JPH0464752B2 - - Google Patents
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- JPH0464752B2 JPH0464752B2 JP61161162A JP16116286A JPH0464752B2 JP H0464752 B2 JPH0464752 B2 JP H0464752B2 JP 61161162 A JP61161162 A JP 61161162A JP 16116286 A JP16116286 A JP 16116286A JP H0464752 B2 JPH0464752 B2 JP H0464752B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- discharge port
- thin film
- mist
- atomizer
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 17
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 7
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Special Spraying Apparatus (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、加熱した基板の表面にSnO2、
In2O3、TiO2、SiO2等の薄膜を形成するため、上
記基板の表面に霧化した原料溶液を吹き付ける噴
霧装置に関する。
In2O3、TiO2、SiO2等の薄膜を形成するため、上
記基板の表面に霧化した原料溶液を吹き付ける噴
霧装置に関する。
この種の噴霧装置を含む薄膜形成装置の構成を
第５図により説明すると、反応室１の中に表面
（薄膜を形成する側の面をいう、以下同じ）を下
方へ向けて基板２，２……が設置され、これらが
反応室１の中を第５図において、右から左へと送
られていく。また、基板２，２……は、反応室１
の中で背面側のヒータ９によつて400〜500℃程度
の温度に加熱される。基板２，２……の下位に、
その表面へ向けて上方に開口した吐出口７を有す
るノズル６が設置され、該ノズル６に、霧化器４
と送風器５が連結されている。
第５図により説明すると、反応室１の中に表面
（薄膜を形成する側の面をいう、以下同じ）を下
方へ向けて基板２，２……が設置され、これらが
反応室１の中を第５図において、右から左へと送
られていく。また、基板２，２……は、反応室１
の中で背面側のヒータ９によつて400〜500℃程度
の温度に加熱される。基板２，２……の下位に、
その表面へ向けて上方に開口した吐出口７を有す
るノズル６が設置され、該ノズル６に、霧化器４
と送風器５が連結されている。
薄膜の原料溶液には、Sn、In等の塩化物溶液
等が使用され、これが上記霧化器４において霧化
され、送風器５でノズル６へと送り出され、該ノ
ズル６の吐出口７から基板２，２……の表面に緩
やかに吹き付けられる。原料溶液の霧は、その一
部が基板２，２……の表面付近で熱を奪うことに
よつて、脱水されると共に気化する。さらに、こ
れが周囲の酸素や水蒸気と反応し、SnO2、InO3
等の酸化膜として上記基板２，２……の表面に凝
着する。
等が使用され、これが上記霧化器４において霧化
され、送風器５でノズル６へと送り出され、該ノ
ズル６の吐出口７から基板２，２……の表面に緩
やかに吹き付けられる。原料溶液の霧は、その一
部が基板２，２……の表面付近で熱を奪うことに
よつて、脱水されると共に気化する。さらに、こ
れが周囲の酸素や水蒸気と反応し、SnO2、InO3
等の酸化膜として上記基板２，２……の表面に凝
着する。
上記SnO2やInO3の薄膜は、透明であるため、
厚みに多少のむらがあると、干渉縞等が現れ、外
観上好ましくない。このため、均一な厚みの薄膜
を形成することを目的として、霧を均一に分散さ
せるためのフイルタ８をノズル６に設ける等、こ
れまでも基板２，２……の表面に均一に霧を吹き
付けるための試みが提案されている。
厚みに多少のむらがあると、干渉縞等が現れ、外
観上好ましくない。このため、均一な厚みの薄膜
を形成することを目的として、霧を均一に分散さ
せるためのフイルタ８をノズル６に設ける等、こ
れまでも基板２，２……の表面に均一に霧を吹き
付けるための試みが提案されている。
上記薄膜形成装置では、基板２，２……が第５
図において、順次右から左へと送られながらその
表面に霧状の原料溶液が吹き付けられる。このた
め、上記送り方向へは、膜厚のむらができにく
い。
図において、順次右から左へと送られながらその
表面に霧状の原料溶液が吹き付けられる。このた
め、上記送り方向へは、膜厚のむらができにく
い。
しかし、この送りと直交する方向へは、上記の
ようなフイルタ８を使用しても、霧化器４から送
られてくる霧の流れの偏り等によつて、膜厚のむ
らができやすく、上記送り方向に沿う干渉縞が発
生しやすい。
ようなフイルタ８を使用しても、霧化器４から送
られてくる霧の流れの偏り等によつて、膜厚のむ
らができやすく、上記送り方向に沿う干渉縞が発
生しやすい。
この発明は、従来の薄膜形成用の噴霧装置にお
ける上記の問題点を解決するためなされたもの
で、基板２，２……の送りと直交する方向にも均
一な厚みの薄膜を形成することができる噴霧装置
を提供することを目的とする。
ける上記の問題点を解決するためなされたもの
で、基板２，２……の送りと直交する方向にも均
一な厚みの薄膜を形成することができる噴霧装置
を提供することを目的とする。
この発明の構成を、第１図〜第４図の符号を引
用しながら説明すると、吐出口１７を上方へ向け
て開口させたノズル１６に、薄膜の原料溶液を霧
化する霧化器１４と、霧を上記ノズルへ送る送風
器１５とを連結する。ノズル１６の吐出口１７
は、一方向に細長く形成し、これと霧化器１４と
の間にほゞ均一に分布する複数の霧の通路２１，
２１……を有する分散器２０を配置する。そし
て、この分散器２０に、上記通路２１，２１……
をノズル１７の長手方向に往復運動させる駆動部
２２を連結する。
用しながら説明すると、吐出口１７を上方へ向け
て開口させたノズル１６に、薄膜の原料溶液を霧
化する霧化器１４と、霧を上記ノズルへ送る送風
器１５とを連結する。ノズル１６の吐出口１７
は、一方向に細長く形成し、これと霧化器１４と
の間にほゞ均一に分布する複数の霧の通路２１，
２１……を有する分散器２０を配置する。そし
て、この分散器２０に、上記通路２１，２１……
をノズル１７の長手方向に往復運動させる駆動部
２２を連結する。
この噴霧装置は、例えば第２図で示すように、
薄膜を形成する側の表面を下方へ向けて支持した
基板１２の下に、細長い吐出口１７が基板１２の
送りと直交する角度で基板１２へ向くようノズル
１６を置く。即ち、第２図で示すように、基板１
２がガイドレール３４，３４に両側を支持されな
がら、紙面の奥から手前へと送られる場合、ノズ
ル１６の吐出口１７を、この送りと直交するよ
う、同図において左右へ向けて配置する。
薄膜を形成する側の表面を下方へ向けて支持した
基板１２の下に、細長い吐出口１７が基板１２の
送りと直交する角度で基板１２へ向くようノズル
１６を置く。即ち、第２図で示すように、基板１
２がガイドレール３４，３４に両側を支持されな
がら、紙面の奥から手前へと送られる場合、ノズ
ル１６の吐出口１７を、この送りと直交するよ
う、同図において左右へ向けて配置する。
この状態で駆動部２２により、分散器２０の通
路２１，２１……を吐出口１７の長手方向に往復
運動させながら、霧化器１４で発生させた原料溶
液の霧を、送風器１５側から押し出してノズル１
６へ送る。この霧は、分散器２０にほゞ均一に分
布する通路２１，２１……を通過し、吐出口１７
から基板１２の表面へ向けて吹き付けられる。こ
のとき、通路２１，２１……が吐出口１７の長手
方向に往復運動していることから、霧がその方向
に撹乱される。このため、ノズル１６へ送られて
きた霧の流れに或る程度偏りがあつても、吐出口
１７の長手方向に均一化されて、吐出口１７から
吐出される。
路２１，２１……を吐出口１７の長手方向に往復
運動させながら、霧化器１４で発生させた原料溶
液の霧を、送風器１５側から押し出してノズル１
６へ送る。この霧は、分散器２０にほゞ均一に分
布する通路２１，２１……を通過し、吐出口１７
から基板１２の表面へ向けて吹き付けられる。こ
のとき、通路２１，２１……が吐出口１７の長手
方向に往復運動していることから、霧がその方向
に撹乱される。このため、ノズル１６へ送られて
きた霧の流れに或る程度偏りがあつても、吐出口
１７の長手方向に均一化されて、吐出口１７から
吐出される。
次に、図面を参照しながら、この発明の実施例
について説明する。
について説明する。
まず、第１図と第２図で示した実施例について
説明すると、ノズル１６は、上端の細長い吐出口
１７が先細りとなるよう形成され、中間部に一部
膨らんだ矩形の分散器収納部２３が形成されてい
る。この分散器収納部２３には、板状のフイルタ
２５とこれを支持するフレーム２４とからなる分
散器２０が収納されている。
説明すると、ノズル１６は、上端の細長い吐出口
１７が先細りとなるよう形成され、中間部に一部
膨らんだ矩形の分散器収納部２３が形成されてい
る。この分散器収納部２３には、板状のフイルタ
２５とこれを支持するフレーム２４とからなる分
散器２０が収納されている。
フイルタ２５は、例えばセラミツク等で作られ
た多孔質のもので、厚み方向に貫通する細かい通
孔が全体にわたつてほゞ均一に分布し、これが霧
の通路２１，２１……となつている。フレーム２
４の一端側は、ロツド２６を介して駆動部２２に
連結され、同フレーム２４の他端側には、圧縮ば
ね２７が装着されている。上記駆動部２２は、図
示されてないモータ等によつて駆動されるカム機
構からなり、上記圧縮ばね２７の弾力に抗して分
散器２０を第２図において左右に往復運動させ
る。
た多孔質のもので、厚み方向に貫通する細かい通
孔が全体にわたつてほゞ均一に分布し、これが霧
の通路２１，２１……となつている。フレーム２
４の一端側は、ロツド２６を介して駆動部２２に
連結され、同フレーム２４の他端側には、圧縮ば
ね２７が装着されている。上記駆動部２２は、図
示されてないモータ等によつて駆動されるカム機
構からなり、上記圧縮ばね２７の弾力に抗して分
散器２０を第２図において左右に往復運動させ
る。
上記ノズル１６には、薄膜の原料溶液を霧化す
る霧化器１４と、この霧をノズル１６へ送る送風
器１５が接続されている。
る霧化器１４と、この霧をノズル１６へ送る送風
器１５が接続されている。
なお、第２図において、３４，３４は、基板１
２を両側から支持するガイドレールで、基板１２
は、これに沿つて、紙面上奥から手前へと送られ
る。また、３５は、上記基板１２を背面側から加
熱するヒータである。ノズル１６、ガイドレール
３４，３４、ヒータ３５は、何れも図示されてな
い反応室の中に収納される。
２を両側から支持するガイドレールで、基板１２
は、これに沿つて、紙面上奥から手前へと送られ
る。また、３５は、上記基板１２を背面側から加
熱するヒータである。ノズル１６、ガイドレール
３４，３４、ヒータ３５は、何れも図示されてな
い反応室の中に収納される。
第３図と第４図でそれぞれ示した実施例は、比
較的目の粗い霧の通路２１，２１……を持つた分
散器２０を使用し、これとは別に、ノズル１６の
中に目の細かい固定形のフイルタ２８を配置した
実施例である。
較的目の粗い霧の通路２１，２１……を持つた分
散器２０を使用し、これとは別に、ノズル１６の
中に目の細かい固定形のフイルタ２８を配置した
実施例である。
例えば、第３図の実施例では、ノズル１６の中
間部にフイルタ２８を固定し、この上にシヤフト
３１にスクリユー状の羽根２９が設けられた分散
器２０が回転自在に支持されている。上記シヤフ
ト３１は、吐出口１７の長手方向に沿つて支持さ
れると共に、ノズル１６の外で図示しない正逆回
転機構を備えたモータ等の駆動部に連結されてい
る。羽根２９の間は、シヤフト３１の長手方向に
均一なピツチを有する霧の通路２１，２１……と
なつており、上記駆動部による正逆回転によつ
て、この通路２１，２１……が上記吐出口１７の
長手方向に相対的に往復運動する。
間部にフイルタ２８を固定し、この上にシヤフト
３１にスクリユー状の羽根２９が設けられた分散
器２０が回転自在に支持されている。上記シヤフ
ト３１は、吐出口１７の長手方向に沿つて支持さ
れると共に、ノズル１６の外で図示しない正逆回
転機構を備えたモータ等の駆動部に連結されてい
る。羽根２９の間は、シヤフト３１の長手方向に
均一なピツチを有する霧の通路２１，２１……と
なつており、上記駆動部による正逆回転によつ
て、この通路２１，２１……が上記吐出口１７の
長手方向に相対的に往復運動する。
また、第４図の実施例では、スクリユー状の分
散器２０の代わりに、ロツド２３の両側に一定の
間隔で多数の枝状の突起３３，３３……を突出さ
せた分散器２０が、吐出口１７の長手方向に移動
自在に取り付けられている。上記ロツド３２は、
第１図、第２図で示したものと同様なカム機構か
らなる駆動部２２に連結され、同駆動部２２によ
り、吐出口１７の長手方向に往復運動させられ
る。
散器２０の代わりに、ロツド２３の両側に一定の
間隔で多数の枝状の突起３３，３３……を突出さ
せた分散器２０が、吐出口１７の長手方向に移動
自在に取り付けられている。上記ロツド３２は、
第１図、第２図で示したものと同様なカム機構か
らなる駆動部２２に連結され、同駆動部２２によ
り、吐出口１７の長手方向に往復運動させられ
る。
分散器２０を往復させる周期やストロークは、
その形状や霧の通路２１，２１……の粗さ等によ
つて異なるが、一般に通路２１，２１……が細か
いときは、小さなストロークでゆつくりと往復さ
せ、粗いときは、この逆とするのがよい。
その形状や霧の通路２１，２１……の粗さ等によ
つて異なるが、一般に通路２１，２１……が細か
いときは、小さなストロークでゆつくりと往復さ
せ、粗いときは、この逆とするのがよい。
本件発明者らが、第１図と第２図で示すような
噴霧装置、及び第３図で示すような噴霧装置をそ
れぞれ使用し、実際に薄膜を形成したところ、基
板１２，１２……の送り方向に沿う干渉縞は見ら
れず、均一な厚みの薄膜が形成されたことが確認
された。なお、前者の場合、分散器２０を10mmの
ストロークで毎秒３往復させ、また後者の場合、
分散器２０を毎秒５回の回転数で、１秒毎に正逆
回転させた。
噴霧装置、及び第３図で示すような噴霧装置をそ
れぞれ使用し、実際に薄膜を形成したところ、基
板１２，１２……の送り方向に沿う干渉縞は見ら
れず、均一な厚みの薄膜が形成されたことが確認
された。なお、前者の場合、分散器２０を10mmの
ストロークで毎秒３往復させ、また後者の場合、
分散器２０を毎秒５回の回転数で、１秒毎に正逆
回転させた。
以上説明した通り、この発明の噴霧装置によれ
ば、吐出口１７の長手方向に均一な濃度で霧を吐
出させることができる。このため、一定の方向に
送られる基板１２，１２……に対し、吐出口１７
を基板１２，１２……の送りと直交、またはこれ
に近い角度で交差するよう配置することによつ
て、上記送りと直交する方向にも均一な厚みの薄
膜を形成することができるようになる。
ば、吐出口１７の長手方向に均一な濃度で霧を吐
出させることができる。このため、一定の方向に
送られる基板１２，１２……に対し、吐出口１７
を基板１２，１２……の送りと直交、またはこれ
に近い角度で交差するよう配置することによつ
て、上記送りと直交する方向にも均一な厚みの薄
膜を形成することができるようになる。
第１図は、この発明の実施例を示す噴霧装置の
一部切欠の斜視図、第２図は、同装置の縦断正面
図、第３図は、他の実施例を示す噴霧装置の縦断
正面図、第４図は、他の実施例を示す噴霧装置の
斜視図、第５図は、噴霧装置を用いた薄膜形成装
置の従来例を示す略示縦断側面図である。 １４……霧化器、１５……送風器、１６……ノ
ズル、１７……ノズルの吐出口、２０……分散
器、２１，２１……霧の通路、２２……駆動部。
一部切欠の斜視図、第２図は、同装置の縦断正面
図、第３図は、他の実施例を示す噴霧装置の縦断
正面図、第４図は、他の実施例を示す噴霧装置の
斜視図、第５図は、噴霧装置を用いた薄膜形成装
置の従来例を示す略示縦断側面図である。 １４……霧化器、１５……送風器、１６……ノ
ズル、１７……ノズルの吐出口、２０……分散
器、２１，２１……霧の通路、２２……駆動部。
Claims (1)
- １ 吐出口１７を上方へ向けて開口させたノズル
１６に、薄膜の原料溶液を霧化する霧化器１４
と、霧を上記ノズルへ送る送風器１５とを連結し
た薄膜形成用噴霧装置において、ノズル１６の吐
出口１７を一方向に細長く形成し、吐出口１７と
霧化器１４との間に、ほゞ均一に分布した複数の
霧の通路２１，２１……を有する分散器２０を配
置し、該分散器２０に上記通路２１，２１……を
ノズル１７の長手方向に往復移動させる駆動部２
２を連結してなることを特徴とする薄膜形成用噴
霧装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61161162A JPS6316068A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | 薄膜形成用噴霧装置 |
| US07/068,466 US4783006A (en) | 1986-07-09 | 1987-06-30 | Mist supplying device for forming thin film |
| DE8787109530T DE3775477D1 (de) | 1986-07-09 | 1987-07-02 | Vorrichtung zur erzeugung von nebel fuer die beschichtung einer flaeche mit einer duennen schicht. |
| EP87109530A EP0252440B1 (en) | 1986-07-09 | 1987-07-02 | Mist supplying device for forming thin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61161162A JPS6316068A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | 薄膜形成用噴霧装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6316068A JPS6316068A (ja) | 1988-01-23 |
| JPH0464752B2 true JPH0464752B2 (ja) | 1992-10-15 |
Family
ID=15729773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61161162A Granted JPS6316068A (ja) | 1986-07-09 | 1986-07-09 | 薄膜形成用噴霧装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4783006A (ja) |
| EP (1) | EP0252440B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6316068A (ja) |
| DE (1) | DE3775477D1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5316579A (en) * | 1988-12-27 | 1994-05-31 | Symetrix Corporation | Apparatus for forming a thin film with a mist forming means |
| JPH0390578A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-16 | Taiyo Yuden Co Ltd | 薄膜形成装置 |
| JPH0390579A (ja) * | 1989-08-31 | 1991-04-16 | Taiyo Yuden Co Ltd | 薄膜形成装置 |
| JPH07100864B2 (ja) * | 1990-01-13 | 1995-11-01 | 太陽誘電株式会社 | 霧化薄膜形成装置 |
| JP2860505B2 (ja) * | 1991-02-25 | 1999-02-24 | シメトリックス コーポレーション | 材料蒸着装置 |
| DE4406863A1 (de) * | 1994-03-02 | 1995-09-07 | Gruenzweig & Hartmann | Verfahren und Vorrichtung zum Einbringen einer Substanz in ein Fasermaterial, insbesondere in ein Mineralfasermaterial |
| JP4038557B2 (ja) * | 2002-04-16 | 2008-01-30 | リアライズ・アドバンストテクノロジ株式会社 | レジスト除去装置及びレジスト除去方法 |
| JP4774040B2 (ja) * | 2005-03-11 | 2011-09-14 | 明 伴野 | 霧発生装置、および、霧放出演出装置 |
| EP2935643B1 (en) * | 2012-12-21 | 2018-08-01 | Doosan Fuel Cell America, Inc. | Deposition cloud tower with adjustable field |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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