を得
た。さらにこれにラビング処理を施して液晶配向膜とし
、実施例1と同様に液晶セルを組み立てラビング軸方向
が平行でセル厚が約1.6μmの液晶素子を得た。
〕プロパン24.92gと無水ピロメリット酸15.1
6g及びパラアミノフェニルトリメトキシシラン3.3
6gをN−メチル−2−ピロリドン380.3mlを溶
媒として5℃〜10℃で重合し、ポリアミック酸溶液(
I0重量%、η2o−113c p s )を得た。こ
の溶液をN−メチル−2−ピロリドン1部、ブチルセロ
ソルブ1部を混合した溶媒で3%に希釈した後、回転塗
布法(スピンナー法)で塗布した。塗布条件は回転数3
,000rpm、20秒であった。塗布後100℃で1
0分間予備加熱を行った後、200℃ 1時間で加熱処
理を行ない膜厚約600人のポリエーテルイミド膜を得
た。さらにこれにラビング処理を施して液晶配向膜とし
、実施例1と同様に液晶セルを組み立てラビング軸方向
が平行でセル厚が約1.6μmの液晶素子を得た。
このセルにチッソ■製の強誘電性液晶rcs−1031
Jを注入し、徐冷により配向させた。
Jを注入し、徐冷により配向させた。
このセルのチルト角θを測定すると8度であった。また
、双安定性も得られなかった。
、双安定性も得られなかった。
本発明によれば、配向性が良好で、コントラストが大き
く、また双安定性を示す強誘電性液晶素子が得られる。
く、また双安定性を示す強誘電性液晶素子が得られる。
第1図は本発明の液晶素子の断面図を示し、(a)は側
基板に配向膜を有する素子、(b)は片面の基板のみに
配向膜を有する素子を示す。 第2図はらせん構造の強誘電性液晶を用いた液晶素子を
模式的に表す斜視図、第3図は非らせん構造の強誘電性
液晶を模式的に表す図、第4図はスプレィ配向を持たな
い理想的な配向状態を模式的に表す断面図、第5図は、
スプレィ配向状態を模式的に表す断面図、第6図は、ス
プレィ配向を持たない状態での光学応答を表す特性図、
第7図はスプレィ配向を持つ状態での光学応答を表す特
性図を示す。 出願人代理人 藤 本 博 光甚 回(α) 芋 図(b) 塔 図
基板に配向膜を有する素子、(b)は片面の基板のみに
配向膜を有する素子を示す。 第2図はらせん構造の強誘電性液晶を用いた液晶素子を
模式的に表す斜視図、第3図は非らせん構造の強誘電性
液晶を模式的に表す図、第4図はスプレィ配向を持たな
い理想的な配向状態を模式的に表す断面図、第5図は、
スプレィ配向状態を模式的に表す断面図、第6図は、ス
プレィ配向を持たない状態での光学応答を表す特性図、
第7図はスプレィ配向を持つ状態での光学応答を表す特
性図を示す。 出願人代理人 藤 本 博 光甚 回(α) 芋 図(b) 塔 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I )で表わされる繰り返し単位を5〜1
00モル%有するポリイミド高分子物質よりなる強誘電
性液晶用配向制御膜。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ここで、R_1〜R_6は水素、炭素数1〜22のア
ルキル基であり、相互に同じであっても、一部もしくは
全部が異っていてもよい。またR_7〜R_1_4は水
素、炭素数1〜3のアルキル基であり、相互に同じであ
っても一部もしくは全部が異なってもよく、そして、A
rは4価の芳香族基を示す。) 2、基板、電圧印加手段、強誘電性液晶配向制御膜及び
強誘電性液晶層を包含する強誘電性液晶素子に於て、該
強誘電性液晶配向制御膜が請求項1記載の強誘電性液晶
用配向制御膜である強誘電性液晶素子。 3、強誘電性液晶素子が、液晶光変調素子である請求項
2記載の強誘電性液晶素子。 4、強誘電性液晶素子が、液晶表示素子である請求項2
記載の強誘電性液晶素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16976090A JP2839338B2 (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | 強誘電性液晶用配向制御膜及び強誘電性液晶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16976090A JP2839338B2 (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | 強誘電性液晶用配向制御膜及び強誘電性液晶素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0460516A true JPH0460516A (ja) | 1992-02-26 |
| JP2839338B2 JP2839338B2 (ja) | 1998-12-16 |
Family
ID=15892346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16976090A Expired - Lifetime JP2839338B2 (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | 強誘電性液晶用配向制御膜及び強誘電性液晶素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2839338B2 (ja) |
-
1990
- 1990-06-29 JP JP16976090A patent/JP2839338B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2839338B2 (ja) | 1998-12-16 |
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