JPH046091B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH046091B2
JPH046091B2 JP61062455A JP6245586A JPH046091B2 JP H046091 B2 JPH046091 B2 JP H046091B2 JP 61062455 A JP61062455 A JP 61062455A JP 6245586 A JP6245586 A JP 6245586A JP H046091 B2 JPH046091 B2 JP H046091B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
collector
region
regions
type
capture
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP61062455A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62219569A (ja
Inventor
Kazuo Kaneko
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP61062455A priority Critical patent/JPS62219569A/ja
Priority to KR1019870002153A priority patent/KR900003837B1/ko
Publication of JPS62219569A publication Critical patent/JPS62219569A/ja
Publication of JPH046091B2 publication Critical patent/JPH046091B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D10/00—Bipolar junction transistors [BJT]

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本発明は集積回路ICに組み込まれるマルチコ
レクタ型のラテラルPNPトランジスタの改良に
関する。
(ロ) 従来の技術 従来、半導体集積回路ICに組込まれるラテラ
ルPNPトランジスタとしては、例えば特開昭59
−215770号公報に記載されているものがある。第
3図及び第4図は斯るトランジスタを示し、P型
半導体基板1上に形成したN型エピタキシヤル層
2と、基板1表面に設けたN+型の埋込層3と、
この埋込層3を囲むようにエピタキシヤル層2を
貫通したP+型の分離領域4と、分離領域4によ
り島状に分離されたベース領域となる島領域5
と、島領域5表面に形成したP型エミツタ領域6
と、エミツタ領域6を取り囲むように形成したP
型の第1、第2のコレクタ領域7a,7bと、
N+型のベースコンタクト領域8とで構成され、
夫々の領域上にはベース電極B、エミツタ電極
E、第1、第2のコレクタ電極C1,C2が配設さ
れている。
(ハ) 発明が解決しようとする問題点 しかしながら、従来の構造では第1、第2のコ
レクタ領域7a,7bはエミツタ領域6に対して
一重でしかない。従つて第1、第2のコレクタ領
域7a,7bのうち、例えば第1のコレクタ領域
7aがONで第2のコレクタ領域7bがOFFの状
態にある場合、エミツタ領域6から第2のコレク
タ領域7b側へ注入されたキヤリア(ホール)は
コレクタ電流とならず、無効電流として基板1へ
流出してしまう。そのため消費電力が大きい、電
流増幅率を高くできない欠点があつた。
(ニ) 問題点を解決するための手段 本発明は斯上した欠点に鑑みてなされ、複数個
のコレクタ領域17a,17bの外側にこれと対
応した複数個の捕獲領域19a,19bを設け、
且つエミツタ領域16に対して一方向にあるコレ
クタ領域17a,17bとこれとは反対の方向に
ある捕獲領域19a,19bとを夫々電気的に接
続したことを特徴とする。
(ホ) 作用 本発明によれば、OFFの状態にあるコレクタ
領域17a,17b側へ注入されたキヤリア(ホ
ール)は、ONの状態にあるコレクタ領域17
a,17bと電気的に接続された捕獲領域19
a,19bで回収できるので、基板11への無効
電流となつていた電流を有効にコレクタ電流とし
て利用できる。
(ヘ) 実施例 以下、本発明の一実施例を第1図および第2図
を用いて詳細に説明する。
本発明によるマルチコレクタ型のラテラル
PNPトランジスタは、P型半導体基板11上に
形成したN型エピタキシヤル層12と、基板11
表面に設けたN+型の埋込層13と、この埋込層
13を囲むようにエピタキシヤル層12を貫通し
たP+型の分離領域14と、分離領域14により
島状に分離されたベース領域となる島領域15
と、島領域15表面に形成したP型エミツタ領域
16と、エミツタ領域16を取り囲むように形成
したP型の第1、第2のコレクタ領域17a,1
7bと、N+型のベースコンタクト領域18と、
第1、第2のコレクタ領域17a,17bの外側
に形成した第1、第2のコレクタ領域17a,1
7bと対応するP型の第1、第2の捕獲領域19
a,19bとで構成され、ベースコンタクト領域
18上とエミツタ領域16上には夫々ベース電極
Bとエミツタ電極Eが配設される。
そして第1のコレクタ領域17aとこれに対応
する第2の捕獲領域19bとを、第2のコレクタ
領域17bとこれに対応する第1の捕獲領域19
aとを夫々第1コレクタ電極C1と第2コレクタ
電極C2とで電気的に接続している。
本発明の最も特徴とする点は、エミツタ領域1
6に対して一方向にあるコレクタ領域17a,1
7bとそれとは反対の方向にある捕獲領域19
a,19bとを夫々電気的に接続した点にある。
このように構成すると、例えば第1のコレクタ
領域17aがON、第2のコレクタ領域17bが
OFFの状態にある時、エミツタ領域16から第
2のコレクタ領域17b側に注入されたキヤリア
(ホール)は第2の捕獲領域19bによつて回収
され、第1のコレクタ領域17aで回収したキヤ
リア(ホール)と共にコレクタ電流として活用さ
れる。これは第1、第2のコレクタ領域17a,
17bの状態が逆でも同様である。
よつて本発明によれば、OFF状態にあるコレ
クタ領域17a,17b側へ注入されたキヤリア
(ホール)を捕獲領域19a,19bによつて回
収し、ON状態にあるコレクタ領域17a,17
bのコレクタ領域電流として有効に活用できるの
で、基板11への無効電流が激減することによつ
て消費電力が減少し、電流増幅率が増大する。
尚捕獲領域19a,19bの形成はエミツタ領
域16及びコレクタ領域17a,17bの形成と
同時に行えるので、何ら付加的工程を必要としな
い。
また、本実施例では第1、第2のコレクタ領域
17a,17bの面積比を1:1として電流比
1:1を実現しているが、面積比を変えることに
よつて他の電流比を実現した装置にも適用でき
る。その際第1、第2の捕獲領域19a,19b
の面積比を必ずしも電流比の値にする必要はな
い。さらに本発明はコレクタ領域を更に細分割、
例えば3分割、4分割したものにでも適用でき
る。
(ト) 発明の効果 以上説明した如く本発明によれば、OFF状態
にあるコレクタ領域17a,17b側へ注入され
たキヤリア(ホール)をON状態にあるコレクタ
領域17a,17bのコレクタ電流として有効に
活用できるので、基板11への無効電流が激減す
ることによつて消費電力が減少し、電流増幅率が
増すという利点を有する。
さらに本発明には何ら付加的工程を必要としな
い利点をも有する。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明を説明するための平
面図及び−線断面図、第3図及び第4図は従
来のマルチコレクタ型ラテラルPNPトランジス
タを示す平面図及び−線断面図である。 11は半導体基板、15は島領域、16はエミ
ツタ領域、17a,17bは第1、第2のコレク
タ領域、19a,19bは第1、第2の捕獲領域
である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ベース領域表面に設けたエミツタ領域と該エ
    ミツタ領域を囲む複数個のコレクタ領域を具備す
    るマルチコレクタ型ラテラルトランジスタにおい
    て、前記コレクタ領域の外側に前記コレクタ領域
    に対応する複数個の捕獲領域を設け、前記エミツ
    タ領域に対して一方向にある前記コレクタ領域と
    それとは反対の方向にある前記捕獲領域とを夫々
    電気的に接続したことを特徴とするマルチコレク
    タ型ラテラルトランジスタ。
JP61062455A 1986-03-19 1986-03-19 マルチコレクタ型ラテラルトランジスタ Granted JPS62219569A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61062455A JPS62219569A (ja) 1986-03-19 1986-03-19 マルチコレクタ型ラテラルトランジスタ
KR1019870002153A KR900003837B1 (ko) 1986-03-19 1987-03-11 멀티콜렉터형 래터럴 트랜지스터

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61062455A JPS62219569A (ja) 1986-03-19 1986-03-19 マルチコレクタ型ラテラルトランジスタ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62219569A JPS62219569A (ja) 1987-09-26
JPH046091B2 true JPH046091B2 (ja) 1992-02-04

Family

ID=13200691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61062455A Granted JPS62219569A (ja) 1986-03-19 1986-03-19 マルチコレクタ型ラテラルトランジスタ

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS62219569A (ja)
KR (1) KR900003837B1 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
KR870009488A (ko) 1987-10-27
JPS62219569A (ja) 1987-09-26
KR900003837B1 (ko) 1990-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5122856A (en) Semiconductor device
US5376821A (en) Integrated emitter switching configuration using bipolar transistors
US3913123A (en) Bipolar type semiconductor integrated circuit
US5866461A (en) Method for forming an integrated emitter switching configuration using bipolar transistors
KR900003837B1 (ko) 멀티콜렉터형 래터럴 트랜지스터
JPH0425711B2 (ja)
JPS6359262B2 (ja)
JPH0432754Y2 (ja)
KR970009032B1 (ko) 전력용 반도체 장치 및 그 제조방법
JPS601843A (ja) 半導体集積回路
JPS62104068A (ja) 半導体集積回路装置
JPH079385Y2 (ja) 半導体集積回路装置
JPS61207066A (ja) バイポ−ラトランジスタ
JPS59144168A (ja) バイポ−ラmos半導体装置及びその製造法
JPS6188561A (ja) トランジスタ
JPS6134971A (ja) 半導体装置
JPS6140140B2 (ja)
JP2518880B2 (ja) 半導体装置
JP2932076B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPS61289658A (ja) 半導体集積回路
JPS61268036A (ja) 半導体装置
JPH0222545B2 (ja)
JPS6156624B2 (ja)
JPH061814B2 (ja) 半導体装置
JPH0691199B2 (ja) 半導体集積回路