JPH0461006B2 - - Google Patents
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- JPH0461006B2 JPH0461006B2 JP58112437A JP11243783A JPH0461006B2 JP H0461006 B2 JPH0461006 B2 JP H0461006B2 JP 58112437 A JP58112437 A JP 58112437A JP 11243783 A JP11243783 A JP 11243783A JP H0461006 B2 JPH0461006 B2 JP H0461006B2
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- acetyloxime
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Description
本発明は光重合開始剤に関するものであり、詳
しくは、活性光線の露光により、露光部のみが光
重合により硬化し、且つ基材への密着性に優れた
光重合性樹脂組成物に使用される光重合開始剤に
関する。 光重合性樹脂組成物は活性光線硬化型インキ、
塗料あるいはフオトレジストとして使用されてい
るが、これらにおける大きな問題点として露光時
の塗膜の硬化性が挙げられる。即ち、塗膜の厚み
によつてその硬化性が著しく影響を受ける。例え
ば、フオトレジストやスクリーン印刷インキの場
合、塗膜の厚みが10〜100μｍにも達するため塗
膜内面の硬化が不良になりやすい。又、顔料ある
いは染料を光重合性樹脂組成物に加えた場合にお
いてはこの傾向は著しく、塗膜表面にタツクが残
る等、期待した硬化性能が現われない。 この様な硬化性の問題に関して光重合開始剤を
種々組合せることによつて改善が試みられてい
る。例えばベンゾフエノン又はその誘導体と４，
4′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノンとの
組合せ（特公昭53−37902、特公昭54−25943）、
キサントンと４，4′−ビス（ジアルキルアミノ）
ベンゾフエノンとの組合せ（特開昭52−92246）
などが提案されている。 しかしながら、これらの光重合開始剤は有効で
はあるが、特に染料又は顔料を配合した場合には
塗膜の厚みが10μｍ以上になると硬化不良を起し
やすく、基材との密着性が悪くなる等未だ十分で
はなかつた。 本発明者等はこの様な問題を解決するために鋭
意検討した結果、ｐ−アミノフエニルケトンとオ
キシムエステルとの混合物を光重合開始剤として
使用することにより、塗膜の硬化性に極めて優
れ、基材との密着性にも優れた光重合性組成物が
得られることを見い出し、本発明に到達した。 即ち本発明はｐ−アミノフエニルケトンおよび
下記一般式で示されるオキシムエステルからなる
光重合開始剤を提供するものである。 （式中R1，R2は同一でも、異なつていてもよ
く、炭素数１〜10のアルキル基、置換または非置
換のフエニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピ
リジル基あるいはキノリル基、あるいはR1とR2
が結合して環を形成してもよく、R3は炭素数１
〜５のアルキル基、あるいは置換または非置換の
フエニル基である。） この本発明の光重合開始剤は、光重合性化合
物、高分子バインダーあるいはその他の添加剤等
とともに光重合性樹脂組成物を形成するが、以下
これらを含めて具体的に説明する。 本発明の光重合開始剤が好適に用いられる光重
合性化合物は分子内に１個以上の重合性二重結合
を有する光重合可能な化合物からなるものであ
る。そのような化合物としては、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、クロロスチレンなどの
スチレン系化合物、メチル（メタ）アクリレー
ト、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−およびｉ
−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−sec−お
よびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、テトラヒ
ドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）
アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、
ステアリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチ
ル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、フエノキシエチル（メタ）ア
クリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ポリ
エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコール（メタ）アクリレートなど
の一官能（メタ）アクリレート化合物、エチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、
１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アク
リレートなどの二官能（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレートなどの三官能以上の（メタ）アクリレー
トなどが代表例として挙げられる。これらの重合
性化合物は単独又は組合せて使用することがで
き、光重合性樹脂組成物中、５〜80重量％、好ま
しくは10〜50重量％の割合で使用される。 高分子バインダーとしては、ポリスチレン、ポ
リメチルメタクリレート、メチルメタアクリレー
ト−エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）
アクリル酸、スチレン−（メタ）アクリル酸共重
合体、（メタ）アクリル酸−メチルメタアクリレ
ート共重合体、ポリビニルブチラール、セルロー
スエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエス
テル等があり、目的に応じて選択される。 本発明のｐ−アミノフエニルケトンとしては式 （式中ＲおよびR′はそれぞれ水素または１〜
４個の炭素原子を有する低級アルキル基であり、
そしてR″は例えば１〜４個の炭素原子を有する
アルキルまたは単炭素環アリール、好ましくはフ
エニルおよび好ましくは基
しくは、活性光線の露光により、露光部のみが光
重合により硬化し、且つ基材への密着性に優れた
光重合性樹脂組成物に使用される光重合開始剤に
関する。 光重合性樹脂組成物は活性光線硬化型インキ、
塗料あるいはフオトレジストとして使用されてい
るが、これらにおける大きな問題点として露光時
の塗膜の硬化性が挙げられる。即ち、塗膜の厚み
によつてその硬化性が著しく影響を受ける。例え
ば、フオトレジストやスクリーン印刷インキの場
合、塗膜の厚みが10〜100μｍにも達するため塗
膜内面の硬化が不良になりやすい。又、顔料ある
いは染料を光重合性樹脂組成物に加えた場合にお
いてはこの傾向は著しく、塗膜表面にタツクが残
る等、期待した硬化性能が現われない。 この様な硬化性の問題に関して光重合開始剤を
種々組合せることによつて改善が試みられてい
る。例えばベンゾフエノン又はその誘導体と４，
4′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノンとの
組合せ（特公昭53−37902、特公昭54−25943）、
キサントンと４，4′−ビス（ジアルキルアミノ）
ベンゾフエノンとの組合せ（特開昭52−92246）
などが提案されている。 しかしながら、これらの光重合開始剤は有効で
はあるが、特に染料又は顔料を配合した場合には
塗膜の厚みが10μｍ以上になると硬化不良を起し
やすく、基材との密着性が悪くなる等未だ十分で
はなかつた。 本発明者等はこの様な問題を解決するために鋭
意検討した結果、ｐ−アミノフエニルケトンとオ
キシムエステルとの混合物を光重合開始剤として
使用することにより、塗膜の硬化性に極めて優
れ、基材との密着性にも優れた光重合性組成物が
得られることを見い出し、本発明に到達した。 即ち本発明はｐ−アミノフエニルケトンおよび
下記一般式で示されるオキシムエステルからなる
光重合開始剤を提供するものである。 （式中R1，R2は同一でも、異なつていてもよ
く、炭素数１〜10のアルキル基、置換または非置
換のフエニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピ
リジル基あるいはキノリル基、あるいはR1とR2
が結合して環を形成してもよく、R3は炭素数１
〜５のアルキル基、あるいは置換または非置換の
フエニル基である。） この本発明の光重合開始剤は、光重合性化合
物、高分子バインダーあるいはその他の添加剤等
とともに光重合性樹脂組成物を形成するが、以下
これらを含めて具体的に説明する。 本発明の光重合開始剤が好適に用いられる光重
合性化合物は分子内に１個以上の重合性二重結合
を有する光重合可能な化合物からなるものであ
る。そのような化合物としては、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、クロロスチレンなどの
スチレン系化合物、メチル（メタ）アクリレー
ト、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−およびｉ
−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−sec−お
よびｔ−ブチル（メタ）アクリレート、テトラヒ
ドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）
アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、
ステアリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチ
ル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メ
タ）アクリレート、フエノキシエチル（メタ）ア
クリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ポリ
エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコール（メタ）アクリレートなど
の一官能（メタ）アクリレート化合物、エチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、
１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アク
リレートなどの二官能（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレートなどの三官能以上の（メタ）アクリレー
トなどが代表例として挙げられる。これらの重合
性化合物は単独又は組合せて使用することがで
き、光重合性樹脂組成物中、５〜80重量％、好ま
しくは10〜50重量％の割合で使用される。 高分子バインダーとしては、ポリスチレン、ポ
リメチルメタクリレート、メチルメタアクリレー
ト−エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）
アクリル酸、スチレン−（メタ）アクリル酸共重
合体、（メタ）アクリル酸−メチルメタアクリレ
ート共重合体、ポリビニルブチラール、セルロー
スエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエス
テル等があり、目的に応じて選択される。 本発明のｐ−アミノフエニルケトンとしては式 （式中ＲおよびR′はそれぞれ水素または１〜
４個の炭素原子を有する低級アルキル基であり、
そしてR″は例えば１〜４個の炭素原子を有する
アルキルまたは単炭素環アリール、好ましくはフ
エニルおよび好ましくは基
【式】で
ある）で表わされる化合物が好ましい。適当なｐ
−アミノフエニルケトンにはｐ−アミノベンゾフ
エノン、ｐ−ブチルアミノベンゾフエノン、ｐ−
ジメチルアミノアセトフエノン、ｐ−ジメチルア
ミノプロピオフエノン、ｐ−ジエチルアミノブチ
ロフエノン、ｐ−ジブチルアミノアセトフエノ
ン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフエノン、ｐ−ジ
メチルアミノフエニル−ｐ−トリルケトン、ｐ−
ジエチルアミノベンゾフエノン、ｐ，p′−ビス
（エチルアミノ）ベンゾフエノン、ｐ，p′−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフエノン〔ミヒラーケ
トン〕、ｐ，p′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾ
フエノンおよびｐ，p′−ビス（ジブチルアミノ）
ベンゾフエノンが挙げられる。 本発明のオキシムエステルは一般式
−アミノフエニルケトンにはｐ−アミノベンゾフ
エノン、ｐ−ブチルアミノベンゾフエノン、ｐ−
ジメチルアミノアセトフエノン、ｐ−ジメチルア
ミノプロピオフエノン、ｐ−ジエチルアミノブチ
ロフエノン、ｐ−ジブチルアミノアセトフエノ
ン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフエノン、ｐ−ジ
メチルアミノフエニル−ｐ−トリルケトン、ｐ−
ジエチルアミノベンゾフエノン、ｐ，p′−ビス
（エチルアミノ）ベンゾフエノン、ｐ，p′−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフエノン〔ミヒラーケ
トン〕、ｐ，p′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾ
フエノンおよびｐ，p′−ビス（ジブチルアミノ）
ベンゾフエノンが挙げられる。 本発明のオキシムエステルは一般式
【式】で示されるものである。
ここでR1〜R3は芳香族又は脂肪族の炭化水素あ
るいは複素環化合物等種々の有機化合物残基があ
るが、好ましくは以下に示す１）〜６）のものが
例示される。 即ち、R1，R2としては次の１）〜４）が挙げ
られる。ここでR1，R2は同一でも、異なつてい
てもよい。 １ 炭素数１〜10、好ましくは１〜５の直鎖状あ
るいは分岐状のアルキル基 ２ 置換又は非置換のフエニル基、ナフチル基、
アンスリル基であり、置換基としては炭素数１
〜10、好ましくは１〜５の直鎖状あるいは分岐
状のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシル
基、ハロゲン、アミノ基、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、メルカプト基等 ３ ２−ピリジル基等のピリジル基、又は６−キ
ノリル基等のキノリル基あるいは２）と同様の
置換基を有するピリジル基又はキノリル基 ４ R1とR2が結合して環を形成するフルオレニ
ル基等、あるいは２）と同様の置換基を有する
該フルオレニル基等 又、R3としては次の５）〜６）が例示される。 ５ メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１
〜５のアルキル基 ６ フエニル基又は置換フエニル基であり、置換
基は前述の２）で示した置換基と同様である。 以上、述べたオキシムエステルには種々のケト
ン−Ｏ−アシルオキシムがあり、具体的にはジメ
チルケトン−Ｏ−アセチルオキシム、ジエチルケ
トン−Ｏ−アセチルオキシム、アセトフエノン−
Ｏ−アセチルオキシム、アセトフエノン−Ｏ−ベ
ンゾイルオキシム、アセトフエノン−Ｏ−（ｐ−
メチルベンゾイル）オキシム、ｐ−メチルアセト
フエノン−Ｏ−（ｐ−トリルカルボニル）オキシ
ム、２−ナフチルメチルケトン−Ｏ−アセチルオ
キシム、２−ナフチルフエニルケトン−Ｏ−プロ
ピルカルボニルオキシム、９−アンスリルメチル
ケトン−Ｏ−アセチルオキシム、２−ナフチルメ
チルケトン−Ｏ−ベンゾイルオキシム、ベンゾフ
エノン−Ｏ−アセチルオキシム、ベンゾフエノン
−Ｏ−フエニルアセチルオキシム、ベンゾフエノ
ン−Ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）オキシム、ｐ
−ジメチルアミノアセトフエノン−Ｏ−アセチル
オキシム，ｐ，p′−ビス（ジメチルアミノ）ベン
ゾフエノン−Ｏ−アセチルオキシム，ｐ，p′−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノン−Ｏ−ベン
ゾイルオキシム，フルオレノン−Ｏ−（ｐ−メチ
ルベンゾイル）オキシム，フルオレノン−Ｏ−ア
セチルオキシム，２−ピリジルメチルケトン−Ｏ
−アセチルオキシム，ジ（２−ピリジル）ケトン
−Ｏ−アセチルオキシム、６−キノリルメチルケ
トン−Ｏ−エチルカルボニルオキシム、６−キノ
リルフエニルケトン−Ｏ−アセチルオキシム等が
ある。 これらのオキシムエステルあるいは前述のｐ−
アミノフエニルケトンはそれぞれ２種以上併用し
てもよい。 又、本発明の光重合開始剤にベンゾイン、ベン
ゾイルアルキルエーテル、ベンゾフエノン、ベン
ジル−２，４，５トリフエニルビイミダゾール又
はこれらの誘導体等公知の光増感剤を加えて使用
することもできる。 本発明におけるｐ−アミノフエニルケトンとオ
キシムエステルとの使用比率は、それらの種類あ
るいは光重合性化合物等の種類により適宜選択さ
れるが、おおよそ重量比でｐ−アミノフエニルケ
トン／オキシムエステル＝１／100〜10／１の比
率で、好ましくは１／50〜１／２の比率で使用さ
れる。 又、本発明の光重合開始剤は光重合性組成物
（固形分）中0.1〜20重量％、好ましくは１〜10重
量％の範囲で使用される。 本発明の光重合開始剤を含有する光重合性樹脂
組成物は、公知の方法により基材に塗布された
後、活性光線を照射され、光重合反応が誘起され
る。 使用される活性光源としては、200〜300nmに
強い発光をもつ遠紫外光源（Hg−Xe灯、低圧水
銀灯）やエキシマーレーザーさらに300nm以上の
発光スペクトルを有するHg灯、キセノン灯、高
圧水銀灯、さらにはN2レーザー、アルゴンレー
ザー、He−Neレーザー等が挙げられる。 次に本発明を実施例により説明する。 実施例 １ ポリメチルメタクリレート（スミペツクス−
BH） 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 25ｇ テトラエチレングリコールジアクリレート 20ｇ ミヒラーケトン 0.15ｇ ベンゾトリアゾール 0.20ｇ ロイコクリスタルバイオレツト 0.15ｇ Ｎ−メチルジエタノールアミン 0.05ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ ベンゾフエノン−Ｏ−アセチルオキシム 3.0ｇ メチルエチルケトン 137ｇ 上記組成物を機械的攪拌により十分混合した
後、銅板に厚さ25μｍで塗工した後、75℃で５分
間乾燥させる。次にステツプタブレツト（Fuji
Film製15段）を重ねて、超高圧水銀灯（2KW）
を45cmの距離から10秒照射した。これをクロロセ
ンにて未露光部を洗い出すことにより現像した。
その結果、８段までの良好な画像を生じた。 実施例 ２ ポリメチルメタクリレート 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 45ｇ ミヒラーケトン 0.10ｇ ｐ−メチルアセトフエノン−Ｏ−アセチルオキ
シム 3.5ｇ ベンゾトリアゾール 0.20ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ メチルエチルケトン 137ｇ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥、露
光、現像すると10段までの良好な画像が得られ
た。 実施例 ３ ポリ（メチルメタクリレート／メタクリル酸）
（70／30） 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 40ｇ ミヒラーケトン 0.10ｇ ｐ−メチルアセトフエノン−Ｏ−アセチルオキ
シム 4.0ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ １，４−ジオキサン 137ｇ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥、露
光した後、１％炭酸ソーダ水溶液（40℃）で現像
すると10段までの良好な画像が得られた。 実施例 ４ ポリメチルメタクリレート 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 40ｇ ミヒラーケトン 0.5ｇ ｐ，p′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノ
ン−Ｏ−アセチルオキシム 3.5ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ メチルエチルケトン 137ｇ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥、露
光、現像すると10段までの良好な画像が得られ
た。 実施例 ５ 実施例２の組成物を銅板上に5μｍの厚さで塗
工、乾燥した後、クロムマスク（石英製）を重ね
て、500WHg−Xe灯（ウシオ電機製）を照射し
て、クロロセンで現像すると5μｍまでの良好な
画像が生じた。 比較例 １ ポリメチルメタクリレート 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 45ｇ ベンゾフエノン−Ｏ−アセチルオキシム 5.0ｇ ベンゾトリアゾール 0.20ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ メチルエチルケトン 137ｇ 上記組成物を実施例１と同様の処理をすると、
60秒照射しても殆どが未露光部と同様に洗い出さ
れて画像を生じなかつた。
るいは複素環化合物等種々の有機化合物残基があ
るが、好ましくは以下に示す１）〜６）のものが
例示される。 即ち、R1，R2としては次の１）〜４）が挙げ
られる。ここでR1，R2は同一でも、異なつてい
てもよい。 １ 炭素数１〜10、好ましくは１〜５の直鎖状あ
るいは分岐状のアルキル基 ２ 置換又は非置換のフエニル基、ナフチル基、
アンスリル基であり、置換基としては炭素数１
〜10、好ましくは１〜５の直鎖状あるいは分岐
状のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシル
基、ハロゲン、アミノ基、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、メルカプト基等 ３ ２−ピリジル基等のピリジル基、又は６−キ
ノリル基等のキノリル基あるいは２）と同様の
置換基を有するピリジル基又はキノリル基 ４ R1とR2が結合して環を形成するフルオレニ
ル基等、あるいは２）と同様の置換基を有する
該フルオレニル基等 又、R3としては次の５）〜６）が例示される。 ５ メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１
〜５のアルキル基 ６ フエニル基又は置換フエニル基であり、置換
基は前述の２）で示した置換基と同様である。 以上、述べたオキシムエステルには種々のケト
ン−Ｏ−アシルオキシムがあり、具体的にはジメ
チルケトン−Ｏ−アセチルオキシム、ジエチルケ
トン−Ｏ−アセチルオキシム、アセトフエノン−
Ｏ−アセチルオキシム、アセトフエノン−Ｏ−ベ
ンゾイルオキシム、アセトフエノン−Ｏ−（ｐ−
メチルベンゾイル）オキシム、ｐ−メチルアセト
フエノン−Ｏ−（ｐ−トリルカルボニル）オキシ
ム、２−ナフチルメチルケトン−Ｏ−アセチルオ
キシム、２−ナフチルフエニルケトン−Ｏ−プロ
ピルカルボニルオキシム、９−アンスリルメチル
ケトン−Ｏ−アセチルオキシム、２−ナフチルメ
チルケトン−Ｏ−ベンゾイルオキシム、ベンゾフ
エノン−Ｏ−アセチルオキシム、ベンゾフエノン
−Ｏ−フエニルアセチルオキシム、ベンゾフエノ
ン−Ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）オキシム、ｐ
−ジメチルアミノアセトフエノン−Ｏ−アセチル
オキシム，ｐ，p′−ビス（ジメチルアミノ）ベン
ゾフエノン−Ｏ−アセチルオキシム，ｐ，p′−ビ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノン−Ｏ−ベン
ゾイルオキシム，フルオレノン−Ｏ−（ｐ−メチ
ルベンゾイル）オキシム，フルオレノン−Ｏ−ア
セチルオキシム，２−ピリジルメチルケトン−Ｏ
−アセチルオキシム，ジ（２−ピリジル）ケトン
−Ｏ−アセチルオキシム、６−キノリルメチルケ
トン−Ｏ−エチルカルボニルオキシム、６−キノ
リルフエニルケトン−Ｏ−アセチルオキシム等が
ある。 これらのオキシムエステルあるいは前述のｐ−
アミノフエニルケトンはそれぞれ２種以上併用し
てもよい。 又、本発明の光重合開始剤にベンゾイン、ベン
ゾイルアルキルエーテル、ベンゾフエノン、ベン
ジル−２，４，５トリフエニルビイミダゾール又
はこれらの誘導体等公知の光増感剤を加えて使用
することもできる。 本発明におけるｐ−アミノフエニルケトンとオ
キシムエステルとの使用比率は、それらの種類あ
るいは光重合性化合物等の種類により適宜選択さ
れるが、おおよそ重量比でｐ−アミノフエニルケ
トン／オキシムエステル＝１／100〜10／１の比
率で、好ましくは１／50〜１／２の比率で使用さ
れる。 又、本発明の光重合開始剤は光重合性組成物
（固形分）中0.1〜20重量％、好ましくは１〜10重
量％の範囲で使用される。 本発明の光重合開始剤を含有する光重合性樹脂
組成物は、公知の方法により基材に塗布された
後、活性光線を照射され、光重合反応が誘起され
る。 使用される活性光源としては、200〜300nmに
強い発光をもつ遠紫外光源（Hg−Xe灯、低圧水
銀灯）やエキシマーレーザーさらに300nm以上の
発光スペクトルを有するHg灯、キセノン灯、高
圧水銀灯、さらにはN2レーザー、アルゴンレー
ザー、He−Neレーザー等が挙げられる。 次に本発明を実施例により説明する。 実施例 １ ポリメチルメタクリレート（スミペツクス−
BH） 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 25ｇ テトラエチレングリコールジアクリレート 20ｇ ミヒラーケトン 0.15ｇ ベンゾトリアゾール 0.20ｇ ロイコクリスタルバイオレツト 0.15ｇ Ｎ−メチルジエタノールアミン 0.05ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ ベンゾフエノン−Ｏ−アセチルオキシム 3.0ｇ メチルエチルケトン 137ｇ 上記組成物を機械的攪拌により十分混合した
後、銅板に厚さ25μｍで塗工した後、75℃で５分
間乾燥させる。次にステツプタブレツト（Fuji
Film製15段）を重ねて、超高圧水銀灯（2KW）
を45cmの距離から10秒照射した。これをクロロセ
ンにて未露光部を洗い出すことにより現像した。
その結果、８段までの良好な画像を生じた。 実施例 ２ ポリメチルメタクリレート 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 45ｇ ミヒラーケトン 0.10ｇ ｐ−メチルアセトフエノン−Ｏ−アセチルオキ
シム 3.5ｇ ベンゾトリアゾール 0.20ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ メチルエチルケトン 137ｇ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥、露
光、現像すると10段までの良好な画像が得られ
た。 実施例 ３ ポリ（メチルメタクリレート／メタクリル酸）
（70／30） 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 40ｇ ミヒラーケトン 0.10ｇ ｐ−メチルアセトフエノン−Ｏ−アセチルオキ
シム 4.0ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ １，４−ジオキサン 137ｇ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥、露
光した後、１％炭酸ソーダ水溶液（40℃）で現像
すると10段までの良好な画像が得られた。 実施例 ４ ポリメチルメタクリレート 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 40ｇ ミヒラーケトン 0.5ｇ ｐ，p′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノ
ン−Ｏ−アセチルオキシム 3.5ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ メチルエチルケトン 137ｇ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥、露
光、現像すると10段までの良好な画像が得られ
た。 実施例 ５ 実施例２の組成物を銅板上に5μｍの厚さで塗
工、乾燥した後、クロムマスク（石英製）を重ね
て、500WHg−Xe灯（ウシオ電機製）を照射し
て、クロロセンで現像すると5μｍまでの良好な
画像が生じた。 比較例 １ ポリメチルメタクリレート 50ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート 45ｇ ベンゾフエノン−Ｏ−アセチルオキシム 5.0ｇ ベンゾトリアゾール 0.20ｇ ビクトリアブルー 0.04ｇ メチルエチルケトン 137ｇ 上記組成物を実施例１と同様の処理をすると、
60秒照射しても殆どが未露光部と同様に洗い出さ
れて画像を生じなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ｐ−アミノフエニルケトンおよび下記一般式
で示されるオキシムエステルからなる光重合開始
剤。 （式中R1，R2は同一でも、異なつていてもよ
く、炭素数１〜10のアルキル基、置換または非置
換のフエニル基、ナフチル基、アンスリル基、ピ
リジル基あるいはキノリル基、あるいはR1とR2
が結合して環を形成してもよく、R3は炭素数１
〜５のアルキル基、あるいは置換または非置換の
フエニル基である。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11243783A JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11243783A JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS604502A JPS604502A (ja) | 1985-01-11 |
| JPH0461006B2 true JPH0461006B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=14586604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11243783A Granted JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS604502A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP4830310B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2011-12-07 | 三菱化学株式会社 | オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター |
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Family Cites Families (5)
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| JPS5589365A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-05 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Photo-setting coating composition |
| US4282309A (en) * | 1979-01-24 | 1981-08-04 | Agfa-Gevaert, N.V. | Photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated compound, initiator and sensitizer |
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-
1983
- 1983-06-22 JP JP11243783A patent/JPS604502A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS604502A (ja) | 1985-01-11 |
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