JPH0538020Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案はタイル等被施釉物表面に泥漿状の釉
薬をスプレー塗布する施釉装置に関する。

（従来の技術） タイル等被施釉物表面に泥漿状の釉薬をスプレ
ー塗布する施釉装置として、従来、第４図に示す
ようにスプレー本体１００の釉薬ノズル１０２か
ら釉薬を吐出するとともに、エアノズル１０４か
らエアを噴出させて釉薬を霧状化し、且つスプレ
ー本体１００を図中矢印Ａ方向に回転させて、ベ
ルト等所定の搬送手段により矢印Ｂ方向に搬送さ
れてくる被施釉部１０６に対して釉薬を連続的に
スプレー塗布する装置が知られている。

（考案が解決しようとする課題） しかしながらこの施釉装置は、スプレー部を定
位置で回転させつつ釉薬を噴霧するため、釉薬が
被施釉物表面に効率的に塗布されず、材料の無駄
が多いともにベルト等搬送手段の幅方向両端に位
置する被施釉物と中央に位置する被施釉物とに対
する釉薬の塗布量に微妙な差が生じる恐れがあつ
た。

（課題を解決するための手段） 本考案の施釉装置はこのような課題を解決する
ために案出されたものであり、その要旨は、泥漿
状の釉薬を霧状化して被施釉物表面にスプレー塗
布する施釉装置であつて、(イ)棒状のスプレー本体
を有し、該本体が基端部若しくはその近傍に配さ
れた垂直向きの枢軸回りに水平方向に回動させら
れるとともに、該本体先端部に下向きのノズルが
設けられ、該ノズルから釉薬を霧状に噴霧するス
プレー部と、(ロ)該枢軸から所定距離離れた部位に
おいて該スプレー本体に連結され、自身は直線状
に設定された軌道に沿つて往復動させられてその
往復運動に伴つて該スプレー本体を水平方向に往
復回動させる往復動部材と、 (ハ) 該往復動部材に設けられたカムフオロワと、
(ニ)円周表面に凸又は凹状のカムを有して該カムに
前記カムフオロワを嵌合させ、自身の回転に伴つ
て前記往復動部材を往復動させる円筒カムと、(ホ)
該円筒カムを回転駆動する駆動手段と、を含むこ
とにある。

（作用及び考案の効果） 本考案の装置においては、スプレー本体が基端
部又はその近傍を中心として水平方向に往復回動
（揺動）してその先端部の下向きのノズルから釉
薬を噴霧するため、即ちノズルが実質上水平面内
で広い範囲に亘つて移動しつつ、所定の搬送手段
にて搬送されて来る被施釉物の夫々に対して等距
離を保ちつつ釉薬を噴霧するため、かかる釉薬を
万遍なく被施釉物の夫々の表面に塗布することが
できる。これにより釉薬のロスが少なく抑えられ
ると同時に、被施釉物の夫々に対する釉薬の塗布
量が均一化される。

（実施例） 次に本考案の実施例を図面に基づいて詳しく説
明する。

第１図〜第３図において、１０は施釉装置の架
台であつて、その上にスプレー本体１２が配置さ
れている。スプレー本体１２は棒状の部材により
構成されており、その内部に釉薬通路とエア通路
とがスプレー本体１２の長手方向に沿つて形成さ
れている。而してこのスプレー本体１２の基端に
はホース１４，１６が接続され、これらホース１
４，１６を通じてスプレー本体１２内部の釉薬通
路及びエア通路内に泥漿状の釉薬及びエアが導入
されるようになつている。釉薬通路内に導入され
た釉薬は、スプレー本体１２先端の吐出口より吐
出され、そしてその吐出された釉薬はエアの噴出
流によつて霧状化され、スプレー本体先端部の下
向きのノズル１８の先端から噴霧される。

このスプレー本体１２は、基端近傍部位におい
て垂直向きの軸２０により回転可能に支持されて
おり、またかかる軸２０より所定距離隔たつた部
位に角棒状の往復動部材２２の一端部が固定部材
２４により固定されている。更にこの往復動部材
２２には、一対のガイドブロツク２８が固定部材
２６により固定されており、そしてこれらガイド
ブロツク２８は架台１０上に固設されたガイドレ
ール３０に嵌合されて、往復動部材２２の移動案
内をなすようになつている。

架台１０上には、また、往復動部材２２に隣接
した円筒カム３２が配置されている。円筒カム３
２は、その回転軸３６を軸受３４により回転可能
に支持されており、またその回転軸３６の一端に
はスプロケツト３８が固設されていて、そこにチ
エーン４０が巻き掛けられ、かかるチエーン４０
を介して図示を省略するモータに連結されてい
る。

円筒カム３２の円周表面には、第２図に示すよ
うに無端環形状のカム溝４１が形成されており、
そこにカムフオロワとしてのローラ４２が嵌入さ
れている。而してこのローラ４２は、固定部材４
４を介して前記往復動部材２２の一端に固定され
ており、かかるローラ４２の運動が往復動部材２
２に伝達されるようになつている。

かかる本例の装置においては、円筒カム３２が
図示しないモータにより回転させられると、ロー
ラ４２を介して円筒カム３２の表面のカム溝４１
に連結された往復動部材２２が、ガイドブロツク
２８とガイドレール３０との案内の下に直線状の
軌道を往復動させられる。するとスプレー本体１
２が、軸２０を中心として所定角度範囲内で水平
な面内を往復回動（揺動）させられる。このとき
下向きのノズル１８は各被施釉物に対して下向き
姿勢を保ちつつ且つ各被施釉物に対して等距離を
保ちつつ広範囲に亘つて移動させられ、霧状化し
た釉薬を被施釉物表面に対してスプレー塗布す
る。

このように本例の装置においては、ノズル１８
が被施釉物表面に対面したまま、即ち下を向いた
まま広範囲に移動して釉薬をスプレー塗布するた
め、前記従来の装置のようにノズルから噴霧され
た釉薬が横向きに飛散せず、効率的に被施釉物表
面に噴き付けられる。

以上本考案の実施例を詳述したが、本考案はそ
の他の形態で構成することも可能である。

例えば上例ではスプレー本体が一本の棒状態て
構成され、その内部に釉薬通路とエア通路とが形
成されているが、棒状体を単なる支持棒としてそ
の外周表面上に釉薬通路及びエア通路用の配管を
施してスプレー本体を構成したり、或いはその他
の形態でスプレー本体を構成することも可能であ
る。

また上例では円筒カムの表面上にカム溝が形成
され、往復動部材側のカムフオロワがこのカム溝
内に嵌入されているが、円筒カムの表面に突条形
態のカムを形成する一方、カムフオロワに溝を形
成して両者を嵌合させることも可能である。

その他、往復動部材は上例以外に種々の形態を
採り得るなど、本考案はその主旨を逸脱しない範
囲において、様々な変形を加えた形態で構成する
ことが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例である施釉装置の斜
視図であり、第２図及び第３図は夫々同装置の平
面図及び正面図である。第４図は従来の施釉装置
の一例を説明するための説明図である。 １０……架台、１２……スプレー本体、１８…
…ノズル、２０……軸、２２……往復動部材、２
４，２６，４４……固定部材、２８……ガイドブ
ロツク、３０……ガイドレール、３２……円筒カ
ム、３４……軸受、４０……チエーン、４２……
ローラ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 泥漿状の釉薬を霧状化して被施釉物表面にスプ
   レー塗布する施釉装置であつて、 (イ) 棒状のスプレー本体を有し、該本体が基端部
   若しくはその近傍に配された垂直向きの枢軸回
   りに水平方向に回動させられるとともに、該本
   体先端部に下向きのノズルが設けられ、該ノズ
   ルから釉薬を霧状に噴霧するスプレー部と、 (ロ) 該枢軸から所定距離離れた部位において該ス
   プレー本体に連結され、自身は直線状に設定さ
   れた軌道に沿つて往復動させられてその往復運
   動に伴つて該スプレー本体を水平方向に往復回
   動させる往復動部材と、 (ハ) 該往復動部材に設けられたカムフオロワと、 (ニ) 円周表面に凸又は凹状のカムを有して該カム
   に前記カムフオロワを嵌合させ、自身の回転に
   伴つて前記往復動部材を往復動させる円筒カム
   と、 (ホ) 該円筒カムを回転駆動する駆動手段と、 を含むことを特徴とする施釉装置。