JPH0464471B2 - - Google Patents

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JPH0464471B2
JPH0464471B2 JP59258997A JP25899784A JPH0464471B2 JP H0464471 B2 JPH0464471 B2 JP H0464471B2 JP 59258997 A JP59258997 A JP 59258997A JP 25899784 A JP25899784 A JP 25899784A JP H0464471 B2 JPH0464471 B2 JP H0464471B2
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JP
Japan
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chip
metal
hard
ceramic substrate
soldered
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Yoshitaka Fukuoka
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication of JPH0464471B2 publication Critical patent/JPH0464471B2/ja
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    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、同一パツケージにICチツプと光電
変換素子とを共に実装したハイブリツドICに関
する。
[発明の技術的背景] 近年、光通信システムの実用化に伴つて光通信
用の各種機器の小型化が推進されつつあり、光送
信器および光受信器についても高密度化が検討さ
れている。
ところで光送信器および光受信器においては、
光電変換素子とIC部品との接続の方式が重要な
課題となるが、先頃、同一パツケージにハイブリ
ツドICと光電変換素子とを共に搭載し、予め両
者の結合を図つたデバイスが開発された。
第2図はこの光電変換素子搭載型のハイブリツ
ドICの一例を示す側面図である。
同図において1はICチツプ実装用電極として
の各メタライズ部と後述する各部材を固着するた
めのメタライズ部が形成されたセラミック基板を
示している。
このセラミック基板1表側面の略中央部分に形
成されたICチツプ実装用メタライズ部(図示せ
ず)には、複数のICチツプ2がマウントおよび
ボンデイングされている。そしてICチツプ2を
覆うように、例えば鉄−ニツケル合金からなる金
属製蓋体3が周縁部分のメタライズ部1aに半田
付けされている。4はその半田である。
一方、セラミック基板1裏側面に形成されてい
るメタライズ部(図示せず)には、熱伝導性の良
好な金属製の放熱板5がろう付けされている。こ
の金属製放熱板5は一部がセラミック基板1の縁
部より突出しており、この突出部には、内部に光
電変換素子6を実装した光フアイバケーブルコネ
クタ7がねじ8により固着されている。
そして光フアイバケーブルコネクタ7から延出
している信号入出力用リード9がセラミック基板
1表側面の縁部付近の光電変換素子実装用メタラ
イズ部1bに半田付けされている。
なお、セラミック基板1の裏側面には端子リー
ド10がろう付けされている。
このように構成されている光電変換素子搭載型
のハイブリツドICは、端子リード10をプリン
ト基板のホールに挿入して半田付けし、光フアイ
バケーブルコネクタ7のねじ部7aに光フアイバ
ケーブル側の端部ソケツト(図示せず)を螺入す
れば、他のモジユールとのデータ伝送の一部を光
信号により行なうことができる。
[背景技術の問題点] しかしながら、上述したように構成された光電
変換素子搭載型のハイブリツドICは、金属製蓋
体および光フアイバケーブルコネクタ7の信号入
出力用リード9がセラミック基板1表面のメタラ
イズ部に対して半田付けされ、しかも半田部分が
露出しているので、その部分の耐熱性および耐久
性が低い。
この半田付けの部分は、通常の使用においては
特に問題とならない程度の耐熱性および耐久性を
有しているが、デバイスを船舶、航空機等の設備
の内部構成デバイスとして用いた場合には、半田
付けの部分が相当劣化してしまう。
特に船舶の設備に用いた場合には著しく、半田
付けの部分が塩分を含んだ外気により浸食され
て、接続不良や実装されているICチツプの機能
不良等のトラブルが発生し、最悪の場合には事故
につながる恐れがあるという問題があつた。
[発明の目的] 本発明は上述したような光電変換素子搭載型の
ハイブリツドICの問題点を解決すべくなされた
もので、通常の場合は勿論、船舶、航空機等の設
備に用いた場合でも、接続不良やICチツプの機
能不良等が生じる心配のない光電変換素子搭載型
のハイブリツドICの提供を目的としている。
[発明の概要] すなわち本発明のハイブリツドICは、表側面
にICチツプ実装用電極と光電変換素子実装用電
極とが形成されたセラミック基板と、同面に前記
ICチツプ実装用電極付近を外囲するように硬ろ
う付けされた金属枠体と、この金属枠体内で前記
ICチツプ実装用電極にボンデイングされたICチ
ツプと、前記金属枠体に前記ICチツプの実装部
分を気密封止するように溶接された金属シエル
と、前記セラミック基板の裏側面に一部が突出す
るように硬ろう付けされた放熱板と、同面に硬ろ
う付けされた端子リードと、前記放熱板の突出部
分に固着された光電変換素子内蔵型の光フアイバ
ケーブルコネクタと、前記光電変換素子実装用電
極に硬ろう付けされた金属チツプと、前記光フア
イバケーブルコネクタから延出されかつ前記金属
チツプにスポツト溶接された信号入出力用リード
とからなることを特徴としている。
[発明の実施例] 以下本発明の実施例の詳細を図面に基づいて説
明する。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す側面図
である。
同図において11はICチツプ実装用電極とし
てのメタライズ部および後述する各部材を固着す
るためのメタライズ部が形成されたセラミック基
板を示している。
このセラミック基板11表側面の略中央部付近
に形成されたメタライズ部(図示せず)には、
ICチツプ12がマウントおよびボンデイングさ
れている。そしてICチツプ12の実装部分を外
囲するように形成されているメタライズ部11a
にはセラミック基板11と略等しい熱膨張特性を
有するロ字状の金属枠体13が硬ろう付けされて
いる。14はその銀ろう材であり、半田の融点が
180〜200℃であるのに対し、800〜900℃の融点を
有している。さらに金属枠体13の開放側には金
属シエル23が溶接され、金属枠体13の内部、
すなわちICチツプ12が実装されている部分を
気密封止している。
一方、セラミック基板11裏側面に形成された
メタライズ部(図示せず)には熱伝導性の良好な
金属製放熱板15が硬ろう付けされている。
この金属製放熱板15の一部はセラミック基板
11の縁部から突出しており、突出部分の表側面
には内部に光電変換素子16を実装した光フアイ
バケーブルコネクタ17がねじ18により固着さ
れている。
また光フアイバケーブルコネクタ17の後方か
らは信号入出力用リード19が延出している。
セラミック基板11の金属枠体13が硬ろう付
けされている部分より外側の部分には光電変換素
子実装用電極としてのメタライズ部11bが形成
されており、このメタライズ11bにはセラミッ
ク基板11と略等しい熱膨張特性を有する方形の
金属チツプ20が硬ろう付けされている。21は
その銀ろう材である。
さらに金属チツプ20の上面には先に述べた光
フアイバケーブルコネクタ17の信号入出力用リ
ード19が、レーザ光Lによりスポツト溶接され
ている。
なおセラミック基板11の裏側面には端子リー
ド22が延出するように硬ろう付けされている。
しかして上述したように構成された本実施例の
ハイブリツドICは、メタライズ部11aと金属
枠体13との接合およびメタライズ部11bと金
属チツプとの接合が共に硬ろう付けにより行なわ
れているので、これらの部分は従来の半田付けと
比較して各段に耐熱性および耐久性が高い。
また金属チツプ20に対して信号入出力用リー
ド19がレーザスポツト溶接されているので、こ
の部分も従来の半田付けと比較して耐熱性および
耐久性が高い。
本実施例のハイブリツドICを製造するには、
まずセラミック基板11表側面のメタライズ部1
1aおよび11bに銀ろう材のシートを貼着し、
このシート上に金属枠体13および金属チツプ2
0を載置したものを、同じく銀ろう材のシートを
介してリードフレームおよび金属性放熱板18上
に載置して、これらを電気炉中で一括加熱する。
そして、得られたパツケージ部品の金属枠体1
3内でICチツプを従来通り実装し、金属シエル
23を溶接して内部を気密封止する一方、金属製
放熱板15の突出部分に光フアイバケーブルコネ
クタ17をねじ18によりねじ止めし、信号入出
力用リード19を金属チツプ20に対してレーザ
溶接すればよい。
なお本実施例のハイブリツドICは例えば第1
図中に示したように、少なくとも信号入出力用リ
ード19と金属チツプ20との接合部および金属
枠体13とセラミック基板11との接合部を金属
製カバー24で覆うようにすると接合部分が露出
しないので、耐熱性および耐久性を一層向上させ
ることができる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明のハイブリツドIC
は、ICチツプ実装部分を保護する金属枠体およ
び光フアイバケーブルコネクタの信号入出力用リ
ードを接続する金属チツプがセラミック基板に対
してそれぞれ硬ろう付けされている一方、金属チ
ツプに対して前記信号入出力用リードがスポツト
溶接されているので、耐熱性および耐久性が良好
であり、通常の場合は勿論、船舶、航空機等の設
備に用いた場合でも接合部分が損われる恐れがな
い。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の構成を示す側面
図、第2図は従来のハイブリツドICの構成を示
す側面図である。 1,11……セラミック基板、2,12……
ICチツプ、3……金属製蓋体、5,15……金
属製放熱板、6,16……光電変換素子、7,1
7……光フアイバケーブルコネクタ、9,19…
…信号入出力用リード、20……金属チツプ、1
3……金属枠体、21,14……銀ろう材、23
……金属シエル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 表側面にICチツプ実装用電極と光電変換素
    子実装用電極とが形成されたセラミック基板と、
    同面に前記ICチツプ実装用電極付近を外囲する
    ように硬ろう付けされた金属枠体と、この金属枠
    体内で前記ICチツプ実装用電極にボンデイング
    されたICチツプと、前記金属枠体に前記ICチツ
    プの実装部分を気密封止するように溶接された金
    属シエルと、前記セラミック基板の裏側面に一部
    が突出するように硬ろう付けされた放熱板と、同
    面に硬ろう付けされた端子リードと、前記放熱板
    の突出部分に固着された光電変換素子内蔵型の光
    フアイバケーブルコネクタと、前記光電変換素子
    実装用電極に硬ろう付けされた金属チツプと、前
    記光フアイバケーブルコネクタから延出されかつ
    前記金属チツプにスポツト溶接された信号入出力
    用リードとからなることを特徴とするハイブリツ
    ドIC。 2 信号入出力用リードが金属チツプに対してレ
    ーザスポツト溶接されている特許請求の範囲第1
    項記載のハイブリツドIC。
JP59258997A 1984-12-07 1984-12-07 ハイブリツドic Granted JPS61137111A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59258997A JPS61137111A (ja) 1984-12-07 1984-12-07 ハイブリツドic

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JP59258997A JPS61137111A (ja) 1984-12-07 1984-12-07 ハイブリツドic

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JPS61137111A JPS61137111A (ja) 1986-06-24
JPH0464471B2 true JPH0464471B2 (ja) 1992-10-15

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JP59258997A Granted JPS61137111A (ja) 1984-12-07 1984-12-07 ハイブリツドic

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US4861134A (en) * 1988-06-29 1989-08-29 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Opto-electronic and optical fiber interface arrangement
JP4611472B2 (ja) * 1999-08-04 2011-01-12 浜松ホトニクス株式会社 投受光装置
CN102814866B (zh) * 2012-08-31 2014-10-29 北京京运通科技股份有限公司 一种准单晶硅锭的切割方法及硅片制造方法

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