JPH0461323B2 - - Google Patents
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- JPH0461323B2 JPH0461323B2 JP58238813A JP23881383A JPH0461323B2 JP H0461323 B2 JPH0461323 B2 JP H0461323B2 JP 58238813 A JP58238813 A JP 58238813A JP 23881383 A JP23881383 A JP 23881383A JP H0461323 B2 JPH0461323 B2 JP H0461323B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は合成樹脂レンズのような合成樹脂基板
の多層反射防止膜に関する。
の多層反射防止膜に関する。
近年、成形の容易さと軽量とによつて合成樹脂
製光学部品、特にレンズが用いられるようになつ
たが、これらの光学部品の反射防止膜には、なお
問題が残つている。
製光学部品、特にレンズが用いられるようになつ
たが、これらの光学部品の反射防止膜には、なお
問題が残つている。
従来、このような反射防止膜としては、例えば
次のものが知られている。すなわち、特開昭56−
18922号には、合成樹脂基板上に機械的強度を補
うに十分な、数μの膜厚の二酸化ケイ素（SiO2）
からなる第１層を形成し、その上に膜厚0.15λ〜
0.25λ〔λ（光の波長）＝450〜550nm〕の酸化イツ
トリウム（Y2O3）膜からなる第２層、その上に
膜厚0.35λ〜0.45λの酸化ジルコニウム（ZrO2）膜
からなる第３層、およびさらに第３層の上に膜厚
0.20λ〜0.30λの二酸化ケイ素膜からなる第４層を
順次積層した多層反射防止膜が開示されている。
次のものが知られている。すなわち、特開昭56−
18922号には、合成樹脂基板上に機械的強度を補
うに十分な、数μの膜厚の二酸化ケイ素（SiO2）
からなる第１層を形成し、その上に膜厚0.15λ〜
0.25λ〔λ（光の波長）＝450〜550nm〕の酸化イツ
トリウム（Y2O3）膜からなる第２層、その上に
膜厚0.35λ〜0.45λの酸化ジルコニウム（ZrO2）膜
からなる第３層、およびさらに第３層の上に膜厚
0.20λ〜0.30λの二酸化ケイ素膜からなる第４層を
順次積層した多層反射防止膜が開示されている。
特開昭50−67147号には、合成樹脂基板上に、
例えば、第１層として一酸化ケイ素（SiO）を1/
４λまたは1/2λ（λ＝530nm）の厚さに蒸着し、
ついで第２層として二酸化ケイ素を1/4λの厚さ
に蒸着して多層反射防止膜を形成することが開示
されている。
例えば、第１層として一酸化ケイ素（SiO）を1/
４λまたは1/2λ（λ＝530nm）の厚さに蒸着し、
ついで第２層として二酸化ケイ素を1/4λの厚さ
に蒸着して多層反射防止膜を形成することが開示
されている。
また、特開昭56−121001号には、合成樹脂基板
上に第１層として膜厚20nm以下の一酸化ケイ素
膜、その上に第２層として膜厚0.50λ未満のアル
ミナ膜、さらにその上に第３層として膜厚0.25λ
〜0.30λのフツ化マグネシウム（MgF2）膜を順次
積層したプラスチツク光学部品が開示されてい
る。
上に第１層として膜厚20nm以下の一酸化ケイ素
膜、その上に第２層として膜厚0.50λ未満のアル
ミナ膜、さらにその上に第３層として膜厚0.25λ
〜0.30λのフツ化マグネシウム（MgF2）膜を順次
積層したプラスチツク光学部品が開示されてい
る。
さらに、特開昭58−60701号には、複数の蒸着
条件を異にするため異つた屈折率を持つた一酸化
ケイ素の蒸着膜によつて構成される多層反射防止
膜が開示され、具体的には基板上に屈折率1.60〜
1.68光学的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素からなる
第１層、その上に屈折率1.75〜1.83、光学的膜厚
がλ／４の一酸化ケイ素からなる第２層、さらに
その上に屈折率1.50〜1.55、光学的膜厚がλ／４
の一酸化ケイ素膜からなる第３層を、順次積層し
た多層反射防止膜が開示されている。この際、一
酸化ケイ素の屈折率は蒸着速度一定の条件下に酸
素ガス圧力を変化させたり、または酸素ガス圧力
一定の条件下に蒸着速度を変化させることによつ
て、変化させることが開示されている。
条件を異にするため異つた屈折率を持つた一酸化
ケイ素の蒸着膜によつて構成される多層反射防止
膜が開示され、具体的には基板上に屈折率1.60〜
1.68光学的膜厚がλ／４の一酸化ケイ素からなる
第１層、その上に屈折率1.75〜1.83、光学的膜厚
がλ／４の一酸化ケイ素からなる第２層、さらに
その上に屈折率1.50〜1.55、光学的膜厚がλ／４
の一酸化ケイ素膜からなる第３層を、順次積層し
た多層反射防止膜が開示されている。この際、一
酸化ケイ素の屈折率は蒸着速度一定の条件下に酸
素ガス圧力を変化させたり、または酸素ガス圧力
一定の条件下に蒸着速度を変化させることによつ
て、変化させることが開示されている。
これらの多層反射防止膜のうち、特開昭56−
18922号に開示されたものは、合成樹脂基板とし
てジエチレングリコールビスアリルカーボネート
（CR−39）が使用され、メガネ用に開発された多
層反射防止膜であり、上記の構成膜をインジエク
シヨンおよびキヤスト成形された基板に適用する
と第１層の二酸化ケイ素膜に亀裂が発生する。ま
た、特開昭50−67147号および特開昭56−121001
号に開示されたものは、膜の亀裂の発生はない
が、可視光領域における反射防止効果が低く、密
着性に若干の不安がある。
18922号に開示されたものは、合成樹脂基板とし
てジエチレングリコールビスアリルカーボネート
（CR−39）が使用され、メガネ用に開発された多
層反射防止膜であり、上記の構成膜をインジエク
シヨンおよびキヤスト成形された基板に適用する
と第１層の二酸化ケイ素膜に亀裂が発生する。ま
た、特開昭50−67147号および特開昭56−121001
号に開示されたものは、膜の亀裂の発生はない
が、可視光領域における反射防止効果が低く、密
着性に若干の不安がある。
さらに、特開昭58−60701号に開示されたもの
は、一酸化ケイ素のみで構成されているので、大
気中に放置すると酸素の影響を受け、二酸化ケイ
素に近ずくため、経時的に分光反射特性が変化す
るという欠点がある。
は、一酸化ケイ素のみで構成されているので、大
気中に放置すると酸素の影響を受け、二酸化ケイ
素に近ずくため、経時的に分光反射特性が変化す
るという欠点がある。
本発明の目的は、合成樹脂基板の種類に関係な
く、基板の補強効果と可視光領域および近赤外領
域における反射防止効果を向上させた合成樹脂基
板の反射防止膜を提供することにある。
く、基板の補強効果と可視光領域および近赤外領
域における反射防止効果を向上させた合成樹脂基
板の反射防止膜を提供することにある。
本発明のいま一つの目的は、カラーバランスが
良好で、基板に対する密着性が高く、かつ耐溶剤
性、耐磨耗性、耐環境性の良好な反射防止膜を提
供することにある。
良好で、基板に対する密着性が高く、かつ耐溶剤
性、耐磨耗性、耐環境性の良好な反射防止膜を提
供することにある。
本発明による合成樹脂基板の反射防止膜は、合
成樹脂基板上に形成された光学的膜厚0.13λ〜λ
〔λ（光の波長）＝450〜550nm〕の一酸化ケイ素膜
からなる第１層、該第１層上に形成された光学的
膜厚0.13λ〜λの二酸化ケイ素膜からなる第２層、
該第２層上に形成された光学的膜厚0.23λ〜0.29λ
の酸化ジルコニウム（ZrO2）、酸化セリウム
（CeO2）またはこれらの混合物の膜、或は酸化ジ
ルコニウムおよび酸化セリウムの多層膜からなる
第３層、該第３層上に形成された光学的膜厚
0.23λ〜0.29λの五酸化タンタル（Ta2O5）一酸化
チタン（TiO）二酸化チタン（TiO2）またはそ
れらの２以上の混合物の膜、或は五酸化タンタ
ル、一酸化チタンおよび二酸化チタンの２以上の
多層膜からなる第４層および該第４層上に形成さ
れた光学的膜厚0.23λ〜0.29λの二酸化ケイ素、フ
ツ化マグネシウムまたはこれらの混合物の膜、或
は二酸化ケイ素およびフツ化マグネシウムの多層
膜からなる第５層からなることを特徴とするもの
である。
成樹脂基板上に形成された光学的膜厚0.13λ〜λ
〔λ（光の波長）＝450〜550nm〕の一酸化ケイ素膜
からなる第１層、該第１層上に形成された光学的
膜厚0.13λ〜λの二酸化ケイ素膜からなる第２層、
該第２層上に形成された光学的膜厚0.23λ〜0.29λ
の酸化ジルコニウム（ZrO2）、酸化セリウム
（CeO2）またはこれらの混合物の膜、或は酸化ジ
ルコニウムおよび酸化セリウムの多層膜からなる
第３層、該第３層上に形成された光学的膜厚
0.23λ〜0.29λの五酸化タンタル（Ta2O5）一酸化
チタン（TiO）二酸化チタン（TiO2）またはそ
れらの２以上の混合物の膜、或は五酸化タンタ
ル、一酸化チタンおよび二酸化チタンの２以上の
多層膜からなる第４層および該第４層上に形成さ
れた光学的膜厚0.23λ〜0.29λの二酸化ケイ素、フ
ツ化マグネシウムまたはこれらの混合物の膜、或
は二酸化ケイ素およびフツ化マグネシウムの多層
膜からなる第５層からなることを特徴とするもの
である。
本発明において、前記第２層から第５層までは
活性化反応蒸着により形成されたものであること
が各層間の密着性を高める上で好ましい。こゝで
「活性化反応蒸着」とは、プラズマ化された活性
ガス、例えば酸素ガス中で蒸着を行なうことを意
味する。
活性化反応蒸着により形成されたものであること
が各層間の密着性を高める上で好ましい。こゝで
「活性化反応蒸着」とは、プラズマ化された活性
ガス、例えば酸素ガス中で蒸着を行なうことを意
味する。
本発明における合成樹脂基板としては、特に小
型カメラ用レンズ、ビデオカメラ用レンズ、複写
機用レンズ等に利用される非球面レンズを目的と
したレンズ構成に用いられる合成樹脂レンズを挙
げることができる。これらの合成樹脂基板は、例
えばジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト、キヤステイング成形またはインジエクシヨン
成形されたアクリル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、スチレン樹脂からなる。
型カメラ用レンズ、ビデオカメラ用レンズ、複写
機用レンズ等に利用される非球面レンズを目的と
したレンズ構成に用いられる合成樹脂レンズを挙
げることができる。これらの合成樹脂基板は、例
えばジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト、キヤステイング成形またはインジエクシヨン
成形されたアクリル樹脂、ポリカーボネート樹
脂、スチレン樹脂からなる。
合成樹脂基板上に各層を順次積層するには、真
空蒸着、エレクトロンビームなどの公知の手段を
用いることができるが、第２層から第５層までは
前述した活性化反応蒸着により積層するのが、各
層相互間の密着性が高くなるので好ましい。第１
層の一酸化ケイ素膜は合成樹脂との密着性がよい
ので、特に活性化反応蒸着によらなくてもよい。
空蒸着、エレクトロンビームなどの公知の手段を
用いることができるが、第２層から第５層までは
前述した活性化反応蒸着により積層するのが、各
層相互間の密着性が高くなるので好ましい。第１
層の一酸化ケイ素膜は合成樹脂との密着性がよい
ので、特に活性化反応蒸着によらなくてもよい。
本発明による多層反射防止膜において、一酸化
ケイ素膜からなる第１層と二酸化ケイ素膜からな
る第２層とは反射防止の機能とともに、基板の補
強機能をも備えている。
ケイ素膜からなる第１層と二酸化ケイ素膜からな
る第２層とは反射防止の機能とともに、基板の補
強機能をも備えている。
以下に本発明を実施例を示して本発明をさらに
詳細に説明する。
詳細に説明する。
実施例 １
第１図を参照して本発明の実施例を説明する。
第１図は、この実施例の反射防止膜の一部の拡大
断面図である。インジエクシヨン成形されたアク
リル樹脂基板１の表面に、真空度１×10-5Torr
において一酸化ケイ素を抵抗加熱により、蒸着速
度２〓／秒（一定）で真空蒸着して膜厚0.5λ（λ
＝450〜550nm）の第１層２を形成する。このと
きの第１層の屈折率は1.60〜1.68である。
第１図は、この実施例の反射防止膜の一部の拡大
断面図である。インジエクシヨン成形されたアク
リル樹脂基板１の表面に、真空度１×10-5Torr
において一酸化ケイ素を抵抗加熱により、蒸着速
度２〓／秒（一定）で真空蒸着して膜厚0.5λ（λ
＝450〜550nm）の第１層２を形成する。このと
きの第１層の屈折率は1.60〜1.68である。
第１層の上に二酸化ケイ素をエレクトロンビー
ムで蒸着して膜厚0.5λの第２層３を形成する。第
２層の屈折率は1.45〜1.46である。第１層と第２
層とは基板の補強効果をも有している。
ムで蒸着して膜厚0.5λの第２層３を形成する。第
２層の屈折率は1.45〜1.46である。第１層と第２
層とは基板の補強効果をも有している。
第２層の上に、酸化ジルコニウムをエレクトロ
ンビームで蒸着して膜厚0.25λの第３層４を形成
する。第３層の屈折率は1.89〜1.91である。
ンビームで蒸着して膜厚0.25λの第３層４を形成
する。第３層の屈折率は1.89〜1.91である。
ついで、第３層の上に五酸化タンタルをエレク
トロンビームで蒸着して膜厚0.25λの第４層５を
形成する。第４層の屈折率は2.0〜2.1である。
トロンビームで蒸着して膜厚0.25λの第４層５を
形成する。第４層の屈折率は2.0〜2.1である。
さらに、第４層の上に二酸化ケイ素を蒸着して
膜厚が0.25λ、屈折率が1.45〜1.46の第５層６を形
成する。
膜厚が0.25λ、屈折率が1.45〜1.46の第５層６を形
成する。
このようにして得られた反射防止膜の分光反射
率特性は第２図から明らかなように、近赤外領域
まで良好な特性を示し、波長500〜540nmの光の
反射率が、わずかに山形に高くなつているので反
射光が鮮やかな緑色となる。したがつて、眼鏡用
レンズに対しても適用することができる。
率特性は第２図から明らかなように、近赤外領域
まで良好な特性を示し、波長500〜540nmの光の
反射率が、わずかに山形に高くなつているので反
射光が鮮やかな緑色となる。したがつて、眼鏡用
レンズに対しても適用することができる。
次に、得られた反射防止膜について以下の試験
を行つた。
を行つた。
(1) 密着性テスト：上記のようにして得られた反
射防止膜の表面にセロハンテープ（ニチバン）
を接着させた後、この表面にほゞ垂直な角度
で、すばやくとりのぞくテストを15回繰返した
が、蒸着膜の剥離を生ずることがなかつた。
射防止膜の表面にセロハンテープ（ニチバン）
を接着させた後、この表面にほゞ垂直な角度
で、すばやくとりのぞくテストを15回繰返した
が、蒸着膜の剥離を生ずることがなかつた。
(2) 耐溶剤性テスト：反射防止膜表面をエーテ
ル、アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙
（シルボン紙）で拭いたが、異常が認められな
かつた。
ル、アルコール混合液をつけたレンズ拭き紙
（シルボン紙）で拭いたが、異常が認められな
かつた。
(3) 耐摩耗テスト：反射防止膜表面の１ケ所をレ
ンズ拭き紙（シルボン紙）を用いて３〜４Kg／
cm2の圧で50往復こすつたが、異常が認められな
かつた。
ンズ拭き紙（シルボン紙）を用いて３〜４Kg／
cm2の圧で50往復こすつたが、異常が認められな
かつた。
(4) 耐環境テスト：反射防止膜を45℃、相対湿度
95％の恒温恒湿槽中に1000時間放置し、ついで
熱衝撃テスト（60℃−30℃）を５回繰返した
が、異常が認められなかつた。
95％の恒温恒湿槽中に1000時間放置し、ついで
熱衝撃テスト（60℃−30℃）を５回繰返した
が、異常が認められなかつた。
実施例 ２
実施例１における第２層３、第３層４、第４層
５および第５層６を真空度７×10-5〜１×10-4
Torrにおいて高周波（13.56MHz）酸素プラズマ
中において活性化蒸着する。
５および第５層６を真空度７×10-5〜１×10-4
Torrにおいて高周波（13.56MHz）酸素プラズマ
中において活性化蒸着する。
この実施例により得られた反射防止膜は、実施
例１により得られた反射防止膜と実質的に同じ分
光反射特性を示し、密着性テストにおける20回の
繰返しでも膜の剥離は認められず、また耐溶剤性
も実施例１の反射防止膜のそれと同等またはそれ
以上であつた。
例１により得られた反射防止膜と実質的に同じ分
光反射特性を示し、密着性テストにおける20回の
繰返しでも膜の剥離は認められず、また耐溶剤性
も実施例１の反射防止膜のそれと同等またはそれ
以上であつた。
なお、この実施例において第３層４の酸化ジル
コニウム膜を酸化セリウム膜、酸化ジルコニウム
と酸化セリウムの混合物の膜または酸化ジルコニ
ウムと酸化セリウムの多層膜に代えた反射防止
膜、第４層５の五酸化タンタル膜を一酸化チタン
膜、二酸化チタン膜、または一酸化チタン、二酸
化チタンおよび五酸化タンタルの２以上の混合物
の膜若しくはこれらの２以上の多層膜に代えた反
射防止膜、および／または第５層６の二酸化ケイ
素膜に代えて弗化マグネシウム膜または二酸化ケ
イ素とフツ化マグネシウムの混合物の膜若しくは
これらの多層膜を用いた反射防止膜は、いずれも
密着性、耐溶剤性、耐摩耗性、耐環境性に優れた
ものであつた。
コニウム膜を酸化セリウム膜、酸化ジルコニウム
と酸化セリウムの混合物の膜または酸化ジルコニ
ウムと酸化セリウムの多層膜に代えた反射防止
膜、第４層５の五酸化タンタル膜を一酸化チタン
膜、二酸化チタン膜、または一酸化チタン、二酸
化チタンおよび五酸化タンタルの２以上の混合物
の膜若しくはこれらの２以上の多層膜に代えた反
射防止膜、および／または第５層６の二酸化ケイ
素膜に代えて弗化マグネシウム膜または二酸化ケ
イ素とフツ化マグネシウムの混合物の膜若しくは
これらの多層膜を用いた反射防止膜は、いずれも
密着性、耐溶剤性、耐摩耗性、耐環境性に優れた
ものであつた。
比較例 １
実施例１と同じインジエクシヨン成形されたア
クリル樹脂基板１を用い、このアクリル樹脂基板
１の表面に真空度１×10-5Torrにおいて一酸化
ケイ素を抵抗加熱により、蒸着速度２〓／秒（一
定）で真空蒸着して膜厚3λ（λ＝450〜550nm）
の第１層２を形成する。このときの第１層の屈折
率は1.60〜1.68である。
クリル樹脂基板１を用い、このアクリル樹脂基板
１の表面に真空度１×10-5Torrにおいて一酸化
ケイ素を抵抗加熱により、蒸着速度２〓／秒（一
定）で真空蒸着して膜厚3λ（λ＝450〜550nm）
の第１層２を形成する。このときの第１層の屈折
率は1.60〜1.68である。
第１層の上には、実施例１と同様の操作により
第２層から第５層を形成した。ただし、この様に
して得られた膜は本発明が目的とする良好なカラ
ーバランスを得ていなかつた。この比較例により
得られた反射防止膜について実施例１と同様に試
験を行つた。その結果は次の通りであつた。
第２層から第５層を形成した。ただし、この様に
して得られた膜は本発明が目的とする良好なカラ
ーバランスを得ていなかつた。この比較例により
得られた反射防止膜について実施例１と同様に試
験を行つた。その結果は次の通りであつた。
(1) 密着性テスト：実施例１と同じ。
(2) 耐溶剤性テスト：実施例１と同じ。
(3) 耐摩耗テスト：実施例１と同じ。
(4) 耐環境テスト：熱衝撃テストの５回繰返し
で、透過目視観察にて樹脂基板中央に微小な膜
ワレの発生が認められた。
で、透過目視観察にて樹脂基板中央に微小な膜
ワレの発生が認められた。
比較例 ２
第１層の膜厚を6λ（λ＝450〜550nm）にした
ことを除いて比較例１と同様にして反射防止膜を
形成し、実施例１と同様に試験を行つた。その結
果は次の通りであつた。
ことを除いて比較例１と同様にして反射防止膜を
形成し、実施例１と同様に試験を行つた。その結
果は次の通りであつた。
(1) 密着性テスト：実施例１と同じ。
(2) 耐溶剤性テスト：実施例１と同じ。
(3) 耐摩耗テスト：実施例１と同じ。
(4) 耐環境テスト：熱衝撃テストの５回の繰返し
で、透過目視観察にて樹脂基板全面に微小な蒸
着膜の膜ワレの発生が認められた。
で、透過目視観察にて樹脂基板全面に微小な蒸
着膜の膜ワレの発生が認められた。
比較例 ３
実施例１と同じインジエクシヨン成形されたア
クリル樹脂基板１を用い、このアクリル樹脂基板
１の表面に真空度１×10-5Torrにおいて二酸化
ケイ素をエレクトロンビームにより真空蒸着して
膜厚0.5λ（λ＝450〜550nm）の第１層２を形成す
る。このときの第１層の屈折率は1.45〜1.46であ
る。
クリル樹脂基板１を用い、このアクリル樹脂基板
１の表面に真空度１×10-5Torrにおいて二酸化
ケイ素をエレクトロンビームにより真空蒸着して
膜厚0.5λ（λ＝450〜550nm）の第１層２を形成す
る。このときの第１層の屈折率は1.45〜1.46であ
る。
第１層の上には実施例１と同様の操作により第
２層から第４層を形成した。すなわち、この比較
例においては、第１層目と第２層目とが同じ二酸
化ケイ素膜から形成されるため、見かけ１層少な
い４層構成となる。
２層から第４層を形成した。すなわち、この比較
例においては、第１層目と第２層目とが同じ二酸
化ケイ素膜から形成されるため、見かけ１層少な
い４層構成となる。
このようにして得られた膜は本発明が目的とす
る良好なカラーバランスを得ていなかつた。この
比較例により得られた反射防止膜について実施例
１と同様に試験を行つた。その結果は次の通りで
あつた。
る良好なカラーバランスを得ていなかつた。この
比較例により得られた反射防止膜について実施例
１と同様に試験を行つた。その結果は次の通りで
あつた。
(1) 密着性テスト：セロハンテープを接着し取り
除く操作の５回の繰返しで、蒸着膜が樹脂基板
の面から剥離した。
除く操作の５回の繰返しで、蒸着膜が樹脂基板
の面から剥離した。
(2) 耐溶剤性テスト：蒸着膜の膜うきと線状の膜
はがれが発生した。
はがれが発生した。
(3) 耐摩耗テスト：50往復のこすりで線状の蒸着
膜の膜はがれが発生した。
膜の膜はがれが発生した。
(4) 耐環境テスト：熱衝撃の５回の繰返しで、透
過目視観察にて蒸着膜の一部に膜うきが認めら
れた。
過目視観察にて蒸着膜の一部に膜うきが認めら
れた。
本発明によれば、合成樹脂の種類、成形方法に
無関係に、合成樹脂基板の補強効果と可視光領域
および近赤外領域における良好な反射防止効果と
を兼ね備え、しかも密着性、耐溶剤性、耐摩耗性
および耐環境性に優れた合成樹脂基板の反射防止
膜をうることができる。
無関係に、合成樹脂基板の補強効果と可視光領域
および近赤外領域における良好な反射防止効果と
を兼ね備え、しかも密着性、耐溶剤性、耐摩耗性
および耐環境性に優れた合成樹脂基板の反射防止
膜をうることができる。
第１図は本発明の一実施例の反射防止膜の一部
の拡大断面図であり、第２図は上記反射防止膜の
分光反射率特性を示すグラフである。 １……基板、２……第１層、３……第２層、４
……第３層、５……第４層、６……第５層。
の拡大断面図であり、第２図は上記反射防止膜の
分光反射率特性を示すグラフである。 １……基板、２……第１層、３……第２層、４
……第３層、５……第４層、６……第５層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 合成樹脂基板上に形成された光学的膜厚
0.13λ〜λ〔λ（光の波長）＝450〜550nm〕の一酸
化ケイ素膜からなる第１層、該第１層上に形成さ
れた光学的膜厚0.13λ〜λの二酸化ケイ素膜から
なる第２層、該第２層上に形成された光学的膜厚
0.23λ〜0.29λの酸化ジルコニウム、酸化セリウム
またはこれらの混合物の膜、或は酸化ジルコニウ
ムおよび酸化セリウムの多層膜からなる第３層、
該第３層上に形成された光学的膜厚0.23λ〜0.29λ
の五酸化タンタル、一酸化チタン、二酸化チタン
またはそれらの２以上の混合物の膜、或は五酸化
タンタル、一酸化チタンおよび二酸化チタンの２
以上の多層膜からなる第４層、および該第４層上
に形成された光学的膜厚0.23λ〜0.29λの二酸化ケ
イ素、フツ化マグネシウムまたはこれらの混合物
の膜、或は二酸化ケイ素およびフツ化マグネシウ
ムの多層膜からなる第５層からなることを特徴と
する合成樹脂基板の反射防止膜。 ２ 前記第２層から第５層までが活性化反応蒸着
により形成されたものである特許請求の範囲第１
項記載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238813A JPS60130703A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238813A JPS60130703A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60130703A JPS60130703A (ja) | 1985-07-12 |
| JPH0461323B2 true JPH0461323B2 (ja) | 1992-09-30 |
Family
ID=17035665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58238813A Granted JPS60130703A (ja) | 1983-12-20 | 1983-12-20 | 合成樹脂基板の反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60130703A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4128547A1 (de) * | 1991-08-28 | 1993-03-04 | Leybold Ag | Verfahren und vorrichtung fuer die herstellung einer entspiegelungsschicht auf linsen |
-
1983
- 1983-12-20 JP JP58238813A patent/JPS60130703A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60130703A (ja) | 1985-07-12 |
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