JPS604502A - 光重合開始剤 - Google Patents
光重合開始剤Info
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- JPS604502A JPS604502A JP11243783A JP11243783A JPS604502A JP S604502 A JPS604502 A JP S604502A JP 11243783 A JP11243783 A JP 11243783A JP 11243783 A JP11243783 A JP 11243783A JP S604502 A JPS604502 A JP S604502A
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- Japan
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- meth
- acrylate
- group
- photopolymerization initiator
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- 239000003999 initiator Substances 0.000 title 1
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光重合開始剤に関するものであ勺、詳しくは、
活性光線の露光によ勺、露光部のみが光重合により硬化
し、且つ基材への密着性に優れた光重合性樹脂組成物に
使用される光重合開始剤に関する。
活性光線の露光によ勺、露光部のみが光重合により硬化
し、且つ基材への密着性に優れた光重合性樹脂組成物に
使用される光重合開始剤に関する。
光重合性樹脂組成物は活性光線硬化型インキ。
塗料あるいはフォトレジストとして使用されているが、
これらにおける大きな問題点として露光時の塗膜の硬化
性が挙げられる。即ち、塗膜の厚みによってその硬化性
が著しく影響を受ける。例えば、フォトレジストやスク
リーン印刷インキの場合、塗膜の厚みが１０〜１００
／ｎｒＬにも達するため塗膜内面の硬化が不良になシや
すい。
これらにおける大きな問題点として露光時の塗膜の硬化
性が挙げられる。即ち、塗膜の厚みによってその硬化性
が著しく影響を受ける。例えば、フォトレジストやスク
リーン印刷インキの場合、塗膜の厚みが１０〜１００
／ｎｒＬにも達するため塗膜内面の硬化が不良になシや
すい。
又、顔料あるいは染料を光重合性樹脂組成物に加えた場
合においてはこの傾向は著しく、塗膜表面ｒタンクが残
る等、期待した硬化性能が現われない。
合においてはこの傾向は著しく、塗膜表面ｒタンクが残
る等、期待した硬化性能が現われない。
この様な硬化性の問題に関して光重合開始剤を種々組合
せることによって改善が試みられている。例えばベンゾ
フェノン又はその誘導体と４．４′−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾ１フエノンとの組合せ（特公昭５３−！＋
７９［］２、特公昭５４−２５９４３）、キサントンと
４，４′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノンと
の組合せ（特開昭５２−９２２４６）などが提案されて
いる。
せることによって改善が試みられている。例えばベンゾ
フェノン又はその誘導体と４．４′−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾ１フエノンとの組合せ（特公昭５３−！＋
７９［］２、特公昭５４−２５９４３）、キサントンと
４，４′−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノンと
の組合せ（特開昭５２−９２２４６）などが提案されて
いる。
しかしながら、これらの光重合開始剤は有効ではあるが
、特に染料又は顔料を配合した場合には塗膜の厚みが１
０μｍ以上になると硬化不良を起しやすく、基材との密
着性が悪くなる等未だ十分ではなかった。
、特に染料又は顔料を配合した場合には塗膜の厚みが１
０μｍ以上になると硬化不良を起しやすく、基材との密
着性が悪くなる等未だ十分ではなかった。
本発明者等はこの様な問題を解決するために鋭意検討し
た結果、ｐ−アミノフェニルケトンとオキシムエステル
との混合物を光重合開始剤として使用することによル、
塗膜の硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優れた
光重合性組成物が得られることを見い出し、本発明に到
達した。
た結果、ｐ−アミノフェニルケトンとオキシムエステル
との混合物を光重合開始剤として使用することによル、
塗膜の硬化性に極めて優れ、基材との密着性にも優れた
光重合性組成物が得られることを見い出し、本発明に到
達した。
即ち本発明はｐ−アミノフェニルケトンおよびオキシム
エステルからなる光重合開始剤を提供するものである。
エステルからなる光重合開始剤を提供するものである。
この本発明の光重合開始剤は、光重合性化合物、高分子
バインダーあるいはその他の添加剤等とともに光重合性
樹脂組成物を形成するが、以下これらを含めて具体的に
説明する。
バインダーあるいはその他の添加剤等とともに光重合性
樹脂組成物を形成するが、以下これらを含めて具体的に
説明する。
本発明の光重合開始剤が好適に用いられる光重合性化合
物は分子内に１個以上の重合性二重結合を有する光重合
可能な化合物からなるものである。そのような化合物と
しては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、クロロ
スチレンなどのスチレン系化合物、メチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−および１
−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ｓθＣ−および
ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ
）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレ
ート、ラウリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ
）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ブ
トキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（
メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリ
レート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキ
シエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（
メタ）アクリレートなどの一官能（メタ）アクリレート
化合物、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ポリプロレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１．６−ヘキサンシオールジ（メタ）ア
クリレートなどの三官能（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレートなどの三官能以上
の（メタ）アクリレートなどが代表例として挙げられる
。これらの重合性化合物は単独又は組合せて使用するこ
とができ、光重合性樹脂組成物中、５〜８０重量％、好
ましくは１０〜５０重量％の割合で使用される。
物は分子内に１個以上の重合性二重結合を有する光重合
可能な化合物からなるものである。そのような化合物と
しては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、クロロ
スチレンなどのスチレン系化合物、メチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−および１
−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ｓθＣ−および
ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフ
リル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ
）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレ
ート、ラウリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ
）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ブ
トキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（
メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリ
レート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキ
シエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（
メタ）アクリレートなどの一官能（メタ）アクリレート
化合物、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ポリプロレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、１．６−ヘキサンシオールジ（メタ）ア
クリレートなどの三官能（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレートなどの三官能以上
の（メタ）アクリレートなどが代表例として挙げられる
。これらの重合性化合物は単独又は組合せて使用するこ
とができ、光重合性樹脂組成物中、５〜８０重量％、好
ましくは１０〜５０重量％の割合で使用される。
高分子バインダーとしては、ポリスチレン。
ポリメチルメタクリレート、メチルメタアクリレート−
エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸
、スチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）ア
クリル酸−メチルメタアクリレート共重合体、ポリビニ
ルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミ
ド、飽和ポリエステル等があり、目的に応じて選択され
る。
エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸
、スチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）ア
クリル酸−メチルメタアクリレート共重合体、ポリビニ
ルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミ
ド、飽和ポリエステル等があり、目的に応じて選択され
る。
本発明のｐ−アミノフェニルケトンとしては（式中Ｒお
よびＲ′はそれぞれ水素または１〜４個の炭素原子を有
する低級アルキル基であル、そしてＲ“は例えば１〜４
個の炭素原子を有するアルキルまたは単炭素環アリール
、好ましである）で表わされる化合物が好ましい。適当
なｐ−アミノフェニルケトンにはｐ−アミノベンゾフェ
ノン、ｐ−ブチルアミノベンゾフェノン、ｐ−ジメチル
アミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミンプロピオフ
ェノン、ｐ−ジエチルアミノブチロフェノン、ｐ−ジブ
チルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾ
フェノン、ｐ−ジエチルアミノフエニ／ｌ／−ｐ−）リ
ルケトン、ｐ−ジエチルアミノベンゾフェノン、ｐ、ｐ
’−ビス（エチルアミノ）ベンゾフェノン、 ｐ、ｐ’
−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン〔ミヒラーケ
トンＬｐ、ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ンおよびＤ 、ｐＬ−ビス（ジブチルアミノ）ベンゾフ
ェノンが挙げられる。
よびＲ′はそれぞれ水素または１〜４個の炭素原子を有
する低級アルキル基であル、そしてＲ“は例えば１〜４
個の炭素原子を有するアルキルまたは単炭素環アリール
、好ましである）で表わされる化合物が好ましい。適当
なｐ−アミノフェニルケトンにはｐ−アミノベンゾフェ
ノン、ｐ−ブチルアミノベンゾフェノン、ｐ−ジメチル
アミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミンプロピオフ
ェノン、ｐ−ジエチルアミノブチロフェノン、ｐ−ジブ
チルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾ
フェノン、ｐ−ジエチルアミノフエニ／ｌ／−ｐ−）リ
ルケトン、ｐ−ジエチルアミノベンゾフェノン、ｐ、ｐ
’−ビス（エチルアミノ）ベンゾフェノン、 ｐ、ｐ’
−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン〔ミヒラーケ
トンＬｐ、ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ンおよびＤ 、ｐＬ−ビス（ジブチルアミノ）ベンゾフ
ェノンが挙げられる。
本発明のオキシムエステルは一般式
ここでＲ□〜Ｒ３は芳香族又は脂肪族の炭化水素あるい
は複素環化合物等種々の有機化合物残基があるが、好ま
しくは以下に示す１）〜６）のものが例示される。
は複素環化合物等種々の有機化合物残基があるが、好ま
しくは以下に示す１）〜６）のものが例示される。
即ち、Ｒ１，Ｒ２としては次の１）〜４）が挙げられる
。ここでＲよ、Ｒ２は同一でも、異なっていてもよい。
。ここでＲよ、Ｒ２は同一でも、異なっていてもよい。
１）炭素数１〜１０、好ましくは１〜５の直鎖状あるい
は分岐状のアルキル基 ２） 置換又は非置換のフェニル基、ナフチル基。
は分岐状のアルキル基 ２） 置換又は非置換のフェニル基、ナフチル基。
アンスリル基であり、置換基としては炭素数１〜１０、
好ましくは１〜５の直鎖状あるいは分四状のアルキル基
、炭ｎｉ１〜５のアルコキシル基、ハロゲン、アミン基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メルカプト基
等３）２−ピリジル基等のピリジル基、又は６−キノリ
ル基等のキノリル基あるいは２）と同様の置換基を有す
るピリジル基又はキノリル基４】Ｒ１と得が結合して環
を形成するフルオレニル基等、あるいは２）と同様の置
換基を有する該フルオレニル基等 又、Ｒ３としては次の５）〜６）が例示される。
好ましくは１〜５の直鎖状あるいは分四状のアルキル基
、炭ｎｉ１〜５のアルコキシル基、ハロゲン、アミン基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メルカプト基
等３）２−ピリジル基等のピリジル基、又は６−キノリ
ル基等のキノリル基あるいは２）と同様の置換基を有す
るピリジル基又はキノリル基４】Ｒ１と得が結合して環
を形成するフルオレニル基等、あるいは２）と同様の置
換基を有する該フルオレニル基等 又、Ｒ３としては次の５）〜６）が例示される。
５） メチル基、エチル基、プロピル基、１−プロピル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜５のアルキ
ル基 ６）フェニル基又は置換フェニル基であル、置換基は前
述の２）で示した置換基と同様である。
基、ブチル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜５のアルキ
ル基 ６）フェニル基又は置換フェニル基であル、置換基は前
述の２）で示した置換基と同様である。
以上、述べたオキシムエステルには種々のケトン−Ｏ−
アシルオキシムがあり、具体的にはジメチルケトン−〇
−アセチルオキシム、ジエチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、アセトフェノン−〇−アセチルオキシム、アセ
トフェノン−〇−ベンゾイルオキシム、アセトフェノン
−〇−（ｐ−メチルベンゾイル）オキシム、ｐ−メチル
アセトフェノン−〇 −（ｐ −トＩＪルカルポニル）
オキシム、２−ナフチルメチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、２−ナフチルフェニルケトン−〇−プロピルカ
ルボニルオキシム、９−アンスリルメチルケトン−〇−
アセチルオキシム、２−ナフチルメチルケトン−〇−ベ
ンゾイルオキシム、ベンゾフェノン−〇−アセチルオ夫
シム、ベンゾフェノン−〇−フェニルアセチルオキシム
、ベンゾフェノン−０−（ｐ−クロロベンゾイル）オキ
シム、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン−〇−アセチ
ルオキシム、ｐ、ｐ’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノン−〇−アセチルオキシム、ｐ、ｐ’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン−〇−ベンゾイルオキシ
ム、フルオレノン−ｏ−（ｐ−メチルベンゾイル）オキ
シム、フルオレノン−〇−アセチルオキシム、２−ピリ
ジルメチルケトン−〇−アセチルオキシム、ジ（２−ピ
リジル）ケトン−０７アセチルオキシム、６−キツリル
メチルケトンー〇−エチルカルボニルオキシム、６−キ
ツリルフエニルケトンー〇−アセチルオキシム等がある
。
アシルオキシムがあり、具体的にはジメチルケトン−〇
−アセチルオキシム、ジエチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、アセトフェノン−〇−アセチルオキシム、アセ
トフェノン−〇−ベンゾイルオキシム、アセトフェノン
−〇−（ｐ−メチルベンゾイル）オキシム、ｐ−メチル
アセトフェノン−〇 −（ｐ −トＩＪルカルポニル）
オキシム、２−ナフチルメチルケトン−〇−アセチルオ
キシム、２−ナフチルフェニルケトン−〇−プロピルカ
ルボニルオキシム、９−アンスリルメチルケトン−〇−
アセチルオキシム、２−ナフチルメチルケトン−〇−ベ
ンゾイルオキシム、ベンゾフェノン−〇−アセチルオ夫
シム、ベンゾフェノン−〇−フェニルアセチルオキシム
、ベンゾフェノン−０−（ｐ−クロロベンゾイル）オキ
シム、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン−〇−アセチ
ルオキシム、ｐ、ｐ’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノン−〇−アセチルオキシム、ｐ、ｐ’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン−〇−ベンゾイルオキシ
ム、フルオレノン−ｏ−（ｐ−メチルベンゾイル）オキ
シム、フルオレノン−〇−アセチルオキシム、２−ピリ
ジルメチルケトン−〇−アセチルオキシム、ジ（２−ピ
リジル）ケトン−０７アセチルオキシム、６−キツリル
メチルケトンー〇−エチルカルボニルオキシム、６−キ
ツリルフエニルケトンー〇−アセチルオキシム等がある
。
これらのオキシムエステルあるいは前述のｐ−アミノフ
ェニルケトンはそれぞれ２種以上併用してもよい。
ェニルケトンはそれぞれ２種以上併用してもよい。
又、本発明の光重合開始剤にベンゾイン、ベンゾインア
ルキルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジル−２，４，
５−）リフェニルビイミダゾール又はこれらの誘導体等
公知の光増感剤を加えて使用することもできる。
ルキルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジル−２，４，
５−）リフェニルビイミダゾール又はこれらの誘導体等
公知の光増感剤を加えて使用することもできる。
本発明におけるｐ−アミノフェニルケトンとオキシムエ
ステルとの使用比率は、それらの種類あるいは光重合性
化合物等の種類により適宜選択されるが、おおよそ重量
比でｐ−アミノフェニルケトン／オキシムエステル＝１
／ｊ００〜１０／１の比率で、好ましくは１７５０〜１
／２の比率で使用される。
ステルとの使用比率は、それらの種類あるいは光重合性
化合物等の種類により適宜選択されるが、おおよそ重量
比でｐ−アミノフェニルケトン／オキシムエステル＝１
／ｊ００〜１０／１の比率で、好ましくは１７５０〜１
／２の比率で使用される。
又、本発明の光重合開始剤は光重合性組成物（固形分）
中０．１〜２０重量係、好ましくは１〜１０重ｉｓの範
囲で使用される。
中０．１〜２０重量係、好ましくは１〜１０重ｉｓの範
囲で使用される。
本発明の光重合開始剤を含有する光重合性樹脂組成物は
、公知の方法により基材に塗布された後、活性光線を照
射され、光重合反応が誘起される。
、公知の方法により基材に塗布された後、活性光線を照
射され、光重合反応が誘起される。
使用される活性光源としては、２００〜３００ ｎｍに
強い発光をもつ遠紫外光源（Ｈｇ−Ｘｅ灯、低圧水銀灯
）やエキシマ−レーザーさらに３００ｎｍ以上の発光ス
ペクトルを有するＨｇ灯、キセノン灯。
強い発光をもつ遠紫外光源（Ｈｇ−Ｘｅ灯、低圧水銀灯
）やエキシマ−レーザーさらに３００ｎｍ以上の発光ス
ペクトルを有するＨｇ灯、キセノン灯。
高圧水銀灯、さらにはＮ２レーザー、アルゴンレーザー
、 Ｈｅ−Ｎｅレーザー等が挙げられる０次に本発明を
実施例によシ説明する。
、 Ｈｅ−Ｎｅレーザー等が挙げられる０次に本発明を
実施例によシ説明する。
実施例 １
ポリメチルメタクリレート（スミペックス−ＢＨ） ５
０ ｔ）ＩＪ＃−０−ルプロパントリアクリレート ２
５ ｆテトラエチレングリコールジアクリレート２０ｔ
ミヒラーケトン ０．１５ｒ ベンゾトリアゾール ０．２０ｆ ロイコクリスタルバイオレツト ０．１５ｆＮ−メチル
ジェタノールアミン ０．０５ｆビクトリアブルー ０
・０４２ ベンゾフェノン−〇−アセチルオキシム ３．０２メチ
ルエチルケトン １３７を 上記組成物を機械的攪拌によシ十分混合した後、銅板に
厚さ２５μ扉で塗工した後、７５℃で５分間乾燥させる
。次にステップタプレツ） （ＦｕｊｉＦｉ１ｍ製１５
段）を重ねて、超高圧水銀灯（２ＫＷ）を４５ｚの距離
から１０秒照射した。これをクロロセンにて未露光部を
洗い出すことによシ現像した。その結果、８段までの良
好な画像を生じた。
０ ｔ）ＩＪ＃−０−ルプロパントリアクリレート ２
５ ｆテトラエチレングリコールジアクリレート２０ｔ
ミヒラーケトン ０．１５ｒ ベンゾトリアゾール ０．２０ｆ ロイコクリスタルバイオレツト ０．１５ｆＮ−メチル
ジェタノールアミン ０．０５ｆビクトリアブルー ０
・０４２ ベンゾフェノン−〇−アセチルオキシム ３．０２メチ
ルエチルケトン １３７を 上記組成物を機械的攪拌によシ十分混合した後、銅板に
厚さ２５μ扉で塗工した後、７５℃で５分間乾燥させる
。次にステップタプレツ） （ＦｕｊｉＦｉ１ｍ製１５
段）を重ねて、超高圧水銀灯（２ＫＷ）を４５ｚの距離
から１０秒照射した。これをクロロセンにて未露光部を
洗い出すことによシ現像した。その結果、８段までの良
好な画像を生じた。
実施例 ２
ポリメチルメタクリレート ５０２
トリメチロールプロパントリアクリレート ４５ １ミ
ヒラーケトン ０．１０５’ ｐ−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム ５
．５２ベンゾトリアゾール ０・２０１ ビクトリアブルー ０．０４ｆ メチルエチルケトン １３７２ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥。
ヒラーケトン ０．１０５’ ｐ−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム ５
．５２ベンゾトリアゾール ０・２０１ ビクトリアブルー ０．０４ｆ メチルエチルケトン １３７２ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥。
露光、現像すると１０段までの良好な画像が得られた。
実施例 ３
ポリ（メチルメタクリレート／メタクリル酸戸７０／３
０１ ’ ５０５’トリメチロールプロパントリアクリ
レート ４０？ミヒラーケトン ０．１０ ｆ ｐ−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム ４
．０１ビクトリアブルー ０．０４ ｒ ｌ、４−ジオキサン １３７２ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥。
０１ ’ ５０５’トリメチロールプロパントリアクリ
レート ４０？ミヒラーケトン ０．１０ ｆ ｐ−メチルアセトフェノン−〇−アセチルオキシム ４
．０１ビクトリアブルー ０．０４ ｒ ｌ、４−ジオキサン １３７２ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥。
露光した後、１チ炭酸ソーダ水溶液（４０℃）で現像す
ると１０段までの良好な画像が得られた。
ると１０段までの良好な画像が得られた。
実施例 ４
ポリメチルメタクリレート５ｏ１
トリメチロールプロパントリアクリレート ４０ Ｆミ
ヒラーケトン ０．５７ ｐ、ｐ’−ヒス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン−〇
−ア歓升隘ｈクム３．５ ２ ビクトリアブルー ０．０４ｒ メチルエチルケトン １３７２ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥。
ヒラーケトン ０．５７ ｐ、ｐ’−ヒス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン−〇
−ア歓升隘ｈクム３．５ ２ ビクトリアブルー ０．０４ｒ メチルエチルケトン １３７２ 上記組成物を実施例１と同様に塗工、乾燥。
露光、現像すると１０段までの良好な画像が得られた。
実施例 ５
実施例２の組成物を銅板上に５μｍの厚さで塗工、乾燥
した後、クロムマスク（石英製）を重ねて、５００Ｗ
Ｈｔｚ−Ｘｅ灯（ウシオ電機製）を照射して、クロロセ
ンで現像すると５μｍｔ−での良好な画像が生じた。
した後、クロムマスク（石英製）を重ねて、５００Ｗ
Ｈｔｚ−Ｘｅ灯（ウシオ電機製）を照射して、クロロセ
ンで現像すると５μｍｔ−での良好な画像が生じた。
比較例 １
ポリメチルメタクリレート ５ｏ ２
トリメチロールプロパントリアクリレート ４５ １ベ
ンゾフェノン−〇−アセチルオキシム ５．０２ベンゾ
トリアゾール ０．２０ ｆ ビクトリアブルー ０．０４５’ メチルエチルケトン １３７ ？ 上記組成物を実施例１と同様の処理をすると、６０秒照
射しても殆どが未露光部と同様に洗い出されて画像を生
じなかった。
ンゾフェノン−〇−アセチルオキシム ５．０２ベンゾ
トリアゾール ０．２０ ｆ ビクトリアブルー ０．０４５’ メチルエチルケトン １３７ ？ 上記組成物を実施例１と同様の処理をすると、６０秒照
射しても殆どが未露光部と同様に洗い出されて画像を生
じなかった。
出願人代理人 古 谷 馨
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ｐ−アミノフェニルケトンおよびオキシムエステル
からなる光重合開始剤。 ２ オキシムエステルが下記一般式で示されるものであ
る特許請求の範囲第１項記載の光重合開始剤。 （式中Ｒ工、Ｒ２は同一でも、異なっていてもよく、炭
素数１〜１０のアルキル基、置換または非置換のフェニ
ル基、す７チル基、アンスリル基。 ピリジル基あるいはキノリル基、あるいはＲよとＲ２が
結合して環を形成してもよく、Ｒ５は炭素数１〜５のア
ルキル基、あるいは置換または非置換のフェニル基であ
る。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11243783A JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11243783A JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS604502A true JPS604502A (ja) | 1985-01-11 |
| JPH0461006B2 JPH0461006B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=14586604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11243783A Granted JPS604502A (ja) | 1983-06-22 | 1983-06-22 | 光重合開始剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS604502A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2001233842A (ja) * | 1999-12-15 | 2001-08-28 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | オキシムエステルの光開始剤 |
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| JP2006036750A (ja) * | 2004-02-23 | 2006-02-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | オキシムエステル系化合物、光重合性組成物及びこれを用いたカラーフィルター |
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-
1983
- 1983-06-22 JP JP11243783A patent/JPS604502A/ja active Granted
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| CN1922142B (zh) | 2004-02-23 | 2012-05-02 | 三菱化学株式会社 | 肟酯化合物、光聚合性组合物和使用该组合物的滤色器 |
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| US8101336B2 (en) | 2006-11-15 | 2012-01-24 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Photocurable and thermosetting resin composition, cured product thereof, and printed circuit board |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0461006B2 (ja) | 1992-09-29 |
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