JPH0437754A - 感光材料処理装置の処理液温度調節方法及び装置 - Google Patents
感光材料処理装置の処理液温度調節方法及び装置Info
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- JPH0437754A JPH0437754A JP14355590A JP14355590A JPH0437754A JP H0437754 A JPH0437754 A JP H0437754A JP 14355590 A JP14355590 A JP 14355590A JP 14355590 A JP14355590 A JP 14355590A JP H0437754 A JPH0437754 A JP H0437754A
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光材料処理装置の処理液温度調節方法及び
装置に関する。
装置に関する。
写真感光材料の自動現像機は感光材料の種類に応じて、
例えば黒白写真感光材料の場合は、黒白現像、定着及び
水洗、カラー写真感光材料の場合は、発色現像、漂白、
定着(又は漂白定着)、及び水洗を行う処理槽を夫々設
け、像露光された感光材料を順次処理槽に導入し、処理
後乾燥して排出するように構成されている。
例えば黒白写真感光材料の場合は、黒白現像、定着及び
水洗、カラー写真感光材料の場合は、発色現像、漂白、
定着(又は漂白定着)、及び水洗を行う処理槽を夫々設
け、像露光された感光材料を順次処理槽に導入し、処理
後乾燥して排出するように構成されている。
また、自動現像機で感光材料を処理すると各処理液が疲
労するので、これを補うために一般に各処理槽に夫々の
処理液の補充液タンクを設け、感光材料が自動現像機に
導入されるとその処理量に応じて補充液を供給する方式
がとられている。また、処理槽内の処理液の組成あるい
は処理液の温度分布を均一化するために、処理液を循環
し、攪拌するための循環ポンプが処理液槽外部に設けら
れている。
労するので、これを補うために一般に各処理槽に夫々の
処理液の補充液タンクを設け、感光材料が自動現像機に
導入されるとその処理量に応じて補充液を供給する方式
がとられている。また、処理槽内の処理液の組成あるい
は処理液の温度分布を均一化するために、処理液を循環
し、攪拌するための循環ポンプが処理液槽外部に設けら
れている。
最近、写真処理の迅速化に伴って、処理温度を35℃〜
50℃程度に高くし、各処理液による処理時間を短縮す
る方策がとられている。処理液の温度を所定の温度に上
げるには、処理槽内に設けられたヒータによるものもあ
るが、前述の循環ポンプによる循環系の経路中に、熱交
換器、ヒータ等の加温手段を設けたものも用いられてい
る。
50℃程度に高くし、各処理液による処理時間を短縮す
る方策がとられている。処理液の温度を所定の温度に上
げるには、処理槽内に設けられたヒータによるものもあ
るが、前述の循環ポンプによる循環系の経路中に、熱交
換器、ヒータ等の加温手段を設けたものも用いられてい
る。
しかしながら、これらの温度調節装置においては、感光
材料処理装置が待機状態にある場合にも、各処理液の温
度を35℃〜50℃程度の温度で所定の温度範囲(例え
ば35℃±0.3℃)ニ保つため、ヒータをオンオフ制
御している。この場合、循環ポンプを常時オンさせてお
くと、処理液が必要以上に循環され、空気と接触し酸化
が促進されるという不具合がある。このため、感光材料
処理装置が待機状態にある場合には、ヒータのオンオフ
に同期して循環ポンプを稼働、停止させている。
材料処理装置が待機状態にある場合にも、各処理液の温
度を35℃〜50℃程度の温度で所定の温度範囲(例え
ば35℃±0.3℃)ニ保つため、ヒータをオンオフ制
御している。この場合、循環ポンプを常時オンさせてお
くと、処理液が必要以上に循環され、空気と接触し酸化
が促進されるという不具合がある。このため、感光材料
処理装置が待機状態にある場合には、ヒータのオンオフ
に同期して循環ポンプを稼働、停止させている。
ところが、この場合には、ヒータオフ後の余熱によって
、ヒータの周囲の処理液が所定温度幅を越えて高温(例
えば、所定温度に対し+5℃)となる場合があり、処理
液が劣化するという不具合があった。
、ヒータの周囲の処理液が所定温度幅を越えて高温(例
えば、所定温度に対し+5℃)となる場合があり、処理
液が劣化するという不具合があった。
本発明は上記事実を考慮して、待機時に処理液槽内の温
度を略均−にすることによって、処理液の劣化を防止す
ることができる感光材料処理装置の処理液温度調節方法
及び装置を得ることが目的である。
度を略均−にすることによって、処理液の劣化を防止す
ることができる感光材料処理装置の処理液温度調節方法
及び装置を得ることが目的である。
請求項(1)記載の発明は、処理液が収容された処理槽
とこの処理槽に連通された循環路とにポンプによって処
理液を循環させると共に、温実検出手段の出力に基づい
て加温手段をオンオフ制御し処理液を所定温度に維持す
る感光材料処理装置の処理液温度調節方法であって、待
機時において前記温度検出手段の出力に基づいて前記加
温手段をオンオフ制御すると共に前記加温手段のオンと
同時に前記ポンプを稼働し、前記加温手段オフ後所定時
間経過後に前記ポンプを停止することを特徴としている
。
とこの処理槽に連通された循環路とにポンプによって処
理液を循環させると共に、温実検出手段の出力に基づい
て加温手段をオンオフ制御し処理液を所定温度に維持す
る感光材料処理装置の処理液温度調節方法であって、待
機時において前記温度検出手段の出力に基づいて前記加
温手段をオンオフ制御すると共に前記加温手段のオンと
同時に前記ポンプを稼働し、前記加温手段オフ後所定時
間経過後に前記ポンプを停止することを特徴としている
。
また、請求項(2)記載の発明は、処理液が収容された
処理槽とこの処理槽に連通された循環路とにポンプによ
って処理液を循環させると共に、温度検出手段の出力に
基づいて加温手段をオンオフ制御し処理液を所定温度に
維持する感光材料処理装置の処理液温度調節方法であっ
て、待機時において前記温度検出手段の出力に基づいて
前記加温手段をオンオフ制御すると共に前記加温手段の
オンと同時に前記ポンプを稼働し、前記加温手段のオフ
後前記温度検出手段の出力に基づく温度が所定温度以下
になった場合に前記ポンプを停止するようにしたことを
特徴としている。
処理槽とこの処理槽に連通された循環路とにポンプによ
って処理液を循環させると共に、温度検出手段の出力に
基づいて加温手段をオンオフ制御し処理液を所定温度に
維持する感光材料処理装置の処理液温度調節方法であっ
て、待機時において前記温度検出手段の出力に基づいて
前記加温手段をオンオフ制御すると共に前記加温手段の
オンと同時に前記ポンプを稼働し、前記加温手段のオフ
後前記温度検出手段の出力に基づく温度が所定温度以下
になった場合に前記ポンプを停止するようにしたことを
特徴としている。
また、請求項(3)記載の発明は、処理液が収容された
処理槽と、この処理槽に連通された循環路と、この循環
路に前記処理液を循環させるためのポンプと、このポン
プにより循環される前記処理液を加温するたtの加温手
段と、前記処理液の温度を検出するための温度検出手段
と、待機時において前記温度検出手段の出力に基づいて
前記加温手段をオンオフ制御すると共に前記加温手段の
オンと同時に前記ポンプを稼働し前記加温手段オフ後所
定時間経過後に前記ポンプを停止する制御手段と、を備
えたことを特徴としている。
処理槽と、この処理槽に連通された循環路と、この循環
路に前記処理液を循環させるためのポンプと、このポン
プにより循環される前記処理液を加温するたtの加温手
段と、前記処理液の温度を検出するための温度検出手段
と、待機時において前記温度検出手段の出力に基づいて
前記加温手段をオンオフ制御すると共に前記加温手段の
オンと同時に前記ポンプを稼働し前記加温手段オフ後所
定時間経過後に前記ポンプを停止する制御手段と、を備
えたことを特徴としている。
また、請求項(4)記載の発明は、処理液が収容された
処理槽と、この処理槽に連通された循環路と、この循環
路に前記処理液を循環させるためのポンプと、このポン
プにより循環される前記処理液を加温するための加温手
段と、前記処理液の温度を検出するための温度検出手段
と、待機時において前記温度検出手段の出力に基づいて
前記加温手段をオンオフ制御すると共に前記加温手段の
オンと同時に前記ポンプを稼働し前記加温手段のオン後
前記温度検出手段の出力に基づく温度が所定温度以下に
なった場合に前記ポンプを停止する制御手段と、を備え
たことを特徴としている。
処理槽と、この処理槽に連通された循環路と、この循環
路に前記処理液を循環させるためのポンプと、このポン
プにより循環される前記処理液を加温するための加温手
段と、前記処理液の温度を検出するための温度検出手段
と、待機時において前記温度検出手段の出力に基づいて
前記加温手段をオンオフ制御すると共に前記加温手段の
オンと同時に前記ポンプを稼働し前記加温手段のオン後
前記温度検出手段の出力に基づく温度が所定温度以下に
なった場合に前記ポンプを停止する制御手段と、を備え
たことを特徴としている。
請求項(1)記載の本発明によれば、待機時において加
温手段オフ後所定時間(例えば、加温手段の余熱が低く
なるまでの時間)経過後ポンプが停止される。従って、
加温手段の余熱によって加温された処理液は、ポンプに
よって循環されるため、処理液槽内の温度が略均−とな
り、加温手段の周囲の処理液が高温となることがなく、
処理液の劣化を防止することができる。
温手段オフ後所定時間(例えば、加温手段の余熱が低く
なるまでの時間)経過後ポンプが停止される。従って、
加温手段の余熱によって加温された処理液は、ポンプに
よって循環されるため、処理液槽内の温度が略均−とな
り、加温手段の周囲の処理液が高温となることがなく、
処理液の劣化を防止することができる。
また、請求項く2)記載の本発明によれば、待機時にお
いて加温手段オフ後、温度検出手段の出力に基づく温度
が、所定温度く例えば、加温手段をオンする温度とオフ
する温度との間の所定の温度)以下になった場合にポン
プが停止される。従って加温手段の余熱によって加温さ
れた処理液は、ポンプによって循環されるため、処理液
槽内の温度が略均−となり、加温手段の周囲の処理液が
高温となる二とがなく、処理液の劣化を防止することが
てきる。
いて加温手段オフ後、温度検出手段の出力に基づく温度
が、所定温度く例えば、加温手段をオンする温度とオフ
する温度との間の所定の温度)以下になった場合にポン
プが停止される。従って加温手段の余熱によって加温さ
れた処理液は、ポンプによって循環されるため、処理液
槽内の温度が略均−となり、加温手段の周囲の処理液が
高温となる二とがなく、処理液の劣化を防止することが
てきる。
また、請求項(3)記載の本発明によれば、ポンプによ
って、処理槽に収容された処理液が循環路を通って循環
される。また温度検出手段によって処理液の温度に対応
した出力が検出され、この出力に基づいて制御手段が加
温手段をオンオフ制御する。また、待機時においては制
御手段によって、加温手段と同時にポンプが稼働され、
加温手段オフ後所定時間(例えば、加温手段の余熱が低
くなるまでの時間)経過後にポンプが停止される。
って、処理槽に収容された処理液が循環路を通って循環
される。また温度検出手段によって処理液の温度に対応
した出力が検出され、この出力に基づいて制御手段が加
温手段をオンオフ制御する。また、待機時においては制
御手段によって、加温手段と同時にポンプが稼働され、
加温手段オフ後所定時間(例えば、加温手段の余熱が低
くなるまでの時間)経過後にポンプが停止される。
従って、加温手段の余熱によって加温された処理液は、
ポンプによって循環されるため、処理液槽内の温度が略
均−となり、加温手段の周囲の処理液が高温となること
がなく、処理液の劣化を防止することができる。
ポンプによって循環されるため、処理液槽内の温度が略
均−となり、加温手段の周囲の処理液が高温となること
がなく、処理液の劣化を防止することができる。
また、請求項(4)記載の本発明によれば、ポンプによ
って、処理槽に収容された処理液が循環路を通って循環
される。また温度検出手段によって処理液の温度に対応
した出力が検出され、この出力に基ついて制御手段が加
温手段をオンオフ制御する工また、待機時においては制
御手段によって、加温手段オフ後、温度検出手段の出力
に基つく温度が所定温度(例えば、加温手段をオンする
温度とオフする温度との間の所定の温度)以下になった
場合にポンプが停止される。従って、加温手段の余熱に
よって加温された処理液(ま、ポンプによって循環され
るた約、処理液槽内の温度が略均−となり、加温手段の
周囲の処理液が高温となることがなく、処理液の劣化を
防止することができる。
って、処理槽に収容された処理液が循環路を通って循環
される。また温度検出手段によって処理液の温度に対応
した出力が検出され、この出力に基ついて制御手段が加
温手段をオンオフ制御する工また、待機時においては制
御手段によって、加温手段オフ後、温度検出手段の出力
に基つく温度が所定温度(例えば、加温手段をオンする
温度とオフする温度との間の所定の温度)以下になった
場合にポンプが停止される。従って、加温手段の余熱に
よって加温された処理液(ま、ポンプによって循環され
るた約、処理液槽内の温度が略均−となり、加温手段の
周囲の処理液が高温となることがなく、処理液の劣化を
防止することができる。
本発明は上記構成としたので、待機時に処理液槽内の温
度を略均−にすることによって、処理液の劣化を防止す
ることができるという優れた効果かえられる。
度を略均−にすることによって、処理液の劣化を防止す
ることができるという優れた効果かえられる。
〔実施例〕・
図面を参照して、本発明が適用された、感光材料処理装
置としての自動現像機について説明する。
置としての自動現像機について説明する。
第1図に示されているように、自動現像機10は、機枠
12内に処理液処理部11及び乾燥部20が設けられて
いる。処理液処理部11はフィルムFの搬送方向に沿っ
て隔壁13によって区画された現像槽14、定着槽16
及び水洗槽18を備えている。
12内に処理液処理部11及び乾燥部20が設けられて
いる。処理液処理部11はフィルムFの搬送方向に沿っ
て隔壁13によって区画された現像槽14、定着槽16
及び水洗槽18を備えている。
自動現像装置10のフィルムFの挿入口15の近傍には
、自動現像機10内にフィルムFを引き込む挿入ラック
17が配置されている。
、自動現像機10内にフィルムFを引き込む挿入ラック
17が配置されている。
また、挿入口15の近傍には、挿入されるフィルムFを
検出する挿入検出センサ80が設けられている。更に、
自動現像機10の挿入口15の部分には、フィルムFを
手により挿入する挿入台又はフィルムFを搬送手段によ
って自動的に挿入するオートフィーダ等が取付可能であ
る。
検出する挿入検出センサ80が設けられている。更に、
自動現像機10の挿入口15の部分には、フィルムFを
手により挿入する挿入台又はフィルムFを搬送手段によ
って自動的に挿入するオートフィーダ等が取付可能であ
る。
現像槽14内には、現像液が収容されていると共に、図
示しないモーターにより駆動されてフィルムFを搬送す
る搬送ローラ22を有する搬送ラック24が現像液に浸
漬されて配設されている。
示しないモーターにより駆動されてフィルムFを搬送す
る搬送ローラ22を有する搬送ラック24が現像液に浸
漬されて配設されている。
定着槽16内には、定着液が収容されていると共に、図
示しないモーターにより駆動されてフィルムFを搬送す
る搬送ローラ26を有する搬送ラック28が定着液に浸
漬されて配設されている。また水洗槽18内には、水洗
水が収容されていると共に、図示しないモーターにより
駆動されてフィルムFを搬送する搬送ローラ30を有す
る搬送ラック32が水洗水に浸漬されて配設されている
。
示しないモーターにより駆動されてフィルムFを搬送す
る搬送ローラ26を有する搬送ラック28が定着液に浸
漬されて配設されている。また水洗槽18内には、水洗
水が収容されていると共に、図示しないモーターにより
駆動されてフィルムFを搬送する搬送ローラ30を有す
る搬送ラック32が水洗水に浸漬されて配設されている
。
また、現像槽14の下方及び定着槽16の下方には、そ
れぞれ加温手段58が配置されており、現像槽14内の
現像液及び定着槽16内の定着液がそれぞれ加温手段5
8に送られて、そこで熱交換が行われた後、現像槽14
及び定着槽16へ送り返される。それにより、現像槽1
4内の現像液及び定着槽16内の定着液の液温が所定の
範囲内に維持される。
れぞれ加温手段58が配置されており、現像槽14内の
現像液及び定着槽16内の定着液がそれぞれ加温手段5
8に送られて、そこで熱交換が行われた後、現像槽14
及び定着槽16へ送り返される。それにより、現像槽1
4内の現像液及び定着槽16内の定着液の液温が所定の
範囲内に維持される。
現像槽14と定着槽16の間及び定着槽16と水洗槽1
8の間には、それらの上部にクロスオーバーラック34
が配設されている。このクロスオーバーランク34は、
フィルムF(7)Ill送方向上流側の槽かろ下流側の
槽へフィルムFを搬送するた約の挟持搬送口・−ラ36
及びフィルムFを案内するガイド38を備えている。
8の間には、それらの上部にクロスオーバーラック34
が配設されている。このクロスオーバーランク34は、
フィルムF(7)Ill送方向上流側の槽かろ下流側の
槽へフィルムFを搬送するた約の挟持搬送口・−ラ36
及びフィルムFを案内するガイド38を備えている。
従って、挿入口15から自動現像機10内に送り込まれ
たフィルムFは、挿入ラック17て現像槽14に挿入さ
れ搬送ローラ22て現像液中を搬送されて現像処理され
る。現像されたフィルムFは、クロスオーバーラック3
4て定着槽16に送られ、そ二て搬送ローラ26て定着
液中を搬送されて定着処理される。定着されたフィルム
Fは、クロスオーバーラック34で水洗槽18に送られ
、そこで搬送ローラ30て水洗水中を搬送されて水洗さ
れる。二のようにして、フィルムFは処理液処理される
。
たフィルムFは、挿入ラック17て現像槽14に挿入さ
れ搬送ローラ22て現像液中を搬送されて現像処理され
る。現像されたフィルムFは、クロスオーバーラック3
4て定着槽16に送られ、そ二て搬送ローラ26て定着
液中を搬送されて定着処理される。定着されたフィルム
Fは、クロスオーバーラック34で水洗槽18に送られ
、そこで搬送ローラ30て水洗水中を搬送されて水洗さ
れる。二のようにして、フィルムFは処理液処理される
。
なお、現像槽14、定着槽16及び水洗槽18の各々の
底部には、図示しない排液管が設けられこれらの排液管
には、各々排液バルブ21が取り付けられて゛、する。
底部には、図示しない排液管が設けられこれらの排液管
には、各々排液バルブ21が取り付けられて゛、する。
従って、必要に応じてこれらの排液バルブ2Iを開放す
ることにより、現像槽14、定着槽16及び水洗槽18
の現像液、定着液及び水洗水を排出することができる。
ることにより、現像槽14、定着槽16及び水洗槽18
の現像液、定着液及び水洗水を排出することができる。
また、水洗槽18と乾燥部20の間には、スクイズラッ
ク40が配設されてし)る。このスクイズランク40は
、水洗槽18から送り出され水洗水が付着したフィルム
Fをスクイズしながら乾燥部20へ搬送する搬送ローラ
42とフィルムFを案内するガイド43とを有する。
ク40が配設されてし)る。このスクイズランク40は
、水洗槽18から送り出され水洗水が付着したフィルム
Fをスクイズしながら乾燥部20へ搬送する搬送ローラ
42とフィルムFを案内するガイド43とを有する。
乾燥部20は、フィルムFを搬送する搬送ローラ44と
、乾燥風を送給する乾燥ファン45と、二の乾燥風を加
温するヒーターを内蔵したチャンバ46と、加温された
乾燥風をフィルムF及び搬送ローラ44に噴出するスプ
レーパイプ47止、を備えている。またフィルムFの搬
送経路の搬送ローラ44より下流側の乾燥ターン部48
て斜約上方に搬送される。
、乾燥風を送給する乾燥ファン45と、二の乾燥風を加
温するヒーターを内蔵したチャンバ46と、加温された
乾燥風をフィルムF及び搬送ローラ44に噴出するスプ
レーパイプ47止、を備えている。またフィルムFの搬
送経路の搬送ローラ44より下流側の乾燥ターン部48
て斜約上方に搬送される。
自動現像機10には、乾燥ターン部48から送り出され
たフィルムFを収容する受は箱49が自動現像機10の
外壁から突出された状態で設けられている。
たフィルムFを収容する受は箱49が自動現像機10の
外壁から突出された状態で設けられている。
従って、スクイズラック40てスクイズされたフィルム
Fは、この乾燥部20で加温された乾燥風であたためら
れた搬送ローラ44で搬送されながらスプレーパイプ4
7から噴出される乾燥風で乾燥される。その後、フィル
ムFは、乾燥ターン部48でターンされながら搬送され
て受は箱49に送られこの受は箱49中に収容される。
Fは、この乾燥部20で加温された乾燥風であたためら
れた搬送ローラ44で搬送されながらスプレーパイプ4
7から噴出される乾燥風で乾燥される。その後、フィル
ムFは、乾燥ターン部48でターンされながら搬送され
て受は箱49に送られこの受は箱49中に収容される。
次に、本実施例の処理液温度調節装置50に付いて第2
図に従って説明する。
図に従って説明する。
なお。第2図は、本発明が適用された自動現像機の処理
槽の1つ、例えば現像W!14を示していおり、定着槽
16及び水洗槽18も同様な構成とされている。
槽の1つ、例えば現像W!14を示していおり、定着槽
16及び水洗槽18も同様な構成とされている。
第2図に示される如く、現像槽14の底部14Aと側壁
14Bとは、循環路52で連通されている。この循環路
52には循環ポンプ54が設けれており、循環ポンプ5
4によって現像槽14内の現像液56が底部14Aから
吸引され、循環路52を第2図の矢印六方向へ循環し、
側壁14B部から現像槽14に流入されるようになって
いる。
14Bとは、循環路52で連通されている。この循環路
52には循環ポンプ54が設けれており、循環ポンプ5
4によって現像槽14内の現像液56が底部14Aから
吸引され、循環路52を第2図の矢印六方向へ循環し、
側壁14B部から現像槽14に流入されるようになって
いる。
また、循環路52には、加温手段(例えば、ヒータ、熱
交換器等)58が設けられており、循環路52を循環す
る現像液56を加温するようになっている。
交換器等)58が設けられており、循環路52を循環す
る現像液56を加温するようになっている。
第3図に示される如く、循環路52の加温手段58の上
流側の一部には、熱伝導性部材(例えば、銅などの金属
等)からなるバイブロ0が設けられている。このバイブ
ロ0の外周60Aには、温度検出手段としてのサーミス
タ62が接触配置されており、バイブロ0を介して、循
環路52内の現像液56の温度を検出可能とされている
。
流側の一部には、熱伝導性部材(例えば、銅などの金属
等)からなるバイブロ0が設けられている。このバイブ
ロ0の外周60Aには、温度検出手段としてのサーミス
タ62が接触配置されており、バイブロ0を介して、循
環路52内の現像液56の温度を検出可能とされている
。
第2図に示される如く、循環ポンプ54及びサーミスタ
62は制御手段としての制御回路64に接続されている
。この制御回路64はマイクロコンピュータを備えてお
り、フィルムF処理中は循環ポンプ54を常時稼働する
と共に、サーミスタ62の出力に基づいて加温手段58
をオンオフ制御し、現像槽14内の現像液56の温度を
所望の温度(例えば、35℃±0. 3℃)に保つよう
になっている。
62は制御手段としての制御回路64に接続されている
。この制御回路64はマイクロコンピュータを備えてお
り、フィルムF処理中は循環ポンプ54を常時稼働する
と共に、サーミスタ62の出力に基づいて加温手段58
をオンオフ制御し、現像槽14内の現像液56の温度を
所望の温度(例えば、35℃±0. 3℃)に保つよう
になっている。
また、待機中において、制御回路64はサーミスタ62
の出力に基づいて加温手段58をオンオフ制御し、現像
槽14内の現像液56の温度を所望の温度(例えば、3
5℃:0.3℃)に保つと共に、後述するように循環ポ
ンプ54を間欠的に稼働するようになっている。
の出力に基づいて加温手段58をオンオフ制御し、現像
槽14内の現像液56の温度を所望の温度(例えば、3
5℃:0.3℃)に保つと共に、後述するように循環ポ
ンプ54を間欠的に稼働するようになっている。
また、本実施例においては、循環路52の現像液56の
入る側の(吸引側の管)管65に現像液56の液面より
やや上方に開口する分岐路66を垂直に設け、好ましく
は分岐路66の開口部66Aの径をやや大きくし、現像
槽14中の液面と同−又はそれよりわずかに下にその下
端があるように第1の液面検出電極68を設け、さらに
循環ポンプ54が駆動して液が吸引され分岐路66内の
液位が下がった位置の液面に、その下端が接するように
第2の液面検出電極70を設け、さらに現像槽14に下
端が現像液56に接するように共通電極72を設け、第
1の液面検出電極68と共通電極72及び第2の液面検
出電極70と共通電極72を夫々側々に電源に結び夫々
第1回路と第2回路が作られている。
入る側の(吸引側の管)管65に現像液56の液面より
やや上方に開口する分岐路66を垂直に設け、好ましく
は分岐路66の開口部66Aの径をやや大きくし、現像
槽14中の液面と同−又はそれよりわずかに下にその下
端があるように第1の液面検出電極68を設け、さらに
循環ポンプ54が駆動して液が吸引され分岐路66内の
液位が下がった位置の液面に、その下端が接するように
第2の液面検出電極70を設け、さらに現像槽14に下
端が現像液56に接するように共通電極72を設け、第
1の液面検出電極68と共通電極72及び第2の液面検
出電極70と共通電極72を夫々側々に電源に結び夫々
第1回路と第2回路が作られている。
以下本実施例の作用について説明する。
始めに、自動現像@10におけるフィルムFの処理につ
いて述べる。
いて述べる。
挿入口15から自動現像機10に挿入されたフィルムF
は、現像槽14、定着槽16及び水洗槽18て現像液、
定着液及び水洗水による各液処理を受けてスクイズラッ
ク40に送られスクイズされる。スクイズされたフィル
ムFは、乾[20で加温された乾燥風及び加温された搬
送ローラ44により乾燥され、乾燥ターン部48を介し
て受は箱49に収容される。このように、自動現像機1
0に順次挿入されるフィルムFは、現像処理されて受は
箱49に順次収容される。
は、現像槽14、定着槽16及び水洗槽18て現像液、
定着液及び水洗水による各液処理を受けてスクイズラッ
ク40に送られスクイズされる。スクイズされたフィル
ムFは、乾[20で加温された乾燥風及び加温された搬
送ローラ44により乾燥され、乾燥ターン部48を介し
て受は箱49に収容される。このように、自動現像機1
0に順次挿入されるフィルムFは、現像処理されて受は
箱49に順次収容される。
次に、フィルムF処理時の処理液温度調節装置50の作
用に付いて説明する。
用に付いて説明する。
制御装置64によって循環ポンプ54は常時稼働とされ
ており、循環ポンプ54によって、現像槽14に収容さ
れた現像液56が循環路52を通って、第2図の矢印六
方向へ循環される。またす−ミスタ62によって現像液
56の温度に対応した出力が制御回路64に人力され、
この出力に基づいて制御回路64は、現像槽14内の現
像液56の温度が所望の温度(例えば、35℃=0.3
℃)になるように、加温手段58をオンオフ制御する。
ており、循環ポンプ54によって、現像槽14に収容さ
れた現像液56が循環路52を通って、第2図の矢印六
方向へ循環される。またす−ミスタ62によって現像液
56の温度に対応した出力が制御回路64に人力され、
この出力に基づいて制御回路64は、現像槽14内の現
像液56の温度が所望の温度(例えば、35℃=0.3
℃)になるように、加温手段58をオンオフ制御する。
次に、待機時の処理液温度調節装置50の作用に付いて
第4図及び第5図に従って説明する。
第4図及び第5図に従って説明する。
制御回路64はマイクロンピユータのメモリに記憶され
たプログラムに基づいて、現像液56の温度が、第5図
に示す第1の所定温度CI以下になった場合に、加温手
段58と同時に循環ポンプ54を稼働する(第4図のス
テップ100.102)。これにより現像液56の温度
はタイムラグL1をおいて、上昇を開始する。
たプログラムに基づいて、現像液56の温度が、第5図
に示す第1の所定温度CI以下になった場合に、加温手
段58と同時に循環ポンプ54を稼働する(第4図のス
テップ100.102)。これにより現像液56の温度
はタイムラグL1をおいて、上昇を開始する。
次に制御回路64はマイクロンピユータのメモリに記憶
されたプログラムに基づいて、現像液56の温度が、第
5図に示す第2の所定温度C2以上になった場合に、加
温手段58をオフする(第4図のステップ104.10
6)。これにより現像液56の温度はタイムラグL2を
おいて、下降を開始する。
されたプログラムに基づいて、現像液56の温度が、第
5図に示す第2の所定温度C2以上になった場合に、加
温手段58をオフする(第4図のステップ104.10
6)。これにより現像液56の温度はタイムラグL2を
おいて、下降を開始する。
制御回路64は、加温手段58をオフ後の時間を計測し
、所定時間T(例えば、加温手段の余熱が低くなるまで
の時間)経過後、循環ポンプ54を停止する(第4図の
ステップ108.110)。
、所定時間T(例えば、加温手段の余熱が低くなるまで
の時間)経過後、循環ポンプ54を停止する(第4図の
ステップ108.110)。
従って、加温手段58の余熱によって加温された現像液
56は、循環ポンプ54によって循環されるため、加温
手段58の周囲の現像液56が高温となることがなく、
現像液56の劣化を防止することができる。
56は、循環ポンプ54によって循環されるため、加温
手段58の周囲の現像液56が高温となることがなく、
現像液56の劣化を防止することができる。
次に、第1の液面検出電極68、第2の液面検出電極7
0及び共通電極72の作用に付いて第6図に従って説明
する。
0及び共通電極72の作用に付いて第6図に従って説明
する。
循環ポンプ54が静止している状態で液面レベルが正常
であれば、分岐路66内の現像液56の液面は、現像槽
14内の現像液56の液面と同一レベルにあり、第6図
(A)に示すように第1の液面検出電極68も第2の液
面検出電極70も現像液56と接しているので、第1回
路も第2回路もオンの状態にある。補充液量の不足等で
、液面レベルが低下している場合は、循環ポンプ54が
オフの場合第1回路のみ、あるいは第1回路もしくは第
2回路ともオンにならない。
であれば、分岐路66内の現像液56の液面は、現像槽
14内の現像液56の液面と同一レベルにあり、第6図
(A)に示すように第1の液面検出電極68も第2の液
面検出電極70も現像液56と接しているので、第1回
路も第2回路もオンの状態にある。補充液量の不足等で
、液面レベルが低下している場合は、循環ポンプ54が
オフの場合第1回路のみ、あるいは第1回路もしくは第
2回路ともオンにならない。
循環ポンプ54が駆動し、現像液56を循環路52を通
して循環し、加温手段58によって現像液56の温度を
所定の温度に加温した後、現像槽I4に吐出し、現像液
56が循環し始めると、分岐路66中の現像液56の液
面が循環ポンプ54の吸引作用し)よって下がり、第6
図(B)に示す状態となり、第1の液面検出電極68と
現像液56との接触が無くなるので、第1回路はオフに
なり、循環系が定常に働いていることを自動的に知るこ
とができる。
して循環し、加温手段58によって現像液56の温度を
所定の温度に加温した後、現像槽I4に吐出し、現像液
56が循環し始めると、分岐路66中の現像液56の液
面が循環ポンプ54の吸引作用し)よって下がり、第6
図(B)に示す状態となり、第1の液面検出電極68と
現像液56との接触が無くなるので、第1回路はオフに
なり、循環系が定常に働いていることを自動的に知るこ
とができる。
この場合、分岐路66の液面レベルの低下の程度は、循
環ポンプ54の吸引力と大気圧、分岐路66の内径等の
因子で決まるから、これらを予め実験的の求め、第1の
液面検出電極68と第2の液面検出電極70の高さを決
めればよい。また、この場合、循環ポンプ54が定常に
作動し、所定量の現像液56を循環している場合は、分
岐路66中の現像液56の液面は第6図(B)のレベル
にあり、第2の液面検出電極70は液面と接触している
かあ、第2回路はオンの状態にあり、第1回路オフ、第
2回路オンの状態により系の正常状態を知ることができ
る。
環ポンプ54の吸引力と大気圧、分岐路66の内径等の
因子で決まるから、これらを予め実験的の求め、第1の
液面検出電極68と第2の液面検出電極70の高さを決
めればよい。また、この場合、循環ポンプ54が定常に
作動し、所定量の現像液56を循環している場合は、分
岐路66中の現像液56の液面は第6図(B)のレベル
にあり、第2の液面検出電極70は液面と接触している
かあ、第2回路はオンの状態にあり、第1回路オフ、第
2回路オンの状態により系の正常状態を知ることができ
る。
循環ポンプ54の故障や循環配管系の詰まり等で運転中
に現像液56の流れが止まったり、弱まった場合には、
循環ポンプ54の電源がオン状態であっても、分岐路6
6中の現像液56は第6図(A)の状態になり、第1回
路オン、第2回路オンの状態になり、また循環ポンプ5
4の吐出量が異常に多くなったり、補充ポンプ等の故障
で現像槽14中の現像液56の液面レベルが異常に低下
したような場合は、分岐路66中の現像液56の液位は
さらに下がり第6図(C)に示す状態になり、第1回路
、第2回路共にオフになる。
に現像液56の流れが止まったり、弱まった場合には、
循環ポンプ54の電源がオン状態であっても、分岐路6
6中の現像液56は第6図(A)の状態になり、第1回
路オン、第2回路オンの状態になり、また循環ポンプ5
4の吐出量が異常に多くなったり、補充ポンプ等の故障
で現像槽14中の現像液56の液面レベルが異常に低下
したような場合は、分岐路66中の現像液56の液位は
さらに下がり第6図(C)に示す状態になり、第1回路
、第2回路共にオフになる。
従って、循環ポンプ54への作動指令の有無と第1回路
、第2回路との組合せにより、例えば数表に示す如く、
循環路52の状態を自動的に検出することができ、故障
等の際は適切な対処が可能となり、また自動現像機使用
者に対するアラーム表示をすることができる。
、第2回路との組合せにより、例えば数表に示す如く、
循環路52の状態を自動的に検出することができ、故障
等の際は適切な対処が可能となり、また自動現像機使用
者に対するアラーム表示をすることができる。
なお、第7図に示される如く共通電極72を分岐路66
の中に現像液56に接するように設けてもよく、この場
合、共通電極72は第2の液面検出電極70と同じか、
やや深い位置に設ける。
の中に現像液56に接するように設けてもよく、この場
合、共通電極72は第2の液面検出電極70と同じか、
やや深い位置に設ける。
また、上記実施例においては、制御回路64によって、
加温手段58オフ後の時間を計測し、所定時間(例えば
、加温手段の余熱が低くなるまでの時間)経過後、循環
ポンプ54を停止したが、これに代えて、第8図及び第
9図に示される如く、加温手段58オフ後、サーミスタ
62の出力に基づく温度が所定温度(例えば、加温手段
をオンする温度C1とオフする温度C2との間の所定の
温度C3)以下になった場合に、循環ポンプ54を停止
する(第8図のステップ112.114)ようにしても
よい。
加温手段58オフ後の時間を計測し、所定時間(例えば
、加温手段の余熱が低くなるまでの時間)経過後、循環
ポンプ54を停止したが、これに代えて、第8図及び第
9図に示される如く、加温手段58オフ後、サーミスタ
62の出力に基づく温度が所定温度(例えば、加温手段
をオンする温度C1とオフする温度C2との間の所定の
温度C3)以下になった場合に、循環ポンプ54を停止
する(第8図のステップ112.114)ようにしても
よい。
また、上記実施例においては、ヒータを循環系路中に設
けたが、本発明によればヒータを処理槽内に配置した場
合であってもヒータ近傍の処理液の温度の異常上昇を防
止できる。
けたが、本発明によればヒータを処理槽内に配置した場
合であってもヒータ近傍の処理液の温度の異常上昇を防
止できる。
なお、上記実施例では、本発明がX線フィルムの自動現
像機の処理液温度調節装置に適用された例について述べ
たが、本発明は、これに限られるものではなく、例えば
写真フィルムの現像装置や感光性平板印刷版の現像装置
等の感光材料処理装置の処理液温度調節装置には全て適
用できるっ
像機の処理液温度調節装置に適用された例について述べ
たが、本発明は、これに限られるものではなく、例えば
写真フィルムの現像装置や感光性平板印刷版の現像装置
等の感光材料処理装置の処理液温度調節装置には全て適
用できるっ
第1図は本発明が適用された感光材料処理装置の処理液
温度調節装置の要部を示す断面図、第2図は本実施例の
感光材料処理装置の処理液温度調節装置を示すブロック
図、第3図は本実施例の感光材料処理装置の処理液温度
調節装置のサーミスタの配置を示す断面図、第4図は本
発明が適用された感光材料処理装置の処理液温度調節装
置の待機時の制御を示すフロー図、第5図は本発明が適
用された感光材料処理装置の処理液温度調節装置の待機
時の制御を示すタイミングチャート、第6図(A)、
(B)、 (C)は本実施例の感光材料処理装置の
処理液温度調節装置の分岐路の開口部の処理液面と電極
との関係を示す説明図、第7図は本実施例の感光材料処
理装置の処理液温度調節装置の他の電極の配置例を示す
ブロック図、第8図は本発明が適用された感光材料処理
装置の処理液温度調節装置の待機時の他の制御を示すフ
ロー図、第9図は本発明が適用された感光材料処理装置
の処理液温度調節装置の待機時の他の制御を示すタイミ
ングチャートである。 自動現像機、 現像槽、 定着槽、 水洗槽、 処理液温度調節装置、 循環路、 循環ポンプ、 現像液、 加温手段、 パイプ、 制御回路。
温度調節装置の要部を示す断面図、第2図は本実施例の
感光材料処理装置の処理液温度調節装置を示すブロック
図、第3図は本実施例の感光材料処理装置の処理液温度
調節装置のサーミスタの配置を示す断面図、第4図は本
発明が適用された感光材料処理装置の処理液温度調節装
置の待機時の制御を示すフロー図、第5図は本発明が適
用された感光材料処理装置の処理液温度調節装置の待機
時の制御を示すタイミングチャート、第6図(A)、
(B)、 (C)は本実施例の感光材料処理装置の
処理液温度調節装置の分岐路の開口部の処理液面と電極
との関係を示す説明図、第7図は本実施例の感光材料処
理装置の処理液温度調節装置の他の電極の配置例を示す
ブロック図、第8図は本発明が適用された感光材料処理
装置の処理液温度調節装置の待機時の他の制御を示すフ
ロー図、第9図は本発明が適用された感光材料処理装置
の処理液温度調節装置の待機時の他の制御を示すタイミ
ングチャートである。 自動現像機、 現像槽、 定着槽、 水洗槽、 処理液温度調節装置、 循環路、 循環ポンプ、 現像液、 加温手段、 パイプ、 制御回路。
Claims (4)
- (1)処理液が収容された処理槽とこの処理槽に連通さ
れた循環路とにポンプによって処理液を循環させると共
に、温度検出手段の出力に基づいて加温手段をオンオフ
制御し処理液を所定温度に維持する感光材料処理装置の
処理液温度調節方法であって、待機時において前記温度
検出手段の出力に基づいて前記加温手段をオンオフ制御
すると共に前記加温手段のオンと同時に前記ポンプを稼
働し、前記加温手段オフ後所定時間経過後に前記ポンプ
を停止することを特徴とする感光材料処理装置の処理液
温度調節方法。 - (2)処理液が収容された処理槽とこの処理槽に連通さ
れた循環路とにポンプによって処理液を循環させると共
に、温度検出手段の出力に基づいて加温手段をオンオフ
制御し処理液を所定温度に維持する感光材料処理装置の
処理液温度調節方法であって、待機時において前記温度
検出手段の出力に基づいて前記加温手段をオンオフ制御
すると共に前記加温手段のオンと同時に前記ポンプを稼
働し、前記加温手段のオフ後前記温度検出手段の出力に
基づく温度が所定温度以下になった場合に前記ポンプを
停止するようにしたことを特徴とする感光材料処理装置
の処理液温度調節方法。 - (3)処理液が収容された処理槽と、この処理槽に連通
された循環路と、この循環路に前記処理液を循環させる
ためのポンプと、このポンプにより循環される前記処理
液を加温するための加温手段と、前記処理液の温度を検
出するための温度検出手段と、待機時において前記温度
検出手段の出力に基づいて前記加温手段をオンオフ制御
すると共に前記加温手段のオンと同時に前記ポンプを稼
働し前記加温手段オフ後所定時間経過後に前記ポンプを
停止する制御手段と、を備えたことを特徴とする感光材
料処理装置の処理液温度調節装置。 - (4)処理液が収容された処理槽と、この処理槽に連通
された循環路と、この循環路に前記処理液を循環させる
ためのポンプと、このポンプにより循環される前記処理
液を加温するための加温手段と、前記処理液の温度を検
出するための温度検出手段と、待機時において前記温度
検出手段の出力に基づいて前記加温手段をオンオフ制御
すると共に前記加温手段のオンと同時に前記ポンプを稼
働し前記加温手段のオン後前記温度検出手段の出力に基
づく温度が所定温度以下になった場合に前記ポンプを停
止する制御手段と、を備えたことを特徴とする感光材料
処理装置の処理液温度調節装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14355590A JPH0437754A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 感光材料処理装置の処理液温度調節方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14355590A JPH0437754A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 感光材料処理装置の処理液温度調節方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0437754A true JPH0437754A (ja) | 1992-02-07 |
Family
ID=15341467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14355590A Pending JPH0437754A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 感光材料処理装置の処理液温度調節方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0437754A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07265820A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-17 | Nec Tohoku Ltd | 超音波脱脂装置 |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP14355590A patent/JPH0437754A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07265820A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-17 | Nec Tohoku Ltd | 超音波脱脂装置 |
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