JPH0461251A - 半導体装置の製造管理システム - Google Patents
半導体装置の製造管理システムInfo
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- JPH0461251A JPH0461251A JP17230390A JP17230390A JPH0461251A JP H0461251 A JPH0461251 A JP H0461251A JP 17230390 A JP17230390 A JP 17230390A JP 17230390 A JP17230390 A JP 17230390A JP H0461251 A JPH0461251 A JP H0461251A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 32
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 11
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
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Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は半導体装置の製造プロセス内の製造管理システ
ムに関し、特に高品質な半導体装置の製造を実現するシ
ステムに関する。
ムに関し、特に高品質な半導体装置の製造を実現するシ
ステムに関する。
[従来の技術]
従来、半導体装置の製造プロセスにおいては、拡散工程
中で発生するゴミ付着、マスクギズ、フォトレジストの
、パターン欠陥等の不良に関する情報はウェハ単位で採
取され、ウェハごとの良品・不良品判定を行った後に廃
棄されており、ウェハ内のチップ毎に関する情報の蓄積
及びこれに基づく検査はされていなかった。
中で発生するゴミ付着、マスクギズ、フォトレジストの
、パターン欠陥等の不良に関する情報はウェハ単位で採
取され、ウェハごとの良品・不良品判定を行った後に廃
棄されており、ウェハ内のチップ毎に関する情報の蓄積
及びこれに基づく検査はされていなかった。
[発明が解決しようとする課題]
この従来のシステムでは、拡散工程中で発生する各種不
良に間する情報は得られても、これを最終の検査工程で
有効に利用していないことから必ずしも十分な不良判定
ができず、不良チップが不良として除去されない場合が
生じて、市場へ出荷された後に半導体装置の品質低下の
原因となってしまうという問題があった。
良に間する情報は得られても、これを最終の検査工程で
有効に利用していないことから必ずしも十分な不良判定
ができず、不良チップが不良として除去されない場合が
生じて、市場へ出荷された後に半導体装置の品質低下の
原因となってしまうという問題があった。
[課題を解決するための手段」
本発明に係る半導体装置の製造管理システムは、半導体
装置製造におりる各工程で発生ずる不良とコ関する情報
をウェハ内のチップに関連例けて順次蓄積し、前記各工
程に続く検査ゴー程において当該情報に基づいて不良な
チップを除去することを特徴とする。
装置製造におりる各工程で発生ずる不良とコ関する情報
をウェハ内のチップに関連例けて順次蓄積し、前記各工
程に続く検査ゴー程において当該情報に基づいて不良な
チップを除去することを特徴とする。
また、本発明に係る半導体装置の製造管理システムは、
半導体装置製造における各工程で元利するゴミ付者に関
する情報をウェハ内のチップに関連付けて順次蓄積し、
前記各]−程に続く検査工程において各チップの電気的
特性を検査ブるブF]−バで前記情報に基づいて不良な
チップを除去することを特徴とする。
半導体装置製造における各工程で元利するゴミ付者に関
する情報をウェハ内のチップに関連付けて順次蓄積し、
前記各]−程に続く検査工程において各チップの電気的
特性を検査ブるブF]−バで前記情報に基づいて不良な
チップを除去することを特徴とする。
すなわち、本発明は、途中工程ごとに採取した不良に関
する情報な集中管理し、ウェハ内に存看する不良チップ
情報、不良内容情報等を各検査、1.:程で採取して蓄
積し、最終的にチップ1つ1つの良品・不良品情報と管
理統合し、従来の検査工程では除去されなかった不良チ
ップを不良として検査]−程で除くことができるような
情報ネットリー・りを備えている。
する情報な集中管理し、ウェハ内に存看する不良チップ
情報、不良内容情報等を各検査、1.:程で採取して蓄
積し、最終的にチップ1つ1つの良品・不良品情報と管
理統合し、従来の検査工程では除去されなかった不良チ
ップを不良として検査]−程で除くことができるような
情報ネットリー・りを備えている。
[実施例]
次に本発明を実施例ζこ基づいて具体的に説明する。
第1図は本発明の一実施例に係る半導体装置の製造フロ
ーを示すブロック図である。まず、バタン設=1された
半導体ウェハは酸化、フォトレジスト、拡散といった各
製造工程を経た後、電極形成工程で所定の電極が形成さ
れ゛]’/Wチエツクと呼ばれるテスタによる電気的特
性チエツクにより、良品・不良品判定がなされる。ここ
で、本実施例の管理システムでは、バタン設計時に決め
られたチップサイズ、ウェハ内チップ位置を初期情報と
して情報ネットワークにもち、更に、製造工程が酸化、
フォトレジスト、拡散とすすむにつれて発生する情if
11 (1” II 2+ ’3 t・・・)に
キズ不良。
ーを示すブロック図である。まず、バタン設=1された
半導体ウェハは酸化、フォトレジスト、拡散といった各
製造工程を経た後、電極形成工程で所定の電極が形成さ
れ゛]’/Wチエツクと呼ばれるテスタによる電気的特
性チエツクにより、良品・不良品判定がなされる。ここ
で、本実施例の管理システムでは、バタン設計時に決め
られたチップサイズ、ウェハ内チップ位置を初期情報と
して情報ネットワークにもち、更に、製造工程が酸化、
フォトレジスト、拡散とすすむにつれて発生する情if
11 (1” II 2+ ’3 t・・・)に
キズ不良。
フォトレジスト不良、ゴミ付着等の不良に関する情報を
ウェハ内のチップ位置及び数とともに情報ネットワーク
に順次登録し、■チップ毎の工程別データとして蓄積す
る。そして、情報ネットワークに登録された初期情報及
び工程別情報を統合し、P/Wチェック工程で電気的特
性チエツクで不良と認識されないチップについての更な
る良品・不良品判定を、情報ネットワークから送り込ん
だ不良に関する情報に基づいて行い、良品のみを次の朝
立工程に供給するようプログラムしである。従って、組
立工程にはこのP/Wチエツクで良品と判定された高品
質なチップのみが投入され、この組立工程で発生した不
良チップは選別工程で除かれた後、最終的に高品質なチ
ップのみが出荷される。
ウェハ内のチップ位置及び数とともに情報ネットワーク
に順次登録し、■チップ毎の工程別データとして蓄積す
る。そして、情報ネットワークに登録された初期情報及
び工程別情報を統合し、P/Wチェック工程で電気的特
性チエツクで不良と認識されないチップについての更な
る良品・不良品判定を、情報ネットワークから送り込ん
だ不良に関する情報に基づいて行い、良品のみを次の朝
立工程に供給するようプログラムしである。従って、組
立工程にはこのP/Wチエツクで良品と判定された高品
質なチップのみが投入され、この組立工程で発生した不
良チップは選別工程で除かれた後、最終的に高品質なチ
ップのみが出荷される。
第2図は本発明の他の一実施例に係る半導体装置の製造
フローを示すブロック図である。まず、バタン設計され
た半導体ウェハは酸化、フォトレジスト、拡散といった
各製造工程を何度か繰り返した後、P/Wチエツクと呼
ばれるテスタによる電気的特性チエツクにより、良品・
不良品判定がなされる。
フローを示すブロック図である。まず、バタン設計され
た半導体ウェハは酸化、フォトレジスト、拡散といった
各製造工程を何度か繰り返した後、P/Wチエツクと呼
ばれるテスタによる電気的特性チエツクにより、良品・
不良品判定がなされる。
本実施例の管理システムでは、バタン設計時に決められ
たチップサイズ、ウェハ内チップ位置を初期情報として
もち、製造工程が酸化、フ第1・レジスト、拡散とすす
むにつれて各工程でゴミ検出装置により検出されるゴミ
何着の情報i (i=1゜2.3.・・・)をウェハ内
のチップ位置及び数とともに順次登録し、■チップ毎の
工程別データとして蓄積する。このゴミ付着に関する情
報をゴミ付着に関する設計基準に基づき良品・不良品判
定を行い、電気的特性チエツクで不良と認識されないチ
ップについての良品・不良品チップ情報なP/Wチエツ
ク時に使用するブロー式に送り込む。ブロー式はP/W
時に電気的特性チエツク結果とゴミ検出装置より得た情
報を照合して総合し、不良と認識されるチップをスクラ
ッチし、良品のみを次の組立工程に供給する。従って、
組立工程にはこのP/Wチエツク時に総合して良品と認
められた高品質なチップのみが投入され、選別工程で組
立工程で発生した不良のチップが除かれた後、最終的に
高品質なチップのみが出荷される。
たチップサイズ、ウェハ内チップ位置を初期情報として
もち、製造工程が酸化、フ第1・レジスト、拡散とすす
むにつれて各工程でゴミ検出装置により検出されるゴミ
何着の情報i (i=1゜2.3.・・・)をウェハ内
のチップ位置及び数とともに順次登録し、■チップ毎の
工程別データとして蓄積する。このゴミ付着に関する情
報をゴミ付着に関する設計基準に基づき良品・不良品判
定を行い、電気的特性チエツクで不良と認識されないチ
ップについての良品・不良品チップ情報なP/Wチエツ
ク時に使用するブロー式に送り込む。ブロー式はP/W
時に電気的特性チエツク結果とゴミ検出装置より得た情
報を照合して総合し、不良と認識されるチップをスクラ
ッチし、良品のみを次の組立工程に供給する。従って、
組立工程にはこのP/Wチエツク時に総合して良品と認
められた高品質なチップのみが投入され、選別工程で組
立工程で発生した不良のチップが除かれた後、最終的に
高品質なチップのみが出荷される。
[発明の効呆コ
以上説明したように、本発明により最終的な出荷品質が
向上し、出荷品の市場での不具合発生を防止できるほか
、製造工程の比較的初期の段階で不良品を除くことがで
きるため、無駄な費用が発生せず、半導体製造コストを
下げることができるという効果を有する。
向上し、出荷品の市場での不具合発生を防止できるほか
、製造工程の比較的初期の段階で不良品を除くことがで
きるため、無駄な費用が発生せず、半導体製造コストを
下げることができるという効果を有する。
第1図は本発明の一実施例に係る半導体装置の製造フロ
ーを示すブロック図、第2図は本発明の他の一実施例に
係る半導体装置の製造フローを示すブロック図である。
ーを示すブロック図、第2図は本発明の他の一実施例に
係る半導体装置の製造フローを示すブロック図である。
Claims (2)
- (1)半導体装置製造における各工程で発生する不良に
関する情報をウェハ内のチップに関連付けて順次蓄積し
、前記各工程に続く検査工程において当該情報に基づい
て不良なチップを除去することを特徴とする半導体装置
の製造管理システム。 - (2)半導体装置製造における各工程で発生するゴミ付
着に関する情報をウェハ内のチップに関連付けて順次蓄
積し、前記各工程に続く検査工程において各チップの電
気的特性を検査するプローバで前記情報に基づいて不良
なチップを除去することを特徴とする半導体装置の製造
管理システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17230390A JP2969822B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 半導体装置の製造管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17230390A JP2969822B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 半導体装置の製造管理システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0461251A true JPH0461251A (ja) | 1992-02-27 |
| JP2969822B2 JP2969822B2 (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=15939426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17230390A Expired - Fee Related JP2969822B2 (ja) | 1990-06-28 | 1990-06-28 | 半導体装置の製造管理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2969822B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104777415A (zh) * | 2015-04-17 | 2015-07-15 | 重庆微标科技有限公司 | 一种铁路车号自动识别系统主机的制造工艺 |
-
1990
- 1990-06-28 JP JP17230390A patent/JP2969822B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104777415A (zh) * | 2015-04-17 | 2015-07-15 | 重庆微标科技有限公司 | 一种铁路车号自动识别系统主机的制造工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2969822B2 (ja) | 1999-11-02 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |