JPH0462550A - 感光材料処理装置の温調装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光材料処理装置の温調装置に係り、特に処理
液ならびに乾燥室が最適な状態で使用できるまでの時間
（以下ウオームアツプ時間という）が短縮できる感光材
料処理装置の処理液ならびに乾燥室の温調装置に関する
。

〔従来の技術〕

感光材料を処理して乾燥させる自動現像機等の感光材料
処理装置には、感光材料を処理する処理液が貯留された
処理槽と処理された感光材料を乾燥させる乾燥室とが設
けられてし）る。処理液ならびに乾燥室の温調装置とし
て、処理液を加熱する処理液加熱ヒータならびに乾燥室
を加熱する乾燥風加熱ヒータを備え、処理液加熱ヒータ
ならびに乾燥風加熱ヒータを同時にオンさせて、処理液
ならびに乾燥室内温度を上昇させるものがある。この温
調装置は、乾燥性確保のため、乾燥風加熱ヒータの容量
は処理液加熱ヒータの容量より大きくされている。この
温調装置によってウオームアツプを行うと処理液および
乾燥室の温度は、第５図に示すように変化する。なお、
第５図において実線Ａで示されるグラフは、従来の装置
における乾燥室の温度と加熱時間との関係を示しており
、実線Ｂは処理液の温度と加熱時間を示している〔発明
が解決しようとする課題〕 上記従来装置では、乾燥風加熱ヒータの容量は充分確保
されるため、乾燥室のウオームアツプ時間は短かい。し
かしながら、消費電力との関係から処理液加熱ヒータの
容量は大きくてきなし）ため、処理液のウオームアツプ
時間が長くなり、二の処理液のウオームアツプ時間が全
ウオームアンプ時間に略等くなってしまっている。した
がって、処理液のウオームアツプ時間が長くなるのみな
らず、乾燥室の温度が所定温度Ｔ２に到達した後乾燥室
の温度を所定の温度に保つように加熱しなければならな
いた約、乾燥室における熱損失が大きくなる。この問題
を解決するために処理液加熱ヒータの消費電力を大きく
して処理液のウオームアツプ時間を短縮することも考え
られるが、使用できる消費電力の大きさに限界があるこ
とやコストが増大するなどの問題がある。

本発明は上記事実を考慮し、消費電力を増大させること
なく、ウオームアンプ時間を短縮できる自動現像機の処
理液ならびに乾燥室の温調装置を得ることを目的とする
。

〔課題を解決するための手段〕

上記問題を達成するために請求項（１）の発明に係る感
光材料処理装置の温調装置は、感光材料を処理する処理
液が貯留された処理槽と処理槽で処理された感光材料を
乾燥させる乾燥室とを備えた感光材料処理装置の処理液
および乾燥室の温度調節を行う感光材料処理装置の温調
装置において、処理液を加熱する処理液加熱ヒータと、
前記乾燥室を加熱するための乾燥風加熱ヒータと、前記
処理液加熱ヒータにウオームアツプ用の全電力を供給し
処理液の温度が所定温度になったときに、前記処理液加
熱ヒータに供給する電力を低下させて処理液の温度を前
記所定温度に保持するのに必要な電力によって処理液の
温度制御を行うと共に前記乾燥風加熱ヒータに残りの電
力を供給する制御手段と、を設けたことを特徴としてい
る。

上記目的を達成するために、請求項（２）の発明に係る
感光材料処理装置の温調装置液ならびに乾燥室の温調装
置は、感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽と
処理槽て処理された感光材料を乾燥させる乾燥室とを備
えた感光材料処理装置の処理液および乾燥室の温度調節
を行う感光材料処理装置の温調装置において、処理液を
加熱するための第１のヒータと第２のヒータとを備えた
処理液加熱手段と、前記乾燥室を加熱するための乾燥風
加熱ヒータと、前記第１のヒータおよび第２のヒータを
オンさせ処理液が所定の温度まで加熱されたときに、前
記第１のヒータおよび第２のヒータのいずれか一方のヒ
ータをオフさせかつ他方のヒータで処理液の温度制御を
行うと共に乾燥風加熱ヒータをオンさせる制御手段と、
を設けたことを特徴としている。

上記目的を達成するために、請求項（３）の発明に係る
感光材料処理装置の温調装置は、感光材料を処理する処
理液が貯留された処理槽と処理槽で処理された感光材料
を乾燥させる乾燥室とを備えた感光材料処理装置の処理
液および乾燥室の温度調節を行う感光材料処理装置の温
調装置において、処理液を加熱するための第１のヒータ
と第２のヒータとを備えた処理液加熱手段と、前記乾燥
室を加熱するための乾燥風加熱ヒータと、処理液が第１
の所定温度まで加熱されたとき前記第１のヒータおよび
第２のヒータのいずれか一方をオフさせると共に前記乾
燥風加熱ヒータをオンさせ、処理液の温度が第１の所定
温度より高い第２の所定温度まで加熱されたときオンオ
フ制御により処理液の温度を保持する制御手段と、を設
けたことを特徴としている。

〔作用〕

請求項（１）の発明では、処理液の温度を所定温度まで
上昇させるときに処理液加熱ヒータに全消費電力を供給
するので処理液のウオームアンプ時間を従来より短縮で
きる。すなわち全ウオームアツプ時間に略等しい処理液
のウオームアツプ時間を短縮できる。処理液のウオーム
アツプ終了後は処理液温保持のための電力を処理液加熱
ヒータに供給して、残りの電力を乾燥風加熱ヒータに供
給する。処理液加熱ヒータの電力は乾燥風加熱ヒタより
小さいため、処理液温保持のための消費電力は少なくて
すむ。また、残りの電力を乾燥風加熱ヒータに供給する
ので、乾燥室のウオームアツプ時間を従来より短縮でき
る。したがって、全体としてウオームアツプ時間を短く
することができると共に、温度保持のだ約の消費電力を
少なくすることができる。

また請求項（２）発明では、第１のヒータと第２のヒー
タとによって処理液を所定温度まで加熱されたときに、
いずれか一方のヒータのスイッチをオフさせると共に乾
燥風加熱ヒータのスイッチをオンさせている。したがっ
て、請求項（１）の発明と同様処理液のウオームアツプ
時間を短縮できるようになり、全ウオームアンプ時間を
短縮できる。

また請求項（３）の発明では、処理液がウオームアツプ
される前の第１の温度まで、第１のヒータおよび第２の
ヒータによって加熱されたときに、乾燥風加熱ヒータを
オンさせているので、全つォムアンプ時間をより短縮で
きる。

〔実施例〕

以下図面を参照して、本実施例を詳細に説明する。まず
本発明が適用された自動現像装置１０について説明する
。

第１図に示されているように、自動現像装置１０は、機
枠１２内に処理部１１及び乾燥室２０が設けられている
。処理部１１はフィルムＦの搬送方向に沿って隔壁１３
によって区画された現像槽１４、定着槽１６及び水洗槽
１８を備えている。

自動現像装置１０のフィルムＦの挿入口１５に近接した
位置には、自動現像装置１０内にフィルムＦを引き込む
挿入ラック１７が配置されている。

現像槽１４内には、現像液が収容されていると共に、図
示しないモーターにより駆動されてフィルムＦを搬送す
る搬送ローラ２２を有する搬送ラック２４が現像液に浸
漬された状態で配設されている。現像槽１４には現像液
の温度を検知する液温検出センサ５１が設置されている
。さらに現像槽１４には、第３図に示される如く、現像
液（処理液）を加熱する主ヒータ１９Ａ１副ヒーク１９
Ｂが現像液に浸漬された状態で配設されている。

主ヒータ１９Ａの容量は副ヒータの容量より小さく、ウ
オームアツプされた後の現像液の温度を保持できる程度
の大きさに定とられている。例えば主ヒータ１９Ａの容
量を従来の現像液の加熱ヒータの容量と等しくし、副ヒ
ータ１９Ｂの容量を従来の乾燥風加熱ヒータの容量と等
しくすることができる。主ヒータ１９Ａ１副ヒータ１９
Ｂは制御手段によって、オン・オフ制御される。また、
現像槽１４には、第２図に示される如く、現像液を循環
させるための管路７１の両端が接続されており、管路７
１の中間部には循環ポンプ７２が設けられている。

従って、循環ポンプ７２の作動により、現像液は、管路
７１を介して循環されて現像槽１４内の現像液の温度が
均一にされる。

定着槽１６内には、定着液が収容されていると共に、図
示しないモーターにより駆動されてフィルムＦを搬送す
る搬送ローラ２６を有する搬送ラック２８が定着液（処
理液）に浸漬された状態でて配設されている。なお図示
はしないが、定着槽１６にも定着液の温度を検知する液
温検出センサ５１が設置されている。また制御手段２１
によってオン・オフ制御される主ヒータ、副ヒータが定
着液に浸漬された状態で配設されている。第２図に示さ
れる如く、定着槽１６には定着液を循環させるための管
路７５の両端が接続されており、管路７５の中間部には
循環ポンプ７６が設けられている。従って、循環ポンプ
７６の作動により、定着液は、管路７５を介して定着槽
１６に循環されて定着槽１６内の定着液の温度が均一に
される。

また第１図に示す水洗槽１８内には、水洗水が収容され
ていると共に、図示しないモーターにより駆動されてフ
ィルムＦを搬送する搬送ローラ３０を有する搬送ラック
３２が水洗水に浸漬された状態で配設されている。

現像槽１４と定着槽１６の間及び定着槽１６と水洗槽１
８の間には、それらの上部にクロスオーバーラック３４
が配設されている。このクロスオーバーラック３４は、
フィルムＦの搬送方向上流側の槽から下流側の槽へフィ
ルムＦを搬送するための挟持搬送ローラ３６及びフィル
ムＦを案内するガイド３８を備えている。

現像槽１４内にて現像されたフィルムＦは、クロスオー
バーラック３４で定着槽１６に送られ、搬送ローラ２６
で定着液中を搬送されて定着処理される。定着されたフ
ィルムＦは、クロスオーバーラック３４で水洗槽１８に
送られ、搬送ローラ３０で水洗水中を搬送されて水洗さ
れる。このようにして、フィルムＦは現像液等の処理液
によって処理される。

また、水洗槽１８と乾燥室２０の間には、スクイズラッ
ク４０が配設されている。このスクイズラック４０は、
水洗槽１８から送り出され水洗水が付着したフィルムＦ
をスクイズしながら乾燥室２０へ搬送する搬送ローラ４
２とフィルムＦを案内するガイド４３とを有する。

乾燥室２０は、フィルムＦを搬送する搬送ローラ４４と
、乾燥室内の温度を検出する温度センサ５０と乾燥風を
送給する乾燥ファン４５と、この乾燥風を加熱する乾燥
風加熱ヒーター２３（第３図）を内蔵したチャンバー４
６と、加温された乾燥風をフィルムＦ及び搬送ローラ４
４に噴出するスプレーパイプ４７と、を備えている。乾
燥風加熱ヒーター２３は温度センサ５０などからの情報
により制御手段２１によってオン・オフ制御される。ま
たフィルムＦはその搬送経路の搬送ローラ４４より下流
側の乾燥ターン部４８で斜め上方に搬送される。

自動現像装置１０には、乾燥ターン部４８から送り出さ
れたフィルムＦを収容する受は箱４９が自動現像装置１
０の外壁から突出した状態で設けられている。

以下本発明の第１実施例のウオームアンプル−チンを第
４図（Ａ）、（Ｂ）のフローチャートを用いて説明する
。なお処理液のウオームアンプは現像液の場合を例にし
て説明するが、定着液等その他の処理液の場合も同様で
ある。電源スィッチがオンされると第４図（Ａ）のルー
チンが起動され、ステップ１００において、制御手段２
１によって主ヒータ１９Ａならびに副ヒータ１９Ｂのス
イッチがオンされると共に循環ポンプ７２がオンされる
。現像槽１４内の現像液はこの主ヒータ１９Ａならびに
副ヒータ１９Ｂによって加熱されて第５図二点鎖線りで
示す如く、加熱時間に比例して温度が上昇すると共に管
路７１を介して現像槽１４内を循環する。ステップ１０
２において現像液が処理可能な最適な温度（第５図温度
Ｔ、）になったと判断された場合には、ステップ１０４
において、副ヒータ１９Ｂがオフされると共に乾燥風加
熱ヒータ２３がオンされる。この場合、乾燥風加熱ヒー
タ２３がオンされるのに先立って主ヒータ１９Ａならび
に副ヒータ１９Ｂによって、すなわちウオームアツプ用
の全電力が主ヒータ１９Ａ、１９Ｂに供給されて現像液
が加熱されるので、ウオームアツプ時間が短縮される。

また乾燥室２０内に供給される乾燥風は、第５図二点鎖
線Ｃで示される如く、加熱時間に比例して温度が上昇さ
れる。

またステップ１０６において主ヒータ１９Ａによる現像
槽１４内の現像液の温度保持が行われる。

すなわち第４図（Ｂ）に示すようにステップ１０８にお
いて、現像液の温度が以上であるか否か判断し、Ｔ１以
上と判断された場合には、ステップ１１０において主ヒ
ータ１９Ａのスイッチをオフする。一方、温度がＴ１よ
り小さいと判断された場合には、ステップ１１２におい
て主ヒータ１９Ａのオンされる。このように主ヒータ１
９Ａをオン・オフ制御することにより現像液の温度がＴ
１に保持される。

次のステップ１１６において温度センサ５０からの情報
により乾燥室２０内の温度が１２以上であるか否かを判
断し、１２以上であると判断された場合は、ステップ１
１８て、乾燥室加熱ヒータ２３がオフされる。乾燥室２
０の温度がＴ２より小さい場合には、ステップ１２０で
乾燥風加熱ヒータ２３がオンされる。乾燥室２０のウオ
ームアツプを行うときには、乾燥室２０の温度は１２未
満であるため、乾燥風加熱ヒータ２３のオン状態が継続
され、ウオームアツプが実行される。ウオーアツプ用了
後は上記ステップ１１６〜１２０において乾燥風加熱ヒ
ータがオン・オフ制御され、乾燥室の温度がＴ２に保持
される。電源スィッチのオフ等によってステップ１２２
において、処理終了と判断され、現像液ならびに乾燥室
２０の温調を行わないとされた場合には、このルーチン
を終了して、温調を終了する。

次に本発明の第２実施例を第６図のフローチャートによ
って説明する。

なお第６図のフローチャートにおいて、第４図（Ａ）と
同一の符号が付されている各ステップは前記実施例と同
様の処理がなされるものであり、説明は省略する。主ヒ
ータ１９Ａならびに副ヒータ１９Ｂによって加熱された
現像液は、第７図二点鎮線Ｅで示す如く、加熱時間に比
例して温度が上昇する。現像液の温度がステップ１２４
においてＴ。（第７図）以上と判断された場合には、ス
テップ１２５で副ヒータ１９Ｂがオフされると同時に乾
燥風加熱ヒータ２３がオンされている。この温度Ｔ。は
、現像液のウオームアツプ終了後の温度Ｔ１より小さく
、現像液を主ヒータ１９Ａのみを用いて温度Ｔ。から温
度Ｔ１まで上昇させるに必要な時間（ｔ２　　ｔ＋）と
乾燥室２０のウオームアツプ時間が等しくまたは略等し
くなる値に定められている。本第２実施例においても、
第１実施例と同様に、乾燥風加熱ヒータ２３がオンされ
るのに先立って主ヒータ１９Ａならびに副ヒータ１９Ｂ
によって、現像液が加熱されるが、本実施例では、現像
液のウオームアツプが完了する前に乾燥風加熱ヒータ２
３がオンされるため、第１実施例よりもウオームアツプ
時間を短縮することができる。

次に本発明の第３実施例についてい説明する。

本実施例では、現像液を加熱する処理液加熱ヒータ２５
が現像槽１４内に１個だけ設けられており、処理液加熱
ヒータに供給する電力を制御する点が前記第１、第２の
実施例と異なっている。

以下第９Ａ図、第９Ｂ図のフローチャートによって本実
施例の作用を説明する。なお第９Ａ図、第９Ｂ図のフロ
ーチャートにおいて、第４図（Ａ）、（Ｂ）と同一の符
号が付されている各ステップは前記実施例と同様の処理
がなされるものであり、説明は省略する。

第９図（Ａ）のステップ１２６において、処理液加熱ヒ
ータ２５がオンされ、電力Ｗ１が処理液加熱ヒータ２５
に供給されて現像液が加熱される。

この電力Ｗ１はウオームアツプ用電力の全量である。ス
テップ１０２で現像液の温度が１２以上と判断された場
合には、処理液加熱ヒータの電力をＷ、より小さいＷ２
に切換る（ステップ１２８）。

この電力Ｗ２は現像液の温度をＴ１　に保持するに必要
な大きさの電力である。またステップ１０６において現
像液の温度制御がなされる。このステップ１０６では以
下の処理がなされる。すなわち第９図（Ｂ）のステップ
１０８において、現像液と乾燥室２０の温度がＴ１以上
であると判断されると、処理液加熱ヒータ２５がオフさ
れる。現像液の温度がＴ１　よりも小さいと判断された
場合は、処理液加熱ヒータ２５に電力ｗ２が供給される
。

乾燥室２０の温度が１２未満のときは処理液加熱ヒータ
２５に（Ｗ、　〜Ｗ２）の電力が供給され（ステップ１
３０）、Ｔ２以上の場合には処理液加熱ヒータ２５がオ
フされて、前記実施例と同様の、乾燥室２０の温度制御
がなされる。

第３実施例においても、第１及び第２実施例と同様、乾
燥風加熱ヒータ２３がオンされるのに先立って、第１及
び第２実施例の主ヒータ１９Ａ及び副ヒータ１９Ｂに相
当する処理液加熱ヒータ２５によって、現像液が加熱さ
れるので、ウオームアツプ時間が短縮される。また本実
施例では、現像液を加熱するヒータを一個だけ設け、こ
れに供給する消費電力を変えて現像液の加熱を制御して
いるので、現像液を加熱するためのヒータの構造を簡単
にすることができるという効果がある。

上記第２実施例では、現像液の温度がＴ。になった後、
乾燥室加熱ヒータをオンさせているが、現像液の温度が
Ｔ。からＴ１未満の範囲になったときにオンさせてもよ
い。

さらに上記第３実施例では、現像液の温度がＴ１になっ
た後、乾燥風加熱ヒータをオンさせているが、温度がＴ
、に達する前にオンさせてもよい。

また上記実施例では、処理液加熱ヒータ２３が現像槽１
４内に設けられているが、現像槽１４外部である管路７
１に設けてもよい。

さらに、上記実施例は現像槽１４に限定されるものでは
なく、定着槽１６等の処理槽にも適用可能である。

〔発明の効果〕

以上のように請求項（１）乃至請求項（３）の発明によ
れば、処理液を昇温させた後、乾燥室加熱ヒータがオン
させるので、処理液が処理可能な最適温度に達してから
乾燥室が処理可能な最適温度になるまで加熱されるウオ
ームアンプ時間が短縮されると共に乾燥室のウオームア
ツプ中は容量の小さいヒータを用いて処理液温の保持を
行うため消費電力が減少する。

【図面の簡単な説明】

第１図は発明が適用された自動現像機の要部を示す断面
図、第２図は現像液ならびに定着液の循環系の系統図、
第３図は本発明の第１実施例ならびに第２実施例に係る
自動現像機の処理液ならびに乾燥室の温調装置のブロッ
ク図、第４図（Ａ＞ならびに第４図（Ｂ）は本発明の第
１実施例に係る自動現像機の処理液ならびに乾燥室の温
調装置の動作を説明するフローチャート、第５図ならび
に第７図は処理液と乾燥室の温度と加熱時間との関係を
従来のものと比較して示すグラフ、第６図は発明の第２
実施例に係る自動現像機の処理液ならびに乾燥室の温調
装置の動作を説明するフローチャート、第８図は本発明
の第３実施例に係る自動現像機の処理液ならびに乾燥室
の温調装置のプロ゛７り図、第９図（Ａ）、（Ｂ）は本
発明の第３実施例に係る自動現像機の処理液ならびに乾
燥室の温調装置の動作を説明するフローチャートである
。 １Ｑ・・・ １４・　・・ １６・・・ １９Ａ・・ １９Ｂ・・ ２０・・・ ２１・・・ ２３・・・ ２５・・・ 自動現像装置、 現像槽、 定着槽、 ・主ヒータ、 ・副ヒータ、 乾燥室、 制御手段、 乾燥風加熱ヒータ、 処理液加熱ヒータ。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽と
   処理槽で処理された感光材料を乾燥させる乾燥室とを備
   えた感光材料処理装置の処理液および乾燥室の温度調節
   を行う感光材料処理装置の温調装置において、処理液を
   加熱する処理液加熱ヒータと、前記乾燥室を加熱するた
   めの乾燥風加熱ヒータと、前記処理液加熱ヒータにウォ
   ームアップ用の全電力を供給し処理液の温度が所定温度
   になったときに、前記処理液加熱ヒータに供給する電力
   を低下させて処理液の温度を前記所定温度に保持するの
   に必要な電力によって処理液の温度制御を行うと共に前
   記乾燥風加熱ヒータに残りの電力を供給する制御手段と
   、を設けたことを特徴とする感光材料処理装置の温調装
   置。
2. （２）感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽と
   処理槽で処理された感光材料を乾燥させる乾燥室とを備
   えた感光材料処理装置の処理液および乾燥室の温度調節
   を行う感光材料処理装置の温調装置において、処理液を
   加熱するための第１のヒータと第２のヒータとを備えた
   処理液加熱手段と、前記乾燥室を加熱するための乾燥風
   加熱ヒータと、前記第１のヒータおよび第２のヒータを
   オンさせ処理液が所定の温度まで加熱されたときに、前
   記第１のヒータおよび第２のヒータのいずれか一方のヒ
   ータをオフさせかつ他方のヒータで処理液の温度制御を
   行うと共に乾燥風加熱ヒータをオンさせる制御手段と、
   を設けたことを特徴とする感光材料処理装置の温調装置
   。
3. （３）感光材料を処理する処理液が貯留された処理槽と
   処理槽で処理された感光材料を乾燥させる乾燥室とを備
   えた感光材料処理装置の処理液および乾燥室の温度調節
   を行う感光材料処理装置の温調装置において、処理液を
   加熱するための第１のヒータと第２のヒータとを備えた
   処理液加熱手段と、前記乾燥室を加熱するための乾燥風
   加熱ヒータと、処理液が第１の所定温度まで加熱された
   とき前記第１のヒータおよび第２のヒータのいずれか一
   方をオフさせると共に前記乾燥風加熱ヒータをオンさせ
   、処理液の温度が第１の所定温度より高い第２の所定温
   度まで加熱されたときオンオフ制御により処理液の温度
   を保持する制御手段と、を設けたことを特徴とする感光
   材料処理装置の温調装置。