JPH0465464B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0465464B2
JPH0465464B2 JP27914384A JP27914384A JPH0465464B2 JP H0465464 B2 JPH0465464 B2 JP H0465464B2 JP 27914384 A JP27914384 A JP 27914384A JP 27914384 A JP27914384 A JP 27914384A JP H0465464 B2 JPH0465464 B2 JP H0465464B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
drum
tape guide
coating
wear
stepped portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP27914384A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61158060A (en
Inventor
Yasuhiro Hirafune
Hiroshi Myoshi
Hisayoshi Chino
Yoshuki Shirai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP27914384A priority Critical patent/JPS61158060A/en
Publication of JPS61158060A publication Critical patent/JPS61158060A/en
Publication of JPH0465464B2 publication Critical patent/JPH0465464B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、その外周面に形成されたテープ案内
領域に沿つて螺旋状に延びかつテープの側端部を
案内するための段部を有する記録再生装置用回転
ヘツドドラム機構のテープ案内ドラムの前記螺旋
状段部に被膜を形成する方法に関するものであ
る。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention has a stepped portion formed on the outer circumferential surface thereof that extends spirally along a tape guiding area and guides the side edge of the tape. The present invention relates to a method of forming a coating on the spiral stepped portion of a tape guide drum of a rotary head drum mechanism for a recording/reproducing apparatus.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ビデオテープレコーダ等の記録再生装置におけ
る回転ヘツドドラム機構は従来から一般的に第4
図に示すように構成されている。即ち、回転ヘツ
ドドラム機構1は、記録再生装置のシヤーシに固
定された下側テープ案内ドラム2と、その上部に
同心状にかつ回転自在に配置された上側テープ案
内ドラム3とを具備し、上側ドラム3の下端には
その外周に臨むようにして複数個の回転磁気ヘツ
ド4が取付けられている。そしてこれら両ドラム
2,3は通常アルミニウムまたはアルミニウム合
金にて成形されている。また下側ドラム2の外周
面2aには、そのテープ案内領域の下部に沿つて
螺施状に延びる通常テープリードと称される上向
きの段部5が切削加工により形成されている。従
つて上側ドラム3の外周面3aと下側ドラム2の
内周面2aとに跨がつて螺旋状に巻付けられる磁
気テープ6はその下側端部6aを上記上向き段部
5に案内され、磁気テープ6の走行時に上記下側
端部6aが上記上向き段部5に対して摺接するよ
うになつている。
Conventionally, the rotary head drum mechanism in recording and reproducing devices such as video tape recorders has generally been
It is configured as shown in the figure. That is, the rotary head drum mechanism 1 includes a lower tape guide drum 2 fixed to the chassis of the recording/reproducing apparatus, and an upper tape guide drum 3 concentrically and rotatably arranged above the lower tape guide drum 2. A plurality of rotating magnetic heads 4 are attached to the lower end of 3 so as to face the outer periphery thereof. Both drums 2 and 3 are usually made of aluminum or aluminum alloy. Further, on the outer circumferential surface 2a of the lower drum 2, an upward step 5, usually called a tape lead, is formed by cutting, and extends in a spiral manner along the lower part of the tape guide area. Therefore, the magnetic tape 6 wound spirally across the outer circumferential surface 3a of the upper drum 3 and the inner circumferential surface 2a of the lower drum 2 has its lower end 6a guided by the upward step 5, When the magnetic tape 6 runs, the lower end 6a comes into sliding contact with the upward step 5.

このように、上向き段部5を切削加工にて下側
ドラム2の外周面2aに一体に形成する構造は、
加工時に精度が出る利点がある反面、下側ドラム
2の素材がアルミニウムまたはアルミニウム合金
である為に耐摩耗性に欠け、走行中の磁気テープ
6の下側端部6aによつてその上向き段部5が早
期に摩耗してしまう欠陥があつた。なお下側ドラ
ム2を耐摩耗性の優れた硬い材料で一体に形成す
ることも孝えられるが、下側ドラム2を研磨仕上
げして充分に高い精度にする必要があるので、極
めてコスト高となつて実用的でない。
In this way, the structure in which the upward step portion 5 is integrally formed on the outer circumferential surface 2a of the lower drum 2 by cutting is as follows.
Although it has the advantage of increasing precision during machining, since the material of the lower drum 2 is aluminum or aluminum alloy, it lacks wear resistance, and the lower end 6a of the magnetic tape 6 while it is running causes the upward step. 5 had a defect that caused it to wear out prematurely. It is also possible to form the lower drum 2 integrally from a hard material with excellent wear resistance, but this would require extremely high cost because the lower drum 2 would need to be polished to a sufficiently high precision. It's becoming impractical.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

そこで、本発明者等は蒸着等のPVDプロセス
(Physical Vapour Deposition Process)によつ
て酸化アルミニウム等の耐摩耗性金属酸化物から
成る極めて薄くしかも剥がれにくい硬質の被膜を
下側テープ案内ドラム2の上向きの螺施状段部5
に形成することに想到した。この場合、形成され
る被膜が極めて薄いために下側ドラム2の寸法精
度が許容誤差範囲に収まるので、被膜形成後に下
側ドラム2を再度にわたつて切削加工する必要が
特になく、このためコストの低減化を計ることが
できる。
Therefore, the present inventors used a PVD process (Physical Vapor Deposition Process) such as vapor deposition to apply an extremely thin and hard-to-peel hard coating made of a wear-resistant metal oxide such as aluminum oxide to the lower tape guide drum 2 in an upward direction. Threaded stepped portion 5
I came up with the idea of forming it. In this case, since the formed film is extremely thin, the dimensional accuracy of the lower drum 2 falls within the tolerance range, so there is no need to cut the lower drum 2 again after the film is formed, which reduces costs. It is possible to measure the reduction of

しかしながら、上述の蒸着等のPVDプロセス
では通常PVD装置内を10-5Torr程度に初期設
定する必要があるので、一回のプロセスあたりの
所要時間が数時間にも及ぶ。従つて、上記PVD
プロセスにおいて一回のプロセスで多数の下側テ
ープ案内ドラム2を同時に処理すれば効率が良
い。しかしながら、第4図に示すように下側テー
プ案内ドラム2の段部5の巾は下側テープ案内ド
ラム2全体の寸法に比べて極めて小さい。また、
第1図にも示されているようにPVDプロセスに
おいては蒸発源等の被着物質源からの被着物質は
放射状に近い状態で拡散される。このため、被着
物質源に対する下側テープ案内ドラム2の姿勢、
即ち相対的位置関係によつては、段部5が下側テ
ープ案内ドラム2の他の部分によつて被着物質源
14から隠されてしまうことになるで、この段部
5に耐摩耗性酸化物の被膜が十分には形成されな
くなる。また、下側ドラム2の外周2aよりも早
期摩耗の激しい段部5には、外周面2aに形成さ
れる被膜の膜厚よりも数倍の厚さの膜厚の被膜を
形成する必要がある。
However, in the PVD process such as the above-mentioned vapor deposition, it is usually necessary to initialize the inside of the PVD apparatus to about 10 -5 Torr, so the time required for one process can extend to several hours. Therefore, the above PVD
It is efficient to process a large number of lower tape guide drums 2 at the same time in one process. However, as shown in FIG. 4, the width of the stepped portion 5 of the lower tape guide drum 2 is extremely small compared to the overall size of the lower tape guide drum 2. Also,
As shown in FIG. 1, in the PVD process, a deposited material from a deposited material source such as an evaporation source is diffused in a nearly radial manner. For this reason, the attitude of the lower tape guide drum 2 with respect to the source of adherend material,
That is, depending on the relative positional relationship, the step 5 may be hidden from the adherend material source 14 by other parts of the lower tape guide drum 2, and this step 5 may have abrasion resistance. The oxide film will not be sufficiently formed. Furthermore, it is necessary to form a film several times thicker than the film thickness of the film formed on the outer peripheral surface 2a on the stepped portion 5, which wears more rapidly than the outer peripheral surface 2a of the lower drum 2. .

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

前記の問題点を解決するために、本発明は、そ
の外周面に形成されたテープ案内領域に沿つて螺
旋状に延びかつテープの側端部を案内するための
段部を有する記録再生装置用回転ヘツドドラム機
構のテープ案内ドラムの前記螺旋状段部に被膜を
形成する方法において、PVD装置内に被着物質
源及び複数のテープ案内ドラムをそれぞれ配置し
て、酸化アルミニウム、チタニア、酸化ジルコニ
ウムなどの耐摩耗性金属酸化物から成る被膜を蒸
着、イオンプレーテイング、スパツタリングなど
のPVDプロセスにより前記段部に被着形成する
ようになし、こ際、前記被着物質源を所定の仮想
中心線上に配置し、また前記段部が前記被着物質
源にほぼ対向するように前記複数のテープ案内ド
ラムを前記被着物質源から前記仮想中心線の延び
る方向に互いにほぼ等距離離すと共に前記仮想中
心線から互いにほぼ等距離離して配置し、更にま
た前記複数のテープ案内ドラムをそれぞれ自転さ
せるようにしたことを特徴とする方法に係るもの
である。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a recording/reproducing device for use in a recording/reproducing device that has a stepped portion that extends spirally along a tape guiding area formed on the outer circumferential surface of the device and guides the side edges of the tape. In a method for forming a coating on the spiral stepped portion of a tape guide drum of a rotating head drum mechanism, a source of a deposition material and a plurality of tape guide drums are respectively disposed in a PVD apparatus, and a coating material such as aluminum oxide, titania, zirconium oxide, etc. is disposed in a PVD apparatus. A coating made of a wear-resistant metal oxide is deposited on the stepped portion by a PVD process such as vapor deposition, ion plating, or sputtering, and at this time, the deposition material source is placed on a predetermined virtual center line. and further, the plurality of tape guide drums are spaced approximately equidistant from each other in the direction in which the imaginary center line extends from the adherend material source so that the step portions substantially face the adherend material source, and from the imaginary center line. The method is characterized in that the plurality of tape guide drums are arranged at substantially equal distances from each other, and each of the plurality of tape guide drums is rotated on its own axis.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を第1図〜第3図に基
づき説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 3.

第1図及び第2図は蒸着装置10を示すもので
あつて、この蒸着装置10によつて、第4図に示
すものと実質的に同一の構成である回転ヘツドド
ラムの下側テープ案内ドラム2に形成されている
例えば0.2mm程度の巾の螺施状段部5に、酸化ア
ルミニウムから成る例えば厚さ1〜5μ程度の被
膜7が以下に詳述するようにして形成される。
1 and 2 show a vapor deposition apparatus 10, which includes a rotary head drum, a lower tape guide drum 2, which has substantially the same structure as that shown in FIG. A coating 7 made of aluminum oxide and having a thickness of, for example, 1 to 5 μm is formed on the threaded stepped portion 5 having a width of, for example, about 0.2 mm, as described in detail below.

先づ蒸着装置の構成を第1図及び第2図に基づ
いて説明すると、ステンレス製などの基台13と
同様にステンレス製などのベルジヤ型外筐26と
によつて真空室27が形成されている。そして真
空室27のほぼ中央を通つて垂直に延びる仮想中
心線L0上において基台13付近には酸化アルミ
ニウムから成る蒸着源14が配置されている。こ
の蒸着源14は基台13附近に配設されたルツボ
20内に充填され、このルツボ20に隣接して電
子銃15が設置されている。
First, the configuration of the vapor deposition apparatus will be explained based on FIGS. 1 and 2. A vacuum chamber 27 is formed by a base 13 made of stainless steel or the like and a bell gear type outer casing 26 made of stainless steel or the like. There is. A vapor deposition source 14 made of aluminum oxide is placed near the base 13 on a virtual center line L 0 extending vertically through approximately the center of the vacuum chamber 27 . This vapor deposition source 14 is filled in a crucible 20 disposed near the base 13, and an electron gun 15 is disposed adjacent to the crucible 20.

真空室27には、中央開口11aを有する支持
円板11が配設され、この支持円板11は複数本
の支柱12によつて基台13に固定されている。
基台13及び支持円板11には、既述の仮想中心
線L0に対してほぼ平行に延びる従動軸22が軸
受31及び32を介して回転自在に支持され、こ
の従動軸22の下端に取付けられた傘歯車23に
は、モータなどによつて駆動される駆動軸25に
取付けられた傘歯車24が噛み合つている。
A support disk 11 having a central opening 11 a is provided in the vacuum chamber 27 , and the support disk 11 is fixed to the base 13 by a plurality of columns 12 .
A driven shaft 22 extending substantially parallel to the above-described virtual center line L 0 is rotatably supported on the base 13 and the support disk 11 via bearings 31 and 32. The attached bevel gear 23 meshes with a bevel gear 24 attached to a drive shaft 25 driven by a motor or the like.

従動軸22の上端付近にはスプロケツト19が
取付けられ、このスプロケツト19に掛けられて
いるエンドレスチエーン21は6つのスプロケツ
ト17にもそれぞれ掛けられている。そしてこれ
らのスプロケツト17は、その中間部分を支持円
板11に軸受16を介してそれぞれ回転自在に支
持されている回転軸18の下端に取付けられ、ま
た既述の仮想中心線L0からほぼ等距離の位置に
互いに等角度を成すように配置されている。
A sprocket 19 is attached near the upper end of the driven shaft 22, and the endless chain 21 that is attached to this sprocket 19 is also attached to each of the six sprockets 17. The middle portions of these sprockets 17 are attached to the lower ends of rotary shafts 18 which are each rotatably supported by the support disk 11 via bearings 16, and are approximately equally spaced from the virtual center line L0 described above. They are arranged at equal angles to each other at distances.

回転軸18の上端には、その下端に支持用つば
部35aを有する円筒状のドラム支持体35が嵌
合されている。そしてごドラム支持体35に下側
テープ案内ドラム2を上下を逆向きにして嵌合さ
せてから、固定用ボルト36によつて、下側ドラ
ム2をドラム支持体35に押し付ける押え板37
をドラム支持体35に取付けるようにしている。
次に以上の構成による蒸着装置10を用いて下側
テープ案内ドラム2に酸化アルミニウムから成る
被膜7を形成する方法について述べると、まず6
つのドラム支持体35にそれぞれアルミニウム又
はアルミニウム合金から成る下側ドラム2を上下
を逆向きにして嵌合させ、次いで固定用ボルト3
6によつて押え板37をドラム支持体35にそれ
ぞれ取付けて、下側ドラム2を押え板37によつ
てドラム支持体35に押し付けることにより固定
する。この場合、6つの下側ドラム2は蒸着源1
4から既述の仮想中心線L0の延びる垂直方向に
充分離れており、またこの中心線L0に対して等
距離の位置にほぼ対称的に配置され、しかも互い
に等角度を成している。従つて蒸着源14を頂点
とし、仮想中心線L0を回転軸とし、6つの下側
ドラム2を結ぶ円形を底面とする回転体を想定す
ると、この回転体はほぼ逆円錐形となる。またこ
の状態においては、下側ドラム2に螺旋状段部5
の一部が支持円板11の中央開口11aを介して
蒸発源14とほぼ対向している。
A cylindrical drum support 35 having a supporting collar 35a at its lower end is fitted onto the upper end of the rotating shaft 18. Then, after fitting the lower tape guide drum 2 to the drum support 35 with the upper and lower sides turned upside down, the holding plate 37 presses the lower drum 2 against the drum support 35 using the fixing bolts 36.
is attached to the drum support 35.
Next, a method for forming the coating 7 made of aluminum oxide on the lower tape guide drum 2 using the vapor deposition apparatus 10 having the above configuration will be described.
The lower drums 2 made of aluminum or aluminum alloy are fitted into the two drum supports 35 with the upper and lower sides upside down, and then the fixing bolts 3
The presser plates 37 are attached to the drum supports 35 by the pressers 6, and the lower drum 2 is fixed by pressing the presser plates 37 against the drum supports 35. In this case, the six lower drums 2 are the deposition sources 1
4 in the vertical direction extending from the virtual center line L 0 mentioned above, and are arranged almost symmetrically at equidistant positions with respect to this center line L 0 , and at equal angles to each other. . Therefore, assuming a rotating body with the vapor deposition source 14 as the apex, the virtual center line L 0 as the rotation axis, and the bottom surface as a circle connecting the six lower drums 2, this rotating body will have a substantially inverted conical shape. In addition, in this state, the spiral stepped portion 5 is attached to the lower drum 2.
A part of the support disk 11 substantially faces the evaporation source 14 through the central opening 11a of the support disk 11.

次に図外の真空装置によつて真空室27を
10-5Torr程度の真空にする。またこの前後に、
テープ案内ドラム2を自転させるために駆動軸2
5を回転させる。なお駆動軸25の回転は傘歯車
24及び23、従動軸22、スプロケツト19、
エンドレスチエーン21、スプロケツト17、回
転軸18及びドラム支持体35を順次介して下側
ドラム2に伝達されるので、下側ドラム2は例え
ば10r.P.m.程度の定速度で自転する。従つて中央
開口11aを介して蒸発源14と対向する下側ド
ラム2の段部5の部分は順次入れ変わることにな
るので、下側ドラム2の一回転中には、そのほぼ
全周に亘つて螺旋状に形成されている段部5の全
部が蒸発源14と対向することになる。
Next, the vacuum chamber 27 is opened using a vacuum device not shown.
Create a vacuum of about 10 -5 Torr. Also, before and after this,
A drive shaft 2 is used to rotate the tape guide drum 2.
Rotate 5. Note that the rotation of the drive shaft 25 is caused by the bevel gears 24 and 23, the driven shaft 22, the sprocket 19,
The power is transmitted to the lower drum 2 via the endless chain 21, the sprocket 17, the rotating shaft 18, and the drum support 35 in order, so the lower drum 2 rotates at a constant speed of, for example, about 10 r.Pm. Therefore, the portion of the stepped portion 5 of the lower drum 2 that faces the evaporation source 14 through the central opening 11a is sequentially replaced, so that during one rotation of the lower drum 2, the portion of the stepped portion 5 facing the evaporation source 14 through the central opening 11a is changed over almost the entire circumference of the lower drum 2. The entire spirally formed step portion 5 faces the evaporation source 14.

次いで電子銃15によつて電子ビーム28を発
射させると共に電子ビーム28に図外の装置によ
つて磁界をかけて電子ビーム28の進行方向を
180度偏向させる。従つて電子ビーム28は蒸発
源14にほぼ真上から入射して蒸発源14を極め
て高温に加熱するので、この加熱された蒸発源1
4から耐摩耗性酸化物が蒸発する。蒸発した耐摩
耗性酸化物は円板11の開口11aを通り抜けて
下側ドラム2に付着して耐摩耗性酸化物の被膜7
を形成する。なお第1図に示すように、下側ドラ
ム2の螺旋状段部5は蒸発源14に対してほぼ対
向しているが、下側ドラム2の外周面2aは蒸着
源14に向かう方向に対してほぼ平行になるの
で、第3図に示すように下側ドラム2の外周面2
aには被膜7はほとんど形成されず、螺旋状段部
5及びこれとほぼ同方向を向いている上端面38
等に主として被膜7が形成される。また、蒸発源
14から等距離でかつ蒸発源14に対して同一方
向に向いている2つの面に形成される被膜7の膜
厚を比べると、その大きさは、第1図に示すよう
に、仮想中心線L0に対してなす蒸発角θにほぼ
反比例することが実験で確かめられた。
Next, the electron beam 28 is emitted by the electron gun 15, and a magnetic field is applied to the electron beam 28 by a device not shown in the figure to change the traveling direction of the electron beam 28.
Deflect 180 degrees. Therefore, the electron beam 28 enters the evaporation source 14 from almost directly above and heats the evaporation source 14 to an extremely high temperature.
A wear-resistant oxide evaporates from 4. The evaporated wear-resistant oxide passes through the opening 11a of the disk 11 and adheres to the lower drum 2, forming a wear-resistant oxide coating 7.
form. As shown in FIG. 1, the spiral stepped portion 5 of the lower drum 2 is almost opposed to the evaporation source 14, but the outer peripheral surface 2a of the lower drum 2 is oriented toward the evaporation source 14. As shown in FIG. 3, the outer peripheral surface 2 of the lower drum 2
The coating 7 is hardly formed on the part a, and the spiral step part 5 and the upper end surface 38 facing in almost the same direction as the spiral step part 5 are formed on the part a.
A coating 7 is mainly formed on the surface of the substrate and the like. Furthermore, when comparing the thickness of the coating 7 formed on two surfaces equidistant from the evaporation source 14 and facing in the same direction with respect to the evaporation source 14, the size is as shown in FIG. It has been experimentally confirmed that , is approximately inversely proportional to the evaporation angle θ formed with respect to the virtual center line L 0 .

従つて第1図及び第2図に示すように6つの下
側ドラム2を仮想中心線L0に対して対称的に配
置しかつこれらのドラム2を自転させることによ
つて、それぞれのドラムの螺旋状段部5の全体に
わたつて耐摩耗性酸化物から成る被膜7をほぼ均
一に形成することができる。
Therefore, as shown in FIGS. 1 and 2, by arranging the six lower drums 2 symmetrically with respect to the virtual center line L0 and rotating these drums 2, the The coating 7 made of the wear-resistant oxide can be formed almost uniformly over the entire spiral step 5.

なお以上のように構成されている蒸着装置10
において、下側ドラム2の段部5に対する蒸発角
θを小さくすると、下側ドラム2の段部5に形成
される被膜7の膜厚は外周面2aに形成される被
膜7の膜厚よりも充分大きくなる。しかしなが
ら、蒸発角θを小さくするためには、下側ドラム
2を互いに接近させなければならず、そのために
は一括してPVDプロセスを施す下側ドラム2の
数量を減らさなければならない。一方、一括して
PVDプロセスを施す下側ドラム2の数量を増や
すために下側ドラム2の段部5に対する蒸発角θ
を大きくすると、下側ドラム2の段部5に形成さ
れる被膜7の膜厚を外周面2aに形成される被膜
7の膜厚よりも充分大きくすることができなくな
る。このことは、下側ドラム2の最も早期摩耗の
激しい部分である螺旋状段部5に被着形成される
耐摩耗性金属酸化物から成る被膜7の膜厚を、早
期摩耗の激しくない部分である外周面2aのそれ
よりも充分大きくすることができないことを意味
している。従つて下側ドラム2の段部5に形成さ
れる被膜7の膜厚が外周面2aのそれよりも大き
く、しかも或る程度の数量の下側ドラム2に対し
て一括してPVDプロセスを施すことができる蒸
発角θを設定すること重要である。そこで、本実
施例では、6個の下側ドラム2に対して一括して
PVDプロセスを施すようにすると共に、螺旋状
段部5に形成される被膜の膜厚が外周面2aに形
成される被膜7の膜厚の5〜6倍になるように、
下側ドラム2の段部5に対する蒸発角θを10〜15
度の範囲内に設定している。
Note that the vapor deposition apparatus 10 configured as described above
When the evaporation angle θ with respect to the stepped portion 5 of the lower drum 2 is made smaller, the thickness of the coating 7 formed on the stepped portion 5 of the lower drum 2 becomes greater than the thickness of the coating 7 formed on the outer peripheral surface 2a. be large enough. However, in order to reduce the evaporation angle θ, the lower drums 2 must be brought closer to each other, and for this purpose the number of lower drums 2 that are subjected to the PVD process at once must be reduced. On the other hand, in bulk
In order to increase the number of lower drums 2 subjected to the PVD process, the evaporation angle θ of the lower drum 2 with respect to the stepped portion 5 is
If , the thickness of the coating 7 formed on the stepped portion 5 of the lower drum 2 cannot be made sufficiently larger than the thickness of the coating 7 formed on the outer peripheral surface 2a. This means that the thickness of the coating 7 made of wear-resistant metal oxide, which is formed on the helical step 5 which is the part of the lower drum 2 that is most likely to wear prematurely, can be adjusted to the thickness of the coating 7 that is formed on the helical step 5, which is the part of the lower drum 2 that is most prone to early wear. This means that it cannot be made sufficiently larger than that of a certain outer peripheral surface 2a. Therefore, the thickness of the coating 7 formed on the stepped portion 5 of the lower drum 2 is larger than that on the outer circumferential surface 2a, and the PVD process is applied to a certain number of lower drums 2 at once. It is important to set the evaporation angle θ that is possible. Therefore, in this embodiment, the six lower drums 2 are
The PVD process is applied, and the thickness of the coating formed on the spiral step portion 5 is 5 to 6 times the thickness of the coating 7 formed on the outer peripheral surface 2a.
The evaporation angle θ of the lower drum 2 with respect to the stepped portion 5 is set to 10 to 15.
It is set within the range of degrees.

以上、本発明の実施例について説明したが、本
発明の技術的思想から逸脱しない限り、上記実施
例において種々の変更や修正が可能である。例え
ば、下側ドラム2を回転させるための回転軸18
は特に垂直に配置される必要はなく、必要に応じ
て或る程度傾斜していてもよい。また、既述の実
施例では、PVDプロセスを施すのに蒸着装置1
0を用いているが、スパツタリング、イオンプレ
ーテイング等を施す装置を用いてもよい。また、
既述の実施例では、下側ドラム2と蒸発源14と
の間に支持円板11を介在させているが、この支
持円板11を下側ドラム2の上方に配置して下側
ドラム2が支持円板11から懸垂されるように構
成してもよい。また、既述の実施例では、下側ド
ラム2の運動は自転のみであるが、公転が加わつ
てもよく、この場合には、支持円板11が回転駆
動されるように構成すると共に下側ドラム2を自
転させるための駆動機構も支持円板11と共に回
転駆動されるようにすればよい。
Although the embodiments of the present invention have been described above, various changes and modifications can be made to the embodiments described above without departing from the technical idea of the present invention. For example, a rotating shaft 18 for rotating the lower drum 2
does not need to be arranged vertically, and may be inclined to some extent if necessary. In addition, in the embodiments described above, the evaporation device 1 is used to perform the PVD process.
Although 0 is used, a device that performs sputtering, ion plating, etc. may also be used. Also,
In the embodiment described above, the support disk 11 is interposed between the lower drum 2 and the evaporation source 14, but this support disk 11 is arranged above the lower drum 2, and the lower drum 2 may be configured to be suspended from the support disk 11. Further, in the embodiment described above, the movement of the lower drum 2 is only rotation, but revolution may also be added. In this case, the support disk 11 is configured to be rotationally driven, and the lower drum 2 The drive mechanism for rotating the drum 2 may also be driven to rotate together with the support disk 11.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上に述べたように、本発明によれば、テープ
案内ドラムにおけるテープ側端部案内用の螺旋状
段部に耐摩耗性酸化物から成る被膜を形成するよ
うにしたので、螺旋状段部の耐摩耗性が向上し、
その耐久性を飛躍的に向上させたテープ案内ドラ
イブギヤを得ることができる。
As described above, according to the present invention, a coating made of a wear-resistant oxide is formed on the spiral step portion for guiding the tape side end of the tape guide drum. Improved wear resistance,
A tape guide drive gear with dramatically improved durability can be obtained.

また、耐摩耗性酸化物から成る被膜をPVDプ
ロセスによつてテープ案内ドラムの螺旋状段部に
形成するようにしたので、均一でかつ極めて薄く
しかも剥れにくい被膜を形成することができ、従
つてテープ案内ドラムに被膜を形成した後に特に
寸法精度の調整をしなくても、テープ案内ドラム
の寸法精度を許容誤差範囲内に収めることがで
き、従つて、仕上げの切削加工を特に行う必要が
ない。
In addition, since the coating made of wear-resistant oxide is formed on the spiral step part of the tape guide drum by the PVD process, it is possible to form a uniform, extremely thin coating that is difficult to peel off. The dimensional accuracy of the tape guide drum can be kept within the tolerance range without any special adjustment of dimensional accuracy after forming a coating on the tape guide drum. do not have.

また、複数のテープ案内ドラムをその段部が被
着物質源にほぼ対向するように配置したので、前
記段部に形成される被膜の膜厚をテープ案内ドラ
ムの外周面のそれよりも大きくすることができ
る。
In addition, since the plurality of tape guide drums are arranged so that the stepped portions are substantially opposed to the adherend material source, the thickness of the coating formed on the stepped portions is made larger than that on the outer circumferential surface of the tape guide drums. be able to.

また前記複数のテープ案内ドラムを前記被着物
質源から前記仮想中心線の延びる方向に互いにほ
ぼ等距離離すと共にかつ前記仮想中心線から互い
にほぼ等距離離して配置し、更にまた前記複数の
テープ案内ドラムをそれぞれ自転させるようにし
たので、PVDプロセスを施すための装置の限ら
れた内部空間内で、複数のテープ案内ドラムのそ
れぞれの螺旋状段部に耐摩耗性金属酸化物の被膜
を万遍なく一様にしかも能率的に形成することが
できる。
The plurality of tape guide drums are spaced approximately equidistant from each other in a direction extending from the imaginary centerline from the source of adherend material, and disposed approximately equidistantly from each other from the imaginary centerline; Since each drum is made to rotate, a coating of wear-resistant metal oxide can be applied evenly to the helical steps of each of the multiple tape guide drums within the limited internal space of the equipment for performing the PVD process. It can be formed uniformly and efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第3図は本発明の一実施例を示すもの
であつて、第1図は蒸着装置の縦断面図、第2図
は第1図の−線断面図、第3図は下側テープ
案内ドラムの一部分の縦断面図、第4図は本発明
を適用し得る従来の一般的な回転ヘツドドラム機
構の斜視図である。 なお、図面に用いられた符号において、1……
回転ヘツドドラム機構、2……下側テープ案内ド
ラム、5……螺旋状段部、10……蒸着装置、1
1……支持円板、14……蒸発源、である。
Figures 1 to 3 show one embodiment of the present invention, in which Figure 1 is a vertical cross-sectional view of a vapor deposition apparatus, Figure 2 is a cross-sectional view taken along the line - - of Figure 1, and Figure 3 is a bottom view. FIG. 4, which is a vertical sectional view of a portion of the side tape guide drum, is a perspective view of a conventional general rotary head drum mechanism to which the present invention can be applied. In addition, in the symbols used in the drawings, 1...
Rotating head drum mechanism, 2... Lower tape guide drum, 5... Spiral step, 10... Vapor deposition device, 1
1... Support disk, 14... Evaporation source.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 その外周面に形成されたテープ案内領域に沿
つて螺旋状に延びかつテープの側端部を案内する
ための段部を有する記録再生装置用回転ヘツドド
ラム機構のテープ案内ドラムの前記螺旋状段部に
被膜を形成する方法において、PVD装置内に被
着物質源及び複数のテープ案内ドラムをそれぞれ
配置して、耐摩耗性金属酸化物から成る被膜を
PVDプロセスにより前記段部に被着形成するよ
うになし、この際、前記被着物質源を所定の仮想
中心線上に配置し、また前記段部が前記被着物質
源にほぼ対向するように前記複数のテープ案内ド
ラムを前記被着物質源から前記仮想中心線の延び
る方向に互いにほぼ等距離離すと供に前記仮想中
心線から互いにほぼ等距離離して配置し、更にま
た前記複数のテープ案内ドラムをそれぞれ自転さ
せるようにしたことを特徴とする方法。
1. The spiral step portion of a tape guide drum of a rotary head drum mechanism for a recording/reproducing device, which extends spirally along a tape guide area formed on its outer peripheral surface and has a step portion for guiding the side edge portion of the tape. In the method of forming a coating of a wear-resistant metal oxide, a coating material source and a plurality of tape guide drums are respectively disposed in a PVD apparatus to form a coating of a wear-resistant metal oxide.
The deposit is formed on the stepped portion by a PVD process, and at this time, the deposited material source is placed on a predetermined virtual center line, and the deposited material source is placed so that the stepped portion substantially opposes the deposited material source. a plurality of tape guide drums disposed approximately equidistantly from each other in a direction along the imaginary centerline from the source of deposited material and disposed approximately equidistantly from each other from the imaginary centerline; A method characterized by causing each of the two to rotate on its own axis.
JP27914384A 1984-12-29 1984-12-29 Fomation of film onto tape guide drum with rotary head drum mechanism for recording and reproducing device Granted JPS61158060A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27914384A JPS61158060A (en) 1984-12-29 1984-12-29 Fomation of film onto tape guide drum with rotary head drum mechanism for recording and reproducing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27914384A JPS61158060A (en) 1984-12-29 1984-12-29 Fomation of film onto tape guide drum with rotary head drum mechanism for recording and reproducing device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61158060A JPS61158060A (en) 1986-07-17
JPH0465464B2 true JPH0465464B2 (en) 1992-10-20

Family

ID=17607035

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27914384A Granted JPS61158060A (en) 1984-12-29 1984-12-29 Fomation of film onto tape guide drum with rotary head drum mechanism for recording and reproducing device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61158060A (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61158060A (en) 1986-07-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4284033A (en) Means to orbit and rotate target wafers supported on planet member
US5272581A (en) Disk-type recording medium and storage apparatus
JPH09173946A (en) Spin coating device
JPH033744B2 (en)
US3523517A (en) Rotating workpiece holder
JPH0465464B2 (en)
JP3378043B2 (en) Sputtering equipment
JPH02199635A (en) Information recording disc, its manufacturing method, and recording device
JPH01184277A (en) Substrate rotation device
JPH06102829B2 (en) Discharge reaction treatment device
JPH11254303A (en) Lapping machine
JPS6360275A (en) Sputtering device
JPH0343233Y2 (en)
JPH01153263A (en) Device for polishing back of optical disk molding stamper
JPH0765159B2 (en) Vacuum deposition equipment
JPH11185308A (en) Optical disk, and apparatus and method for manufacturing the same
JP2007095197A (en) Manufacturing method of magnetic recording disk and magnetic recording disk manufacturing device
JPH042766A (en) Film forming apparatus
JPS6023769Y2 (en) record board
JP2892723B2 (en) Sputtering equipment
JPS62172582A (en) Disk pack device
JPH0832956B2 (en) Thin film processing equipment
JPS5873768A (en) Rotating and revolving type vapor depositing device
JPH01134766A (en) Optical disk device
JPH0239588B2 (en) PURANETARIISHIKISEIMAKUSOCHINIOKERUMAKUATSUSHUSEISOCHI

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees