JPH0463387B2 - - Google Patents
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- JPH0463387B2 JPH0463387B2 JP57203358A JP20335882A JPH0463387B2 JP H0463387 B2 JPH0463387 B2 JP H0463387B2 JP 57203358 A JP57203358 A JP 57203358A JP 20335882 A JP20335882 A JP 20335882A JP H0463387 B2 JPH0463387 B2 JP H0463387B2
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
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Description
本発明は、下引層を有する写真用支持体に関す
る。 更に詳しくは、ポリエステル支持体上に、感光
性乳剤層或はパツキング層等の親水性コロイド層
を強固に接着させる為に、特定の共重合体水性組
成物を塗設して下引処理を施した写真用支持体に
関する。 ポリエステルフイルムは、ハロゲン化銀写真感
光材料等の支持体として優れた物理的性質を有す
るため、近年その需要が増大し広く用いられてい
る。ところがポリエステルフイルムは疎水性が極
めて大きく、このような支持体とゼラチンの如き
物質をバインダーとする写真用ゼラチン層のよう
な親水性コロイド層との間に強い接着力を持たせ
るのにしばしば困難を伴う。従来、ポリエステル
フイルムを使用した写真感光材料においては、支
持体と親水性コロイド層との接着を行なうために
多くの下引方法が知られているが、親水性コロイ
ド層とくに写真用ゼラチン層を強固に接着するた
めには、いずれの方法に於いてもポリエステルフ
イルムの膨潤剤或は溶解剤を使用しなければなら
ない場合が多かつた。しかし、この膨潤剤或は溶
解剤を含有する下引組成物をポリエステルフイル
ムに塗布した場合、下引の工程中に支持体の平面
性が損われ、またこれらの膨潤剤或は溶解剤のほ
とんどが有害な有機溶媒類を使用するため、作業
上の安全衛生を損う等の多くの欠点を有してい
た。 この為、ポリエステルフイルムに対し、膨潤剤
或は溶解剤を使用しない下引が提案されている。
その１つの技術は、表面を化学的ないし物理的に
処理したポリエステルフイルムとして、薬品処
理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫
外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸
化処理などの表面活性化処理をした支持体が提案
されている。この技術は米国特許第2943937号、
同第3475193号、同第3615557号、英国特許第
1215234号、米国特許第3590107号各明細書、特開
昭53−13672号、同55−18469号各公報等に提案さ
れている。しかし、こられの表面処理されたポリ
エステルフイルムは、本来疎水性であつたフイル
ム表面に多少共極性基を持つ事、また極表面の接
着に対してマイナスの要因になる薄層が除去され
ている事等によると思われるが、写真用親水性保
護コロイド層との接着力は増加するものの、充分
な接着強度は得られなかつた。 更に写真用親水性コロイド層との接着性を増大
させる為に、表面処理をした後に水性塗布組成物
層を設けたポリエステルフイルムが提案されてい
る。この水性塗布組成物層いわゆる下引層は、ポ
リエステルフイルムと写真用親水性コロイド層と
の両方に対して充分な接着性を有する事が必要で
ある。特に、下引層と写真用親水性コロイド層と
を充分接着させる為、一般に下引層の樹脂（以
下、下引用樹脂という。）成分中に親水性基ある
いは反応性基を含ませる事が行なわれている。こ
の親水性基あるいは反応性基としては、酸（例え
ばアクリル酸、イタコン酸、イタコン酸の半アル
キルエステル等）、エポキシ基（例えばグリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート等）、
Ｎ−アルカノール基〔例えばＮ−メチロールアク
リルアミド、ヒドロキシメチル化Ｎ−（１，１−
ジメチル−３−オキソブチル）アクリルアミド
等〕、水酸基（例えばヒドロキシエチルメタアク
リレート、ヒドロキシエチルアクリレート等）等
がある。 上記のうち、酸成分を含む下引用樹脂を下引層
に含む例は、特公昭48−3564号、特開昭46−1123
号、同50−1718号、ヨーロツパ特許第1484号明細
書、特開昭54−61518号、同50−39536号各公報、
米国特許第3545972号明細書等に開示されている。
しかし、下引用樹脂中に酸性分を含んでいる下引
層を有するポリエステルフイルムでは、写真用親
水性保護コロイド層の現像処理時の接着性が不充
分であつた。 エポキシ基成分を含む下引用樹脂を下引層に含
む例は、特公昭34−9629号、特開昭51−58469号、
同52−104913号、同51−27918号、同52−19786
号、同55−121437号、同51−121323号各公報、英
国特許第1168171号明細書、特開昭55−69138号公
報等に開示されている。しかし、グリシジルメタ
クリレートあるいはグリシジルアクリレート等の
エポキシ基成分は、いずれも、自己架橋性があ
り、また分解も起こりやすく、下引用樹脂の合成
中あるいは合成液保存中に変質し、合成液あるい
は下引用樹脂を含んだ水性組成物である下引用加
工液（以下、下引液という。）の安定性が不充分
であつた。 水酸基成分を含む下引用樹脂を下引層に含む例
は、特開昭49−113868号、同51−123139号、同51
−135526号、同52−19786号、同55−69138号公報
に開示されている。しかし、これらの水酸基を含
む下引用樹脂もまた、下引層あるいは下引用樹脂
として充分なものとはいえなかつた。 Ｎ−アルカノール基成分を含む下引用樹脂を下
引層に含む例は、仏国特許第1404084号明細書、
特開昭51−131516号公報、英国特許第1178597号
明細書、特公昭57−3054号公報等に開示されてい
る。しかし、これらに記載されているＮ−アルカ
ノールアクリルアミド類は自己架橋性が強く、下
引用樹脂の合成中あるいは合成液保存中に架橋が
起り、合成液及び下引液の安定性が不充分であつ
た。また、仏国特許第1404084号明細書の中には、
Ｎ−（アルコキシメチル）アクリルアミドを含む
下引用樹脂を下引層に含む例も開示されている
が、この下引用樹脂は有機溶剤に溶解して塗布す
るもので、前述した如くこの種の下引法によると
支持体の平面性及び透明性が損われたり、作業上
あるいは公害上好ましくない。また、仏国特許第
1404084号に開示されている下引法は、ポリカー
ボネート支持体及びポリカーボネートポリウレタ
ン支持体上には、直接に上記の下引用樹脂による
下引を行つているが、ポリエステル支持体の場合
にはメチレンクロライド可溶ポリエステルを有機
溶剤に溶解させたものを塗設後、その上に上記下
引用樹脂による下引を行う方法である。 すなわち、上記仏国特許明細書による下引技術
ではポリエステル支持体にメチレンクロライド可
溶性ポリエステルを塗設し、更に前記のアクリル
アミド系下引用樹脂を有機溶剤に溶解させた下引
液を下引層として塗設せしめることにより、上記
ポリエステル支持体に対する前記下引用樹脂の接
着を可能にせしめたものと考えられる。従つて前
記の下引用樹脂は直接ポリエステル支持体に対し
て接着性を有するものではなく、メチレンクロラ
イドに可溶性である如きポリエステル、すなわち
ポリエステル支持体のポリエステルよりも分子量
の可成り小さいポリエステルに対して始めて接着
性を示すものと理解し得る。 要するに上記特許明細書により開示された下引
法は、ポリエステル支持体に上記せる下引用樹脂
を下引層として設ける有機溶剤および支持体と下
引層との間に他の物質層を必要とする技術に属す
る。 この様に、親水性基あるいは反応性基を含む下
引用樹脂を下引層に含有する写真用ポリエステル
フイルムは、製造時の安定性及び下引性能が必ず
しも満足のいくものではなかつた。 一方、上述した親水性基あるいは反応性基を必
ずしも下引用樹脂中に含まない下引の例として、
特公昭57−970号公報には、スチレンを主成分と
した下引用樹脂をポリエステルフイルム上に塗設
した後にコロナ放電処理を施した下引が開示され
ている。しかし、この下引では下引用樹脂の造膜
性が不充分で、下引の乾燥条件の変動によつて、
下引済ポリエステルフイルムの透明性が悪くなり
易く、透明性の良い下引済ポリエステルフイルム
を安定して得る事が難かしかつた。 ところで、一見すると写真用としても使用でき
そうな樹脂層を設けたポリエステルフイルムを提
供する技術があるが、写真用の下引は他の用途か
らは全くかけ離れた性能が要求され、似て否なる
ものである。 例えば米国特許第3247139号明細書には、Ｎ−
（アルコキシメチル）アクリルアミドを含む塗料
用組成物が開示されている。しかしこの塗設層は
一方の接着層のみ考慮されており、写真用下引層
のように、支持体と写真用親水性コロイド層との
両方を接着させる技術思想と全く異なる技術に属
する。参考のために上記の明細書に開示された技
術による下引は、写真用親水性コロイド層に対し
ては全く不充分な接着を示したに過ぎなかつた。 本発明の第１の目的は、ポリエステルフイルム
と写真用親水性コロイド層との間に強固な接着力
を有する写真用支持体を提供する事である。 本発明の第２の目的は、必ずしも有機溶剤ポリ
エステルの膨潤剤あるいは溶解剤の使用を必要と
しない為、有害な有機溶剤等を排気もしくは排水
中に放出する事がなくて、公害発生の無いように
できる写真用支持体を提供する事である。 本発明の第３の目的は、平面性の良い写真用支
持体を提供する事である。 本発明の第４の目的は、ポリエステルの膨潤剤
あるいは溶解剤の使用を必要とせず、従つて、こ
れによつて引き起こされるポリエステルフイルム
の平面性及び透明性の劣化が無く、また下引用樹
脂塗設によつて透明性が悪くなる事もない写真用
支持体を提供する事である。 本発明の第５の目的は、安定にかつ容易に製造
できる下引用樹脂から成る下引層を有する写真用
支持体を提供する事である。 本発明の第６の目的は、保存安定性の良い下引
用樹脂から成る下引層を有する写真用支持体を提
供する事である。 本発明の第７の目的は、保存安定性及び機械的
安定性の良い下引液を使用した写真用支持体を提
供する事である。すなわち、本発明に用いる下引
用樹脂はラテツクス合成温度（100℃以下）にお
いて自己架橋性、分解性のない共重合体成分を含
み、従つて、合成中、下引用樹脂保存中及び下引
液保存中での下引用樹脂の変更、下引用樹脂液な
いし下引液のPH等の物性の好ましくない変化が無
く、また本発明に用いる下引用樹脂は機械的にも
非常に安定であり、合成中、下引液塗布中での凝
集を全く生じない下引液を使用した写真用支持体
を提供する事である。 本発明の第８の目的は、下引工程での塗布及び
乾燥条件の変動によつても下引性能に変動が生ず
る事のない、安定に製造できる写真用支持体を提
供する事である。 本発明の第９の目的は、各種の写真用親水性コ
ロイド層、特に写真乳剤層に対して悪影響を与え
ない写真用支持体を提供する事である。 本発明者等は、種々検討を重ねた結果、上記の
各目的はポリエステル支持体の少くとも一面に、
最低成膜温度が40℃以下である下記一般式（）
で表わされる単量体の共重合体を含む水性組成物
の層を直接塗設して得られる下引層を有する写真
用支持体により達成し得ることを見い出した。 一般式（） （式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は
炭素原子数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基
を表わす。） すなわち、本発明は親水性基ないし反応性基を
含んだ下引用樹脂に着目してなされたものであ
り、本発明によれば前記一般式（）で表わされ
る如きエーテル化されたメチロール基を有するＮ
−（アルコキシメチル）アクリルアミド単量体の
共重合体からなる下引用樹脂を水性分散物として
ポリエステル支持体に直接塗設させることにより
優れた接着性を有する下引層を得ることができ
た。 上記により明らかなとおり、本発明による下引
法では、ポリエステル支持体の下引に際して有機
溶剤や膨潤剤を用いる必要がなく、また支持体と
下引層との間に他の物質層を必要とすることもな
い。従つて前記の如き有機溶剤や膨潤剤の使用に
よる欠点が発生することもなく、他の物質層も必
要ではないところから下引工数を縮減せしめるこ
ともできる。 なお、本発明において上記の“直接”と言う意
味は、ポリエステル支持体の少なくとも表面を膨
潤させたりあるいは支持体を溶解させる如き有機
溶剤で前処理をしないこと、または支持体と下引
層との間に他の物質層を設けることがないこと等
を言い現わしている。また更に上記の本発明にお
けるポリエステル支持体とは、メチレンクロライ
ドに対して不溶性のポリエステルを組成とする支
持体を意味する。 以下、更に本発明を詳細に説明する。 本発明による下引層の共重合体として用いられ
る前記一般式（）で表される単量体の具体例と
しては、例えばＮ−メトキシメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−
イソプロポキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ブト
キシメチルアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル
メタアクリルアミド、Ｎ−イソブトキシメチルア
クリルアミド、Ｎ−イソブトキシメチルメタアク
リルアミド、Ｎ−オクチロキシメチルアクリルア
ミド等を挙げることができる。 本発明においては、共重合体における上記の単
量体成分が多過ぎると、接着性は極端に劣化する
ことはないものの、ラテツクスの機械的安定性が
悪化し、下引ムラを生じる。また単量体成分が少
な過ぎると接着性が低下し好ましくないので、上
記共重合体における単量体成分の割合は１〜40重
量％、特に５〜30重量％が望ましい。 本発明における下引組成物として用いられる共
重合体の他の単量体としては、例えばメチルアク
リレート、メチルメタアクリレート、エチルアク
リレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、tert−ブチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、スチレン、ブタジエン、イソプレン、アクリ
ルアミド等の如きPOLIMER HANDBOOK
（WILEY−INTER SCIENCE社、J.
BRANDRUP.E.H.IMMERGUT著）に記載され
ているような単量体を１種以上用いることができ
る。この成分の好ましい割合は、共重合体に対し
て60〜99重量％、特に好ましくは70〜95重量％で
ある。 本発明に係わる下記組成においては、上記の如
き共重合体の他の単量体を選択するにあたつて
は、特に共重合体を含むラテツクスの最低成膜温
度が40℃以下となるような単量体でなければなら
ない。すなわち、本発明に係わる下引組成では、
上記の最低成膜温度が40℃を越えると下引層は造
膜が困難となり、また仮に造膜されても下引ベー
スの透明性が極端に悪くなる。 次に本発明で言う最低成膜温度の測定法におい
て詳述する。東洋精機製作所製のFilm Forming
Testerを使用し、幅10cm、長さ30cmの銅板に一
定の温度勾配をつくり、温度勾配が平衡に達した
ら、ラテツクスを薄くハケで塗布し、乾燥させ
る。乾燥終了後、銅板を観察すると、最低成膜温
度以上の温度領域では透明な連続フイルムが形成
されるが、最低成膜温度以下の温度領域では白色
粉末状となつてしまう。この境界線の温度を最低
成膜温度と定める。 上記測定に用いるラテツクスの濃度および使用
量は、上記最低成膜温度測定値には何ら影響を及
ぼすものではない。 上記測定法について更に詳細には高分子ラテツ
クスの化学（高分子刊行会、室井宗一著）260〜
261頁に記載されている。 本発明において、特に好ましい共重合体を構成
する単量体の組み合わせとしては、Ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミド−ブチルアクリレート−ス
チレン、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド
−ブチルアクリレート−スチレン、Ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミド−エチルアクリレート−ス
チレン、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド
−エチルアクリレート−スチレン、Ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミド−ブチルアクリレート−ブ
チルメタクリレート、Ｎ−イソブトキシメチルア
クリルアミド−ブチルアクリレート−ブチルメタ
クリレート、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド
−ブチルアクリレート−tert−ブチルアクリレー
ト、、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド−
ブチルアクリレート−tertーブチルアクリレー
ト、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド−ブタジ
エン−スチレン、Ｎ−イソブトキシメチルアクリ
ルアミド−ブタジエン−スチレン、Ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミド−ブチルアクリレート−ス
チレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ
−ブトキシメチルアクリルアミド−ブチルアクリ
レート−スチレン−アクリルアミド等があげられ
るが、この記述は本発明の範囲を限定するもので
はない。 本発明に用いられる上記共重合体は公知の乳化
重合法によつて合成することができきる。例え
ば、高分子ラテツクスの化学（高分子刊行会、室
井宗一著）、第１章及びエマルジヨンラテツクス
ハンドブツク（大成社出版）第１編〜第３編に記
載されているような重合法及び重合開始剤、乳化
剤等を用いることができる。更に乳化剤として
は、日本界面活性剤工業会出版の界面活性剤等一
覧表（1981年度版）に記載されているものを用い
ることができる。 本発明における下引組成物では、前記共重合体
は水系分散媒中に微細な粒子として分散させ共重
合体水性組成物として下引液に用いる。なお、目
的によつては水の１部を水と混合可能な有機溶媒
（例えばメタノールとかアセトン）と置き換えて
もよい。乳化重合法によつて得られる本発明の共
重合体は微粒子乳化重合物の水性分散液、いわゆ
るラテツクスとして得られる。 本発明の共重合体を含む共重合体水性組成物
（下引液）は、使用目的、塗布方法により異なる
が、水分散液として作られる共重合体で必要に応
じて水または水と混合可能な有機溶剤で希釈し
て、共重合体の固形分濃度が0.1〜40重量パーセ
ントであるようにして用いるのが好ましい。 この様にして得られた本発明の共重合体ラテツ
クス（下引用樹脂）を主成分とする下引液は前述
した共重合体成分を0.1〜40重量％を含み、必要
に応じて界面活性剤、親水性有機コロイド、マツ
ト剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤等の添加剤を含
有してもよい。架橋剤としては、写真用ゼラチン
のいわゆる硬膜剤、例えばホルムアルデヒド、グ
リオキザール等のアルデヒド系化合物、ムコクロ
ル酸、テトラメチレン−１，４−ビス（エチレン
ウレア）、ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチ
レンウレア）等のエチレンイミン基を有する化合
物、トリメチレン−１，３−ビスメタンスルホン
酸エステル等のメタンスルホン酸エステル、ビス
アクリロイルウレア、メタキシレンビニルスルホ
ニル酸等の活性ビニル化合物、２−メトキシ−
４，６−ジクロルトリアジン、２−ソデイウムオ
キシ−４，６−ジクロルトリアジン等の活性ハロ
ゲンを有する化合物、ビスフエノールグリシジル
エーテル等のエポキシ基を有する化合物、イソシ
アネート等を使用する事ができる。これらのう
ち、エチレンイミン基を有する化合物、メタンス
ルホン酸エステルおよび活性ハロゲンを有する化
合物が特に好ましい。 上記下引液はポリエステルフイルム上に塗布さ
れる。ここにポリエステルとは、例えばジカルボ
ン酸とグリコールの重縮合、ジカルボン酸エステ
ルとグリコール又はジオールジアセテートとジカ
ルボン酸とのエステル交換、ジカルボン酸クロリ
ドとジオールとの縮合反応によつて得られる線状
構造をもつものであつて、入手のしやすさの点か
らはポリエチレンテレフタレートが最も好都合で
ある。 ポリエステルの厚さとしては特に制限はないが
約12μ〜500μ程度、好ましくは40μ〜200μ程度の
ものが取り扱いやすさ、汎用性の点から有利であ
る。特に二軸延伸結晶化されたものが、安定性、
強さなどの点から好都合である。 下引液をポリエステルフイルム上に塗布する前
にポリエステルフイルム表面には各種の表面活性
化処理をして親水化することが好ましい。表面活
性化処理としては、例えば米国特許第2943937号
明細書等に記載のような酸化剤溶液処理、米国特
許第3475193号明細書に記載のような紫外線吸収
処理、米国特許第3615557号明細書等に記載のよ
うなコロナ放電の電気放電処理、英国特許第
1215234号明細書等に記載のような活性ガス照射
処理、および米国特許第3590107号明細書等に記
載のような火焔処理等が挙げることができる。 上記下引液は公知の方法でポリエステルフイル
ム上に塗布される。例えばカーテン塗布、リバー
スロール塗布、フアウンテンエアドクター塗布、
スライドホツパー塗布、エクストールジヨン塗
布、テイツプ塗布等によりポリエステルフイルム
上に塗布する事ができる。ここで、共重合体の塗
設量は好ましくは0.01〜５ｇ／m2、特に好ましく
は0.03〜２ｇ／m2である。下引液塗布後の乾燥は
公知の方法で行なえる。例えば、熱風乾燥、赤外
線加熱乾燥、ヒーターロール乾燥、マイクロウエ
ーブ乾燥等により行う事ができる。本発明におい
て、好ましくは、この下引層を設けた上に更に上
層を塗設する。上層としては、公知のゼラチン、
カゼイン等の天然親水性有機コロイド、合成親水
性有機コロイド、帯電防止剤例えば特公昭46−
24159号公報、特開昭48−93165号公報および特公
昭49−23828号公報に記載されているか如き親水
性高分子等の水溶液を塗設することができる。こ
の上層液中にはマツト剤、硬膜剤、界面活性剤等
を含んでいても良い。上層液の塗布乾燥は下層の
加工と同様に公知の方法をいずれも用いる事がで
きる。こられの下引液及び、必要に応じて設けら
れる上層用塗布液の塗布前又は乾燥後に於て、必
要に応じて火炎放射処理、プラズマ処理、コロナ
放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理等の
公知の表面処理加工を行なつても良い。 このようにして少なくとも一面に下引層を設け
られた本発明に係る写真用支持体は、少なくとも
１面に通常用いられる方法により写真用親水性コ
ロイド層を塗設することができる。具体的には
種々の写真感光層形成用組成物、例えばハロゲン
化銀写真乳剤、ジアゾ感光組成物、あるいはハレ
ーシヨン防止剤を含有するゼラチン組成物又は支
持体フイルムのカールバランスを整えるためのゼ
ラチンパツキング組成物を被覆することができ、
このようにして得られる写真感光材料は接着性が
優れていて現像処理等の写真処理を行つても写真
感光層が支持体から剥離することがなく、また写
真性能への悪影響を伴なうことがない。 次に本発明に係わる下引層の共重合体の代表的
合成例を示す。（数量はすべて重量部である） 合成例 １ 撹拌機、還流冷却器、温度調節式加熱装置、温
度計および滴下ロートを装着した2000ml容量の４
つ口フラスコに窒素気流下で脱気した熟留水700
部とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム６部
を加え、加温して内温を80℃に調節しながら毎分
200回転の撹拌速度で撹拌を継続する。これに過
硫酸アンモニウム１部を加え、１〜２分後にＮ−
ブトキシメチルアクリルアミド15部、ブチルアク
リレート210部、スチレン75部からなる単量体混
合を１時間を要して滴下した。滴下終了後も同一
条件で更に４時間反応を継続して重合反応を完了
させ、乾燥固形分30重量％のラテツクスを得た。 合成例 ２ Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド18部、メチ
ルアクリレート54部、ブタジエン48部からなる単
量体混合物、ドデシルベンゼンスルホニル酸ナト
リウム３部、過硫酸アンモニウム0.5部、第３ド
デシルメルカプタン0.25部、蒸留水280部からな
る混合物を500ml容量の簡易型オートクレーブに
入れ、完全に封管し、撹拌速度を毎分600回転に
調整した。内温を80℃に上げると重合圧力
7.0atmとなり、そ後10時間80±0.2℃で重合反応
を続けると重合圧力が−0.1atmとなり重合反応
が完結した。かくして乾燥固形分30重量％のラテ
ツクスを得た。 以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に記
載するが、本発明はこれにより限定されるもので
はない。 実施例 １ ２軸延伸熱セツト後の100μのポリエチレンテ
レフタレートフイルムに30w／m2minのコロナ放
電処理を施した。次に下記組成の下引第１層を
20μの膜厚に塗布し100℃で１分間乾燥させて層
を形成した。 （下引第１層組成） 前記合成例(1)による共重合体からなる下引用樹脂
10ml サポニン 30mg １，３−ジメチルスルホオキシプロパン 40mg 純 水 90ml 上記下引第１層の上に更に下記組成の下引第２
層を20μの膜厚に塗布し100℃で１分間乾燥させ
て層を形成した。 （下引第２層組成） ゼラチン １ｇ 純 水 100ml 上記により得られた下引層を有するポリエステ
ルフイルムに印刷感光材料用パツキング層を塗布
しこれをを試料１とした。引続いて比較例として
下記第１表に示すように下引液の共重合体のみを
代え、他は全く同じ方法で下引加工、パツキング
層の塗設を行なつて下記の表の如き試料２、３お
よび４を作成した。各試料の評価結果を第１表に
示すが、この表に記された各評価方法は下記に記
載した方法によるものである。
る。 更に詳しくは、ポリエステル支持体上に、感光
性乳剤層或はパツキング層等の親水性コロイド層
を強固に接着させる為に、特定の共重合体水性組
成物を塗設して下引処理を施した写真用支持体に
関する。 ポリエステルフイルムは、ハロゲン化銀写真感
光材料等の支持体として優れた物理的性質を有す
るため、近年その需要が増大し広く用いられてい
る。ところがポリエステルフイルムは疎水性が極
めて大きく、このような支持体とゼラチンの如き
物質をバインダーとする写真用ゼラチン層のよう
な親水性コロイド層との間に強い接着力を持たせ
るのにしばしば困難を伴う。従来、ポリエステル
フイルムを使用した写真感光材料においては、支
持体と親水性コロイド層との接着を行なうために
多くの下引方法が知られているが、親水性コロイ
ド層とくに写真用ゼラチン層を強固に接着するた
めには、いずれの方法に於いてもポリエステルフ
イルムの膨潤剤或は溶解剤を使用しなければなら
ない場合が多かつた。しかし、この膨潤剤或は溶
解剤を含有する下引組成物をポリエステルフイル
ムに塗布した場合、下引の工程中に支持体の平面
性が損われ、またこれらの膨潤剤或は溶解剤のほ
とんどが有害な有機溶媒類を使用するため、作業
上の安全衛生を損う等の多くの欠点を有してい
た。 この為、ポリエステルフイルムに対し、膨潤剤
或は溶解剤を使用しない下引が提案されている。
その１つの技術は、表面を化学的ないし物理的に
処理したポリエステルフイルムとして、薬品処
理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫
外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸
化処理などの表面活性化処理をした支持体が提案
されている。この技術は米国特許第2943937号、
同第3475193号、同第3615557号、英国特許第
1215234号、米国特許第3590107号各明細書、特開
昭53−13672号、同55−18469号各公報等に提案さ
れている。しかし、こられの表面処理されたポリ
エステルフイルムは、本来疎水性であつたフイル
ム表面に多少共極性基を持つ事、また極表面の接
着に対してマイナスの要因になる薄層が除去され
ている事等によると思われるが、写真用親水性保
護コロイド層との接着力は増加するものの、充分
な接着強度は得られなかつた。 更に写真用親水性コロイド層との接着性を増大
させる為に、表面処理をした後に水性塗布組成物
層を設けたポリエステルフイルムが提案されてい
る。この水性塗布組成物層いわゆる下引層は、ポ
リエステルフイルムと写真用親水性コロイド層と
の両方に対して充分な接着性を有する事が必要で
ある。特に、下引層と写真用親水性コロイド層と
を充分接着させる為、一般に下引層の樹脂（以
下、下引用樹脂という。）成分中に親水性基ある
いは反応性基を含ませる事が行なわれている。こ
の親水性基あるいは反応性基としては、酸（例え
ばアクリル酸、イタコン酸、イタコン酸の半アル
キルエステル等）、エポキシ基（例えばグリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート等）、
Ｎ−アルカノール基〔例えばＮ−メチロールアク
リルアミド、ヒドロキシメチル化Ｎ−（１，１−
ジメチル−３−オキソブチル）アクリルアミド
等〕、水酸基（例えばヒドロキシエチルメタアク
リレート、ヒドロキシエチルアクリレート等）等
がある。 上記のうち、酸成分を含む下引用樹脂を下引層
に含む例は、特公昭48−3564号、特開昭46−1123
号、同50−1718号、ヨーロツパ特許第1484号明細
書、特開昭54−61518号、同50−39536号各公報、
米国特許第3545972号明細書等に開示されている。
しかし、下引用樹脂中に酸性分を含んでいる下引
層を有するポリエステルフイルムでは、写真用親
水性保護コロイド層の現像処理時の接着性が不充
分であつた。 エポキシ基成分を含む下引用樹脂を下引層に含
む例は、特公昭34−9629号、特開昭51−58469号、
同52−104913号、同51−27918号、同52−19786
号、同55−121437号、同51−121323号各公報、英
国特許第1168171号明細書、特開昭55−69138号公
報等に開示されている。しかし、グリシジルメタ
クリレートあるいはグリシジルアクリレート等の
エポキシ基成分は、いずれも、自己架橋性があ
り、また分解も起こりやすく、下引用樹脂の合成
中あるいは合成液保存中に変質し、合成液あるい
は下引用樹脂を含んだ水性組成物である下引用加
工液（以下、下引液という。）の安定性が不充分
であつた。 水酸基成分を含む下引用樹脂を下引層に含む例
は、特開昭49−113868号、同51−123139号、同51
−135526号、同52−19786号、同55−69138号公報
に開示されている。しかし、これらの水酸基を含
む下引用樹脂もまた、下引層あるいは下引用樹脂
として充分なものとはいえなかつた。 Ｎ−アルカノール基成分を含む下引用樹脂を下
引層に含む例は、仏国特許第1404084号明細書、
特開昭51−131516号公報、英国特許第1178597号
明細書、特公昭57−3054号公報等に開示されてい
る。しかし、これらに記載されているＮ−アルカ
ノールアクリルアミド類は自己架橋性が強く、下
引用樹脂の合成中あるいは合成液保存中に架橋が
起り、合成液及び下引液の安定性が不充分であつ
た。また、仏国特許第1404084号明細書の中には、
Ｎ−（アルコキシメチル）アクリルアミドを含む
下引用樹脂を下引層に含む例も開示されている
が、この下引用樹脂は有機溶剤に溶解して塗布す
るもので、前述した如くこの種の下引法によると
支持体の平面性及び透明性が損われたり、作業上
あるいは公害上好ましくない。また、仏国特許第
1404084号に開示されている下引法は、ポリカー
ボネート支持体及びポリカーボネートポリウレタ
ン支持体上には、直接に上記の下引用樹脂による
下引を行つているが、ポリエステル支持体の場合
にはメチレンクロライド可溶ポリエステルを有機
溶剤に溶解させたものを塗設後、その上に上記下
引用樹脂による下引を行う方法である。 すなわち、上記仏国特許明細書による下引技術
ではポリエステル支持体にメチレンクロライド可
溶性ポリエステルを塗設し、更に前記のアクリル
アミド系下引用樹脂を有機溶剤に溶解させた下引
液を下引層として塗設せしめることにより、上記
ポリエステル支持体に対する前記下引用樹脂の接
着を可能にせしめたものと考えられる。従つて前
記の下引用樹脂は直接ポリエステル支持体に対し
て接着性を有するものではなく、メチレンクロラ
イドに可溶性である如きポリエステル、すなわち
ポリエステル支持体のポリエステルよりも分子量
の可成り小さいポリエステルに対して始めて接着
性を示すものと理解し得る。 要するに上記特許明細書により開示された下引
法は、ポリエステル支持体に上記せる下引用樹脂
を下引層として設ける有機溶剤および支持体と下
引層との間に他の物質層を必要とする技術に属す
る。 この様に、親水性基あるいは反応性基を含む下
引用樹脂を下引層に含有する写真用ポリエステル
フイルムは、製造時の安定性及び下引性能が必ず
しも満足のいくものではなかつた。 一方、上述した親水性基あるいは反応性基を必
ずしも下引用樹脂中に含まない下引の例として、
特公昭57−970号公報には、スチレンを主成分と
した下引用樹脂をポリエステルフイルム上に塗設
した後にコロナ放電処理を施した下引が開示され
ている。しかし、この下引では下引用樹脂の造膜
性が不充分で、下引の乾燥条件の変動によつて、
下引済ポリエステルフイルムの透明性が悪くなり
易く、透明性の良い下引済ポリエステルフイルム
を安定して得る事が難かしかつた。 ところで、一見すると写真用としても使用でき
そうな樹脂層を設けたポリエステルフイルムを提
供する技術があるが、写真用の下引は他の用途か
らは全くかけ離れた性能が要求され、似て否なる
ものである。 例えば米国特許第3247139号明細書には、Ｎ−
（アルコキシメチル）アクリルアミドを含む塗料
用組成物が開示されている。しかしこの塗設層は
一方の接着層のみ考慮されており、写真用下引層
のように、支持体と写真用親水性コロイド層との
両方を接着させる技術思想と全く異なる技術に属
する。参考のために上記の明細書に開示された技
術による下引は、写真用親水性コロイド層に対し
ては全く不充分な接着を示したに過ぎなかつた。 本発明の第１の目的は、ポリエステルフイルム
と写真用親水性コロイド層との間に強固な接着力
を有する写真用支持体を提供する事である。 本発明の第２の目的は、必ずしも有機溶剤ポリ
エステルの膨潤剤あるいは溶解剤の使用を必要と
しない為、有害な有機溶剤等を排気もしくは排水
中に放出する事がなくて、公害発生の無いように
できる写真用支持体を提供する事である。 本発明の第３の目的は、平面性の良い写真用支
持体を提供する事である。 本発明の第４の目的は、ポリエステルの膨潤剤
あるいは溶解剤の使用を必要とせず、従つて、こ
れによつて引き起こされるポリエステルフイルム
の平面性及び透明性の劣化が無く、また下引用樹
脂塗設によつて透明性が悪くなる事もない写真用
支持体を提供する事である。 本発明の第５の目的は、安定にかつ容易に製造
できる下引用樹脂から成る下引層を有する写真用
支持体を提供する事である。 本発明の第６の目的は、保存安定性の良い下引
用樹脂から成る下引層を有する写真用支持体を提
供する事である。 本発明の第７の目的は、保存安定性及び機械的
安定性の良い下引液を使用した写真用支持体を提
供する事である。すなわち、本発明に用いる下引
用樹脂はラテツクス合成温度（100℃以下）にお
いて自己架橋性、分解性のない共重合体成分を含
み、従つて、合成中、下引用樹脂保存中及び下引
液保存中での下引用樹脂の変更、下引用樹脂液な
いし下引液のPH等の物性の好ましくない変化が無
く、また本発明に用いる下引用樹脂は機械的にも
非常に安定であり、合成中、下引液塗布中での凝
集を全く生じない下引液を使用した写真用支持体
を提供する事である。 本発明の第８の目的は、下引工程での塗布及び
乾燥条件の変動によつても下引性能に変動が生ず
る事のない、安定に製造できる写真用支持体を提
供する事である。 本発明の第９の目的は、各種の写真用親水性コ
ロイド層、特に写真乳剤層に対して悪影響を与え
ない写真用支持体を提供する事である。 本発明者等は、種々検討を重ねた結果、上記の
各目的はポリエステル支持体の少くとも一面に、
最低成膜温度が40℃以下である下記一般式（）
で表わされる単量体の共重合体を含む水性組成物
の層を直接塗設して得られる下引層を有する写真
用支持体により達成し得ることを見い出した。 一般式（） （式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は
炭素原子数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基
を表わす。） すなわち、本発明は親水性基ないし反応性基を
含んだ下引用樹脂に着目してなされたものであ
り、本発明によれば前記一般式（）で表わされ
る如きエーテル化されたメチロール基を有するＮ
−（アルコキシメチル）アクリルアミド単量体の
共重合体からなる下引用樹脂を水性分散物として
ポリエステル支持体に直接塗設させることにより
優れた接着性を有する下引層を得ることができ
た。 上記により明らかなとおり、本発明による下引
法では、ポリエステル支持体の下引に際して有機
溶剤や膨潤剤を用いる必要がなく、また支持体と
下引層との間に他の物質層を必要とすることもな
い。従つて前記の如き有機溶剤や膨潤剤の使用に
よる欠点が発生することもなく、他の物質層も必
要ではないところから下引工数を縮減せしめるこ
ともできる。 なお、本発明において上記の“直接”と言う意
味は、ポリエステル支持体の少なくとも表面を膨
潤させたりあるいは支持体を溶解させる如き有機
溶剤で前処理をしないこと、または支持体と下引
層との間に他の物質層を設けることがないこと等
を言い現わしている。また更に上記の本発明にお
けるポリエステル支持体とは、メチレンクロライ
ドに対して不溶性のポリエステルを組成とする支
持体を意味する。 以下、更に本発明を詳細に説明する。 本発明による下引層の共重合体として用いられ
る前記一般式（）で表される単量体の具体例と
しては、例えばＮ−メトキシメチルアクリルアミ
ド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−
イソプロポキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ブト
キシメチルアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル
メタアクリルアミド、Ｎ−イソブトキシメチルア
クリルアミド、Ｎ−イソブトキシメチルメタアク
リルアミド、Ｎ−オクチロキシメチルアクリルア
ミド等を挙げることができる。 本発明においては、共重合体における上記の単
量体成分が多過ぎると、接着性は極端に劣化する
ことはないものの、ラテツクスの機械的安定性が
悪化し、下引ムラを生じる。また単量体成分が少
な過ぎると接着性が低下し好ましくないので、上
記共重合体における単量体成分の割合は１〜40重
量％、特に５〜30重量％が望ましい。 本発明における下引組成物として用いられる共
重合体の他の単量体としては、例えばメチルアク
リレート、メチルメタアクリレート、エチルアク
リレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、tert−ブチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、スチレン、ブタジエン、イソプレン、アクリ
ルアミド等の如きPOLIMER HANDBOOK
（WILEY−INTER SCIENCE社、J.
BRANDRUP.E.H.IMMERGUT著）に記載され
ているような単量体を１種以上用いることができ
る。この成分の好ましい割合は、共重合体に対し
て60〜99重量％、特に好ましくは70〜95重量％で
ある。 本発明に係わる下記組成においては、上記の如
き共重合体の他の単量体を選択するにあたつて
は、特に共重合体を含むラテツクスの最低成膜温
度が40℃以下となるような単量体でなければなら
ない。すなわち、本発明に係わる下引組成では、
上記の最低成膜温度が40℃を越えると下引層は造
膜が困難となり、また仮に造膜されても下引ベー
スの透明性が極端に悪くなる。 次に本発明で言う最低成膜温度の測定法におい
て詳述する。東洋精機製作所製のFilm Forming
Testerを使用し、幅10cm、長さ30cmの銅板に一
定の温度勾配をつくり、温度勾配が平衡に達した
ら、ラテツクスを薄くハケで塗布し、乾燥させ
る。乾燥終了後、銅板を観察すると、最低成膜温
度以上の温度領域では透明な連続フイルムが形成
されるが、最低成膜温度以下の温度領域では白色
粉末状となつてしまう。この境界線の温度を最低
成膜温度と定める。 上記測定に用いるラテツクスの濃度および使用
量は、上記最低成膜温度測定値には何ら影響を及
ぼすものではない。 上記測定法について更に詳細には高分子ラテツ
クスの化学（高分子刊行会、室井宗一著）260〜
261頁に記載されている。 本発明において、特に好ましい共重合体を構成
する単量体の組み合わせとしては、Ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミド−ブチルアクリレート−ス
チレン、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド
−ブチルアクリレート−スチレン、Ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミド−エチルアクリレート−ス
チレン、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド
−エチルアクリレート−スチレン、Ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミド−ブチルアクリレート−ブ
チルメタクリレート、Ｎ−イソブトキシメチルア
クリルアミド−ブチルアクリレート−ブチルメタ
クリレート、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド
−ブチルアクリレート−tert−ブチルアクリレー
ト、、Ｎ−イソブトキシメチルアクリルアミド−
ブチルアクリレート−tertーブチルアクリレー
ト、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド−ブタジ
エン−スチレン、Ｎ−イソブトキシメチルアクリ
ルアミド−ブタジエン−スチレン、Ｎ−ブトキシ
メチルアクリルアミド−ブチルアクリレート−ス
チレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ
−ブトキシメチルアクリルアミド−ブチルアクリ
レート−スチレン−アクリルアミド等があげられ
るが、この記述は本発明の範囲を限定するもので
はない。 本発明に用いられる上記共重合体は公知の乳化
重合法によつて合成することができきる。例え
ば、高分子ラテツクスの化学（高分子刊行会、室
井宗一著）、第１章及びエマルジヨンラテツクス
ハンドブツク（大成社出版）第１編〜第３編に記
載されているような重合法及び重合開始剤、乳化
剤等を用いることができる。更に乳化剤として
は、日本界面活性剤工業会出版の界面活性剤等一
覧表（1981年度版）に記載されているものを用い
ることができる。 本発明における下引組成物では、前記共重合体
は水系分散媒中に微細な粒子として分散させ共重
合体水性組成物として下引液に用いる。なお、目
的によつては水の１部を水と混合可能な有機溶媒
（例えばメタノールとかアセトン）と置き換えて
もよい。乳化重合法によつて得られる本発明の共
重合体は微粒子乳化重合物の水性分散液、いわゆ
るラテツクスとして得られる。 本発明の共重合体を含む共重合体水性組成物
（下引液）は、使用目的、塗布方法により異なる
が、水分散液として作られる共重合体で必要に応
じて水または水と混合可能な有機溶剤で希釈し
て、共重合体の固形分濃度が0.1〜40重量パーセ
ントであるようにして用いるのが好ましい。 この様にして得られた本発明の共重合体ラテツ
クス（下引用樹脂）を主成分とする下引液は前述
した共重合体成分を0.1〜40重量％を含み、必要
に応じて界面活性剤、親水性有機コロイド、マツ
ト剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤等の添加剤を含
有してもよい。架橋剤としては、写真用ゼラチン
のいわゆる硬膜剤、例えばホルムアルデヒド、グ
リオキザール等のアルデヒド系化合物、ムコクロ
ル酸、テトラメチレン−１，４−ビス（エチレン
ウレア）、ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチ
レンウレア）等のエチレンイミン基を有する化合
物、トリメチレン−１，３−ビスメタンスルホン
酸エステル等のメタンスルホン酸エステル、ビス
アクリロイルウレア、メタキシレンビニルスルホ
ニル酸等の活性ビニル化合物、２−メトキシ−
４，６−ジクロルトリアジン、２−ソデイウムオ
キシ−４，６−ジクロルトリアジン等の活性ハロ
ゲンを有する化合物、ビスフエノールグリシジル
エーテル等のエポキシ基を有する化合物、イソシ
アネート等を使用する事ができる。これらのう
ち、エチレンイミン基を有する化合物、メタンス
ルホン酸エステルおよび活性ハロゲンを有する化
合物が特に好ましい。 上記下引液はポリエステルフイルム上に塗布さ
れる。ここにポリエステルとは、例えばジカルボ
ン酸とグリコールの重縮合、ジカルボン酸エステ
ルとグリコール又はジオールジアセテートとジカ
ルボン酸とのエステル交換、ジカルボン酸クロリ
ドとジオールとの縮合反応によつて得られる線状
構造をもつものであつて、入手のしやすさの点か
らはポリエチレンテレフタレートが最も好都合で
ある。 ポリエステルの厚さとしては特に制限はないが
約12μ〜500μ程度、好ましくは40μ〜200μ程度の
ものが取り扱いやすさ、汎用性の点から有利であ
る。特に二軸延伸結晶化されたものが、安定性、
強さなどの点から好都合である。 下引液をポリエステルフイルム上に塗布する前
にポリエステルフイルム表面には各種の表面活性
化処理をして親水化することが好ましい。表面活
性化処理としては、例えば米国特許第2943937号
明細書等に記載のような酸化剤溶液処理、米国特
許第3475193号明細書に記載のような紫外線吸収
処理、米国特許第3615557号明細書等に記載のよ
うなコロナ放電の電気放電処理、英国特許第
1215234号明細書等に記載のような活性ガス照射
処理、および米国特許第3590107号明細書等に記
載のような火焔処理等が挙げることができる。 上記下引液は公知の方法でポリエステルフイル
ム上に塗布される。例えばカーテン塗布、リバー
スロール塗布、フアウンテンエアドクター塗布、
スライドホツパー塗布、エクストールジヨン塗
布、テイツプ塗布等によりポリエステルフイルム
上に塗布する事ができる。ここで、共重合体の塗
設量は好ましくは0.01〜５ｇ／m2、特に好ましく
は0.03〜２ｇ／m2である。下引液塗布後の乾燥は
公知の方法で行なえる。例えば、熱風乾燥、赤外
線加熱乾燥、ヒーターロール乾燥、マイクロウエ
ーブ乾燥等により行う事ができる。本発明におい
て、好ましくは、この下引層を設けた上に更に上
層を塗設する。上層としては、公知のゼラチン、
カゼイン等の天然親水性有機コロイド、合成親水
性有機コロイド、帯電防止剤例えば特公昭46−
24159号公報、特開昭48−93165号公報および特公
昭49−23828号公報に記載されているか如き親水
性高分子等の水溶液を塗設することができる。こ
の上層液中にはマツト剤、硬膜剤、界面活性剤等
を含んでいても良い。上層液の塗布乾燥は下層の
加工と同様に公知の方法をいずれも用いる事がで
きる。こられの下引液及び、必要に応じて設けら
れる上層用塗布液の塗布前又は乾燥後に於て、必
要に応じて火炎放射処理、プラズマ処理、コロナ
放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理等の
公知の表面処理加工を行なつても良い。 このようにして少なくとも一面に下引層を設け
られた本発明に係る写真用支持体は、少なくとも
１面に通常用いられる方法により写真用親水性コ
ロイド層を塗設することができる。具体的には
種々の写真感光層形成用組成物、例えばハロゲン
化銀写真乳剤、ジアゾ感光組成物、あるいはハレ
ーシヨン防止剤を含有するゼラチン組成物又は支
持体フイルムのカールバランスを整えるためのゼ
ラチンパツキング組成物を被覆することができ、
このようにして得られる写真感光材料は接着性が
優れていて現像処理等の写真処理を行つても写真
感光層が支持体から剥離することがなく、また写
真性能への悪影響を伴なうことがない。 次に本発明に係わる下引層の共重合体の代表的
合成例を示す。（数量はすべて重量部である） 合成例 １ 撹拌機、還流冷却器、温度調節式加熱装置、温
度計および滴下ロートを装着した2000ml容量の４
つ口フラスコに窒素気流下で脱気した熟留水700
部とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム６部
を加え、加温して内温を80℃に調節しながら毎分
200回転の撹拌速度で撹拌を継続する。これに過
硫酸アンモニウム１部を加え、１〜２分後にＮ−
ブトキシメチルアクリルアミド15部、ブチルアク
リレート210部、スチレン75部からなる単量体混
合を１時間を要して滴下した。滴下終了後も同一
条件で更に４時間反応を継続して重合反応を完了
させ、乾燥固形分30重量％のラテツクスを得た。 合成例 ２ Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド18部、メチ
ルアクリレート54部、ブタジエン48部からなる単
量体混合物、ドデシルベンゼンスルホニル酸ナト
リウム３部、過硫酸アンモニウム0.5部、第３ド
デシルメルカプタン0.25部、蒸留水280部からな
る混合物を500ml容量の簡易型オートクレーブに
入れ、完全に封管し、撹拌速度を毎分600回転に
調整した。内温を80℃に上げると重合圧力
7.0atmとなり、そ後10時間80±0.2℃で重合反応
を続けると重合圧力が−0.1atmとなり重合反応
が完結した。かくして乾燥固形分30重量％のラテ
ツクスを得た。 以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に記
載するが、本発明はこれにより限定されるもので
はない。 実施例 １ ２軸延伸熱セツト後の100μのポリエチレンテ
レフタレートフイルムに30w／m2minのコロナ放
電処理を施した。次に下記組成の下引第１層を
20μの膜厚に塗布し100℃で１分間乾燥させて層
を形成した。 （下引第１層組成） 前記合成例(1)による共重合体からなる下引用樹脂
10ml サポニン 30mg １，３−ジメチルスルホオキシプロパン 40mg 純 水 90ml 上記下引第１層の上に更に下記組成の下引第２
層を20μの膜厚に塗布し100℃で１分間乾燥させ
て層を形成した。 （下引第２層組成） ゼラチン １ｇ 純 水 100ml 上記により得られた下引層を有するポリエステ
ルフイルムに印刷感光材料用パツキング層を塗布
しこれをを試料１とした。引続いて比較例として
下記第１表に示すように下引液の共重合体のみを
代え、他は全く同じ方法で下引加工、パツキング
層の塗設を行なつて下記の表の如き試料２、３お
よび４を作成した。各試料の評価結果を第１表に
示すが、この表に記された各評価方法は下記に記
載した方法によるものである。
【表】
（評価方法）
１ 接着力試験
乾燥膜付……試料の写真用親水性コロイド層面に
カミソリで浅傷を碁盤目状につけ、その上
にセロハン接着テープを圧着した後、該テ
ープを急激に剥離したときのセロハンテー
プの接着面積に対する乳剤膜の残存率を百
分率で示した。 処理膜付……処理浴中で試料の写真用親水性コロ
イド層面にキリ状の鋭利な先端で碁盤目状
に傷をつけて、その面をこすり乳剤膜の残
存率を百分率で示した。そして百分率が80
％以上であれば実用上支障なしとした。 ２ 透明性試験 東京電気(株)製濁度計MODEL Ｔ−2600DAを
用い、フイルム支持体を測定して百分率で示し
た。1.0％以下であれば実用上支障なしとした。 ３ 機械的安定性試験 上島製作所製高速度撹拌試験機を用い
JISK6381に従い、10％固型分ラテツクス液を
容器中で回転数14000r.p.m.で高速回転するス
ピンドルで撹拌し、凝集物が発生するまでの時
間を分で示した。30分以上であれば実用上支障
なしとした。 上記表において試料２、３および４は比較用試
料であり、試料２の共重合体組成はフランス特許
第1404048号明細書の実施例(5)に記載された共重
合体を乳化重合で合成したラテツクスであり、ま
た試料３の共重合体は米国特許第3247139号明細
書の実施例によるものである。試料４の共重合体
は特開昭49−113868号記載の例である。 上記の表から明らかなように、比較用の試料２
は最低成膜温度が高く、造膜が不可能であつた。
また試料３では透明性ならびに処理膜付、乾燥膜
付とも著るしく劣つていた。さらに試料４では、
処理膜付が劣つていた。これに対して本発明によ
る試料１は最低成膜温度も低く、また機械的安定
性、透明性、膜付特性共に優れていた。 実施例 ２ 下記第２表に示された共重合体ラテツクスを下
引用樹脂として用いた以外は実施例１と全く同様
な方法で、下引済みポリエステルフイルムを作製
し、この下引層上に印刷感光材料用写真感光性層
を塗設した。また実施例１の場合と同様に比較用
の共重合体ラテツクスによる下引用樹脂を使用し
た試料を作製し、本発明による下引用樹脂を用い
た試料を試料４および５とし、上記比較用試料を
試料６とした。
カミソリで浅傷を碁盤目状につけ、その上
にセロハン接着テープを圧着した後、該テ
ープを急激に剥離したときのセロハンテー
プの接着面積に対する乳剤膜の残存率を百
分率で示した。 処理膜付……処理浴中で試料の写真用親水性コロ
イド層面にキリ状の鋭利な先端で碁盤目状
に傷をつけて、その面をこすり乳剤膜の残
存率を百分率で示した。そして百分率が80
％以上であれば実用上支障なしとした。 ２ 透明性試験 東京電気(株)製濁度計MODEL Ｔ−2600DAを
用い、フイルム支持体を測定して百分率で示し
た。1.0％以下であれば実用上支障なしとした。 ３ 機械的安定性試験 上島製作所製高速度撹拌試験機を用い
JISK6381に従い、10％固型分ラテツクス液を
容器中で回転数14000r.p.m.で高速回転するス
ピンドルで撹拌し、凝集物が発生するまでの時
間を分で示した。30分以上であれば実用上支障
なしとした。 上記表において試料２、３および４は比較用試
料であり、試料２の共重合体組成はフランス特許
第1404048号明細書の実施例(5)に記載された共重
合体を乳化重合で合成したラテツクスであり、ま
た試料３の共重合体は米国特許第3247139号明細
書の実施例によるものである。試料４の共重合体
は特開昭49−113868号記載の例である。 上記の表から明らかなように、比較用の試料２
は最低成膜温度が高く、造膜が不可能であつた。
また試料３では透明性ならびに処理膜付、乾燥膜
付とも著るしく劣つていた。さらに試料４では、
処理膜付が劣つていた。これに対して本発明によ
る試料１は最低成膜温度も低く、また機械的安定
性、透明性、膜付特性共に優れていた。 実施例 ２ 下記第２表に示された共重合体ラテツクスを下
引用樹脂として用いた以外は実施例１と全く同様
な方法で、下引済みポリエステルフイルムを作製
し、この下引層上に印刷感光材料用写真感光性層
を塗設した。また実施例１の場合と同様に比較用
の共重合体ラテツクスによる下引用樹脂を使用し
た試料を作製し、本発明による下引用樹脂を用い
た試料を試料４および５とし、上記比較用試料を
試料６とした。
【表】
上記表からも明らかなように、比較用試料６
は、処理時および乾燥後における膜付特性が劣化
している。これに対して本発明による試料４およ
び５では最低成膜温度、機械的安定性、透明性が
良好であり、かつ処理時および乾燥後における膜
付特性にも優れていることがわかつた。 実施例 ３ ２軸延伸熱セツト後の175μのポリエチレンテ
レフタレートフイルムを300Wの高圧水銀灯で５
分間処理した。次に下記組成の下引第１層を20μ
の膜厚に塗布し、100℃で１分間乾燥して層を形
成し、引続いて実施例１と同様に下引第２層を塗
設した。 （下引第１層組成） 前記合成例(4)による共重合体からなる下引用樹脂
１ml サポニン 20mg 純 水 99ml 上記により得られた下引層を塗設したポリエス
テル支持体にレントゲン用写真感光性層を塗布し
て試料７とした。 次に、比較のためにブチルアクリレートスチレ
ン共重合体ラテツクスを塗布、乾燥させた後、
30W／m2minのコロナ放電処理を施したポリエチ
レンテレフタレートフイルムに直接レントゲン用
写真感光性層を塗設し比較用の試料８とした。こ
れらの試料につき、それぞれ実施例１と同様の方
法で評価実験を行ない、得られた結果を下記第３
表に示す。
は、処理時および乾燥後における膜付特性が劣化
している。これに対して本発明による試料４およ
び５では最低成膜温度、機械的安定性、透明性が
良好であり、かつ処理時および乾燥後における膜
付特性にも優れていることがわかつた。 実施例 ３ ２軸延伸熱セツト後の175μのポリエチレンテ
レフタレートフイルムを300Wの高圧水銀灯で５
分間処理した。次に下記組成の下引第１層を20μ
の膜厚に塗布し、100℃で１分間乾燥して層を形
成し、引続いて実施例１と同様に下引第２層を塗
設した。 （下引第１層組成） 前記合成例(4)による共重合体からなる下引用樹脂
１ml サポニン 20mg 純 水 99ml 上記により得られた下引層を塗設したポリエス
テル支持体にレントゲン用写真感光性層を塗布し
て試料７とした。 次に、比較のためにブチルアクリレートスチレ
ン共重合体ラテツクスを塗布、乾燥させた後、
30W／m2minのコロナ放電処理を施したポリエチ
レンテレフタレートフイルムに直接レントゲン用
写真感光性層を塗設し比較用の試料８とした。こ
れらの試料につき、それぞれ実施例１と同様の方
法で評価実験を行ない、得られた結果を下記第３
表に示す。
【表】
上記試料８の共重合体は特公昭57−970号公報
の実施例10の記載によるものである。上記表によ
ると試料７および８は写真性能を劣化させること
はなかつたが、本発明による試料７は各評価項目
に対して比較試料に比べ、より一層優れた性能を
示した。 実施例 ４ 下記第４表に示す如き各種の共重合体ラテツク
スによる下引用樹脂を用い、実施例１と全く同様
の方法で下引層を形成させたポリエステルフイル
ムを作成し、この下引層の上にカラーカツトフイ
ルム用バツキング層を塗設し、下記第４表に示す
ような試料９ないし試料17を作製した。各試料に
ついて前記実施例と同様に評価試験を行ない、得
られた結果を下記第４表に列記した。
の実施例10の記載によるものである。上記表によ
ると試料７および８は写真性能を劣化させること
はなかつたが、本発明による試料７は各評価項目
に対して比較試料に比べ、より一層優れた性能を
示した。 実施例 ４ 下記第４表に示す如き各種の共重合体ラテツク
スによる下引用樹脂を用い、実施例１と全く同様
の方法で下引層を形成させたポリエステルフイル
ムを作成し、この下引層の上にカラーカツトフイ
ルム用バツキング層を塗設し、下記第４表に示す
ような試料９ないし試料17を作製した。各試料に
ついて前記実施例と同様に評価試験を行ない、得
られた結果を下記第４表に列記した。
【表】
【表】
上記表の試料９〜16は本発明による試料で、試
料17は比較用である。試料17は下引樹脂としての
機械的安定性が劣つているが、本発明による試料
は全ての評価項目において優れた特性を示した。 実施例 ５ 下引第２層を塗布する前に下引第１層塗布済み
のポリエチレンテレフタレート支持体表面に
30W／m2minのコロナ放電処理を行なつた以外は
実施例１と全く同様の方法で下引層および印刷感
光材料バツキング層を塗設し、次に実施例２と同
様な方法で印刷感光材料用写真感光性層を塗布し
た。そして下記第５表に示す本発明による試料18
および19を作製した。 上記試料について前記実施例と同様に評価試験
を行ない、得られた結果を下記第５表に示す。
料17は比較用である。試料17は下引樹脂としての
機械的安定性が劣つているが、本発明による試料
は全ての評価項目において優れた特性を示した。 実施例 ５ 下引第２層を塗布する前に下引第１層塗布済み
のポリエチレンテレフタレート支持体表面に
30W／m2minのコロナ放電処理を行なつた以外は
実施例１と全く同様の方法で下引層および印刷感
光材料バツキング層を塗設し、次に実施例２と同
様な方法で印刷感光材料用写真感光性層を塗布し
た。そして下記第５表に示す本発明による試料18
および19を作製した。 上記試料について前記実施例と同様に評価試験
を行ない、得られた結果を下記第５表に示す。
【表】
上記表からも明らかであるように、本発明によ
る上記両試料は何れも上記の全ての評価項目に対
して優れた特性を示しており、特に前記実施例２
における本発明による試料４および５と比較し
て、処理膜付ならびに乾燥膜付に関する特性がよ
り以上向上していることがわかつた。また本発明
による試料18および19は、共に写真性能に悪い影
響を与えることもなかつた。
る上記両試料は何れも上記の全ての評価項目に対
して優れた特性を示しており、特に前記実施例２
における本発明による試料４および５と比較し
て、処理膜付ならびに乾燥膜付に関する特性がよ
り以上向上していることがわかつた。また本発明
による試料18および19は、共に写真性能に悪い影
響を与えることもなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ポリエステル支持体の少なくとも一面に、最
低成膜温度が40℃以下である下記一般式（）で
表わされる単量体の共重合体を含む水性組成物を
直接塗設して得られる下引層を有することを特徴
とする写真用支持体。 一般式（） （式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は
炭素原子数１〜８の直鎖または分岐のアルキル基
を表わす。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57203358A JPS5993446A (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 写真用支持体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57203358A JPS5993446A (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 写真用支持体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5993446A JPS5993446A (ja) | 1984-05-29 |
| JPH0463387B2 true JPH0463387B2 (ja) | 1992-10-09 |
Family
ID=16472704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57203358A Granted JPS5993446A (ja) | 1982-11-18 | 1982-11-18 | 写真用支持体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5993446A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49113868A (ja) * | 1973-03-05 | 1974-10-30 | ||
| JPS5753938A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-31 | Toshiba Corp | Electron beam exposure apparatus |
-
1982
- 1982-11-18 JP JP57203358A patent/JPS5993446A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5993446A (ja) | 1984-05-29 |
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