JPH042766A - Film forming apparatus - Google Patents

Film forming apparatus

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JPH042766A
JPH042766A JP10298090A JP10298090A JPH042766A JP H042766 A JPH042766 A JP H042766A JP 10298090 A JP10298090 A JP 10298090A JP 10298090 A JP10298090 A JP 10298090A JP H042766 A JPH042766 A JP H042766A
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JP
Japan
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workpiece
mask
substrate
holding member
film forming
Prior art date
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Pending
Application number
JP10298090A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Nakabashi
中橋 光男
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、スパッタリング、蒸着、CVDなどを利用し
て、基板上に成膜を行なう成膜装置に関し、特に、それ
ぞれ成膜面積の異なる2以上の層を有する多層膜を成膜
する成膜装置に関する。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a film forming apparatus that forms a film on a substrate using sputtering, vapor deposition, CVD, etc. The present invention relates to a film forming apparatus for forming a multilayer film having the above layers.

〔従来の技術] 基板上に多層膜を成膜する場合、各層の成膜面積がそれ
ぞれ異なる多層膜を成膜しなければならないことがある
。希土類−遷移元素合金からなる記録層をもつ光磁気記
録媒体がその例である。
[Prior Art] When forming a multilayer film on a substrate, it may be necessary to form a multilayer film in which each layer has a different film formation area. An example is a magneto-optical recording medium having a recording layer made of a rare earth-transition element alloy.

第5図は前記光磁気記録媒体の模式断面図である。基板
31の上に、下地保護層32、記録層33、上地保護層
34が、スパッタリング、蒸着、CVDなとの方法で順
次積層されている。両保護層32.34は、希土類元素
を含んで酸化されやすい記録N33を保護するためのも
のであり、記録層33の左右の端部からの酸化を防ぐた
め、記録層33より大きく成膜され、記録層33の端部
な挾み込むようになっている。記録層33とこれより大
きい面積の両保護層32.34とを成膜するため、基板
31上の一部分が成膜されることを妨げるマスクと基板
31との相対位置を変化させることが行なわれる。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the magneto-optical recording medium. On the substrate 31, a base protective layer 32, a recording layer 33, and a top protective layer 34 are sequentially laminated by a method such as sputtering, vapor deposition, or CVD. Both protective layers 32 and 34 are for protecting the recording layer N33 that contains rare earth elements and is easily oxidized, and are formed to be larger than the recording layer 33 in order to prevent oxidation from the left and right ends of the recording layer 33. , are inserted into the ends of the recording layer 33. In order to deposit the recording layer 33 and both protective layers 32 and 34 having larger areas, the relative position between the mask and the substrate 31 that prevents a portion of the substrate 31 from being deposited is changed. .

第6図(a)、(b)は、従来の成膜装置による、中心
部に孔があけられた円盤状光磁気記録媒体の成膜過程を
示す要部断面図である。ワーク51には、ワーク51に
対して垂直方向に移動可能な外周マスク52と内周マス
ク53とが設けられている。また、ワーク51の中心部
には突出部54が形成され、光磁気記録媒体の基板31
の中心部にあけられた孔と嵌合し、基板31を保持する
FIGS. 6(a) and 6(b) are cross-sectional views of essential parts showing the process of forming a film on a disk-shaped magneto-optical recording medium with a hole in the center using a conventional film-forming apparatus. The work 51 is provided with an outer mask 52 and an inner mask 53 that are movable in a direction perpendicular to the work 51 . Further, a protrusion 54 is formed at the center of the workpiece 51, and a protrusion 54 is formed on the substrate 31 of the magneto-optical recording medium.
It fits into a hole drilled in the center of the board 31 to hold the board 31.

基板31上に下地保護層32を成膜するときは、第6図
(a)に示すように、外周マスク52と内周マスク53
を上方向に動かして基板31の上方に離れて位置させ、
この状態でスパッタリング、蒸着、CVDなどの方法に
よって成膜を行なう。この結果、基板31上の広い範囲
にわたって下地保護層32が形成される。
When forming the base protective layer 32 on the substrate 31, as shown in FIG. 6(a), an outer peripheral mask 52 and an inner peripheral mask 53 are used.
is moved upward to position it apart above the substrate 31,
In this state, a film is formed by a method such as sputtering, vapor deposition, or CVD. As a result, the base protective layer 32 is formed over a wide area on the substrate 31.

つづいて、記録層33を成膜するときは、第6図(b)
に示すように、外周マスク52と内周マスク53を下方
向に動かして基板31に近接するように位置させ、この
状態で成膜を行なう。各マスク52.53が基板31に
近接しているため、それぞれのマスク52.53の下に
覆われた部分は成膜されず、記録層33は下地保護層3
2より狭い範囲にしか成膜されない。
Next, when forming the recording layer 33, as shown in FIG. 6(b).
As shown in FIG. 3, the outer circumferential mask 52 and the inner circumferential mask 53 are moved downward and positioned close to the substrate 31, and film formation is performed in this state. Since each mask 52, 53 is close to the substrate 31, the portion covered under each mask 52, 53 is not deposited, and the recording layer 33 is
The film is formed only in a narrower area than 2.

上地保護層34は、下地保護層32と同様に成膜される
。その結果、記録層33は両保護層32.34によって
包み込まれた状態になる。
The upper protective layer 34 is formed in the same manner as the lower protective layer 32. As a result, the recording layer 33 is enveloped by both protective layers 32 and 34.

[発明が解決しようとする課題1 上述した従来の成膜装置では、成膜面積を変えるために
マスクを移動させるので、マスクの移動の際に、振動な
どによって、マスク上に堆積した成膜材料がはがれて基
板に付着してこれを汚染するという欠点があり、またマ
スクを移動させるための駆動系が複雑になるという欠点
がある。
[Problem to be Solved by the Invention 1] In the conventional film forming apparatus described above, the mask is moved in order to change the film forming area, so when the mask is moved, the film forming material deposited on the mask is removed by vibration etc. There is a drawback that the mask peels off and adheres to the substrate, contaminating it, and the drive system for moving the mask becomes complicated.

本発明の目的は、マスクを移動することなく、それぞれ
異なる成膜面積の2以上の層を有する多層膜を成膜でき
る成膜装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a film forming apparatus capable of forming a multilayer film having two or more layers each having a different film forming area without moving a mask.

[課題を解決するための手段] 上記目的達成可能な本発明は、 ワーク保持部材に設けたワークにマスクが間隔をおいて
一体的に設けられ、 前記ワークとマスクの間に配設される基板を保持するた
めの基板保持部材と該基板保持部材を前記ワークと前記
マスクの間で移動させる駆動手段を備えて、前記基板と
前記マスクとの間隔を変化させるよう構成した成膜装置
と、 この成膜装置において、ワークがワーク保持部材に回転
可能に軸支され、基板保持部材が駆動手段に回転可能に
軸支されており、ワークを強制回転させるための回転駆
動機構を備えたことを特徴とする成膜装置とである。
[Means for Solving the Problems] The present invention capable of achieving the above object includes: a mask is integrally provided at intervals on a workpiece provided on a workpiece holding member, and a substrate disposed between the workpiece and the mask. a film forming apparatus configured to change the distance between the substrate and the mask, comprising a substrate holding member for holding the substrate and a driving means for moving the substrate holding member between the workpiece and the mask; The film forming apparatus is characterized in that the workpiece is rotatably supported by a workpiece holding member, the substrate holding member is rotatably supported by a driving means, and a rotational drive mechanism is provided for forcibly rotating the workpiece. and a film forming apparatus.

[作   用] マスクがワークに固定され、ワークとマスクの間で移動
可能な基板保持部材に基板が保持されているので、マス
クを移動することなく、それぞれ成膜面積の異なる層を
有する多層膜を成膜することができる。
[Function] Since the mask is fixed to the workpiece and the substrate is held by a substrate holding member that is movable between the workpiece and the mask, multilayer films each having a different deposition area can be formed without moving the mask. can be formed into a film.

[実 施 例1 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
[Example 1] Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1実施例 第1図(a)、(b)はそれぞれ本発明の第1実施例の
成膜装置の成膜過程を示す要部断面図である。この成膜
装置は、中心部に貫通孔が設けられた円盤状光磁気記録
媒体を製造するためのものである。第1図(a)は基板
31上に下地保護層32を成膜しているところを示し、
第1図(b)は下地保護層32の上に記録層33を成膜
しているところを示す。
First Embodiment FIGS. 1(a) and 1(b) are sectional views of essential parts showing the film forming process of a film forming apparatus according to a first embodiment of the present invention. This film forming apparatus is for manufacturing a disk-shaped magneto-optical recording medium having a through hole in the center. FIG. 1(a) shows a base protective layer 32 being formed on a substrate 31,
FIG. 1(b) shows the recording layer 33 being formed on the base protective layer 32.

ワーク4はワーク保持部材10+に固着されている。ワ
ーク4の中心部の両面の対応する位置には、円環状でコ
の字断面の溝5.6がそれぞれ刻まれ、それぞれの溝5
.6の一部分には、上方の溝5から下方の溝6へ貫通す
る穴が設けられている。1は円筒状の基板保持部材であ
って、ワーク4の上面にある溝5に摺動自在に嵌挿され
ており、該基板保持部材1の上端には小径の突出部1a
が形成されている。一方、円筒状の円筒スライド軸21
は、その自由端側かワーク4の下面にある溝6に摺動自
在に嵌挿されており、該円筒スライド軸21の先端の前
記穴に対応する部分には、円筒スライド軸21の長手方
向に伸びている突起が設けられ、この突起は前記穴を貫
いて前記基板保持部材1の底面に固着されている。この
突起の突出長さは、前記穴の長さよりも長く、このため
、第1図(a)に示す下降位置では溝6の底面と円筒ス
ライド軸2Iの先端との間にすき間7、ができ、また第
1図(b)に示す上昇位置では溝5の底面と基板保持部
1との間にすき間7□ができるようになっている。円筒
スライド軸2□の下端はスライド駆動軸3.に固着され
、駆動手段であるスライド駆動軸31を図示上下方向に
動かすことにより、基板保持部材1と円筒スライド軸2
1は上下に動くことができる。
The work 4 is fixed to the work holding member 10+. Grooves 5 and 6 each having an annular U-shaped cross section are carved in corresponding positions on both sides of the center of the workpiece 4.
.. 6 is provided with a hole passing through from the upper groove 5 to the lower groove 6. Reference numeral 1 denotes a cylindrical substrate holding member, which is slidably inserted into a groove 5 on the upper surface of the workpiece 4. The upper end of the substrate holding member 1 has a small diameter protrusion 1a.
is formed. On the other hand, a cylindrical slide shaft 21
is slidably inserted into a groove 6 on its free end side or on the lower surface of the workpiece 4, and a portion corresponding to the hole at the tip of the cylindrical slide shaft 21 is provided with a hole in the longitudinal direction of the cylindrical slide shaft 21. A projection is provided extending through the hole and is fixed to the bottom surface of the substrate holding member 1. The protrusion length of this protrusion is longer than the length of the hole, and therefore, in the lowered position shown in FIG. 1(a), a gap 7 is created between the bottom surface of the groove 6 and the tip of the cylindrical slide shaft 2I. Furthermore, in the raised position shown in FIG. 1(b), a gap 7□ is created between the bottom surface of the groove 5 and the substrate holding portion 1. The lower end of the cylindrical slide shaft 2□ is the slide drive shaft 3. By moving the slide drive shaft 31, which is a driving means, in the vertical direction in the figure, the substrate holding member 1 and the cylindrical slide shaft 2 are fixed to the substrate holding member 1 and the cylindrical slide shaft 2
1 can move up and down.

光磁気記録媒体の基板31は、その中心部の貫通孔と基
板保持部材1の突出部1aとが嵌合して、基板保持部材
1に保持される。
The substrate 31 of the magneto-optical recording medium is held by the substrate holding member 1 by fitting the through hole in its center with the protrusion 1a of the substrate holding member 1.

また、ワーク4の外縁部には逆り字形断面の外周マスク
8が取り外し可能に嵌着され、ワーク4の中心部には丁
字形断面の内周マスク9が取りはずし可能に嵌着されて
いる。基板31を保持した基板保持部材1が前述の上下
の移動によって上方の位置にあるとき、すなわち第1図
(b)の位置にあるときには、各マスク8.9の水平部
分の下面と基板31の上面とがほとんどすき間なく近接
するように、各マスク8.9の垂直部分の長さは決めら
れている。
Further, an outer peripheral mask 8 having an inverted-shaped cross section is removably fitted to the outer edge of the work 4, and an inner peripheral mask 9 having a T-shaped cross section is removably fitted to the center of the work 4. When the substrate holding member 1 holding the substrate 31 is in the upper position due to the above-mentioned vertical movement, that is, in the position shown in FIG. The length of the vertical portion of each mask 8.9 is determined so that it is close to the top surface with almost no gap.

次に、この成膜装置による光磁気記録媒体の製造につい
て説明する。
Next, manufacturing of a magneto-optical recording medium using this film forming apparatus will be explained.

まず、基板31を基板保持部材1に保持し、その後、外
周マスク8と内周マスク9をワーク4に取り付けて固定
する。スライド駆動軸31を駆動して、基板保持部材l
を下方位置に移動させる〔第1図(a)〕。そして、ス
パッタリング、蒸着、CVDなどによって、基板31上
に下地保護層32を成膜する。このとき、基板31と各
マスク8.9との間隔が大きいので、下地保護層32は
各マスク8.9の下にあたる部分にも回り込んで成膜さ
れる。
First, the substrate 31 is held by the substrate holding member 1, and then the outer circumferential mask 8 and the inner circumferential mask 9 are attached and fixed to the workpiece 4. By driving the slide drive shaft 31, the substrate holding member l
to the lower position [Fig. 1(a)]. Then, a base protective layer 32 is formed on the substrate 31 by sputtering, vapor deposition, CVD, or the like. At this time, since the distance between the substrate 31 and each mask 8.9 is large, the base protective layer 32 is formed so as to extend around the portion below each mask 8.9.

次に、スライド駆動軸31を駆動して、基板保持部材l
を上方位置に移動し〔第1図(b)〕、スパッタリング
、蒸着、CVDなどによって下地保護層32の上に記録
層33を成膜する。このとき、基板31と各マスク8.
9との間にはほとんどすき間がないので、それぞれのマ
スク8.9の下には記録層33は成膜されない。したが
って、記録層33は下地保護層32に比べて狭い範囲に
しか成膜されない。さらに、上地保護層34を下地保護
層32と同様に成膜することにより、第5図に示される
ような、記録層33が両方の記録層32.34で包み込
まれている光磁気記録媒体が製造される。
Next, the slide drive shaft 31 is driven to hold the substrate holding member l.
is moved to an upper position [FIG. 1(b)], and a recording layer 33 is formed on the base protective layer 32 by sputtering, vapor deposition, CVD, or the like. At this time, the substrate 31 and each mask 8.
Since there is almost no gap between the mask 8 and the mask 9, the recording layer 33 is not formed under each mask 8, 9. Therefore, the recording layer 33 is formed only in a narrower area than the base protective layer 32. Furthermore, by forming the upper protective layer 34 in the same manner as the lower protective layer 32, a magneto-optical recording medium in which the recording layer 33 is wrapped by both recording layers 32 and 34 as shown in FIG. is manufactured.

すき間71.7□の大きさ、すなわち基板保持部材1の
上下の移動のストロークの長さは、成膜される層の材質
、厚みや基板と母材との距離、基板の大きさなどによっ
て適宜決定すればよい。ここでいう母材とは、各層を成
膜するためのスパッタ用ターゲットや蒸着源などのこと
である。具体的数値を挙げれば、スパッタリングにより
、母材として直径50〜250mm程度のターゲットを
用い、ターゲットから50〜200mm程度離れたとこ
ろにある直径135mmの基板31上に、それぞれ厚さ
が100〜2000人程度の誘電体からなる下地保護層
32および上地保護層34と、厚さが100〜2000
人程度の希土類−遷移元素合金からなる記録層33とを
有する光磁気記録媒体を製造したところ、前述のストロ
ークの長さが3〜5mm程度であれば、各保護層32゜
34は記録層33の端部よりそれぞれ0.5〜1.0m
m程度外側まで成膜されていた。
The size of the gap 71.7□, that is, the length of the vertical movement stroke of the substrate holding member 1, may be determined as appropriate depending on the material and thickness of the layer to be formed, the distance between the substrate and the base material, the size of the substrate, etc. All you have to do is decide. The base material here refers to a sputtering target, a vapor deposition source, etc. for forming each layer. To give specific figures, by sputtering, using a target with a diameter of about 50 to 250 mm as a base material, a substrate 31 with a diameter of 135 mm located at a distance of about 50 to 200 mm from the target is coated with a thickness of 100 to 2000 mm. The base protective layer 32 and the top protective layer 34 are made of a dielectric material with a thickness of 100 to 2000 mm.
When a magneto-optical recording medium having a recording layer 33 made of a human-sized rare earth-transition element alloy was manufactured, if the aforementioned stroke length was about 3 to 5 mm, each protective layer 32° 34 0.5 to 1.0 m from the end of each
The film was formed to the outer side of about 100 m.

第2実施例 第2図は本発明の第2実施例の成膜装置の構成を示す要
部断面図である。この成膜装置は、第1実施例の成膜装
置に基板が自転できるような変更を加えたものである。
Second Embodiment FIG. 2 is a sectional view of essential parts showing the structure of a film forming apparatus according to a second embodiment of the present invention. This film forming apparatus is a film forming apparatus of the first embodiment modified so that the substrate can rotate on its own axis.

この成膜装置では、ワーク4は円筒状のワーク自転軸1
41に固着され、ワーク自転軸14.はベアリング15
を介してワーク保持部材10□に回転自在に取り付けら
れている。また、円筒スライト軸2□はその下端部がベ
アリング13を介してスライド駆動軸32に回転自在に
軸支されている。上述の第1実施例において説明したよ
うに、ワーク4の上面の溝5から下面の溝6へ貫通する
穴を貫いて円筒スライド軸3□の先端に設けられた突起
が基板保持部材1の底面に固着されているので、ワーク
4が回転すればこの回転に伴って基板保持部材1と円筒
スライド軸22も回転することになる。
In this film forming apparatus, a workpiece 4 has a cylindrical workpiece rotation axis 1
41, and the workpiece rotation axis 14. is bearing 15
It is rotatably attached to the workpiece holding member 10□ via. Further, the lower end of the cylindrical slide shaft 2□ is rotatably supported by a slide drive shaft 32 via a bearing 13. As explained in the first embodiment, the protrusion provided at the tip of the cylindrical slide shaft 3□ passes through the hole extending from the groove 5 on the upper surface of the workpiece 4 to the groove 6 on the lower surface, and the protrusion is attached to the bottom surface of the substrate holding member 1. Therefore, when the workpiece 4 rotates, the substrate holding member 1 and the cylindrical slide shaft 22 also rotate with this rotation.

次に、ワーク4を強制回転させるための回転駆動機構に
ついて説明する。
Next, a rotational drive mechanism for forcibly rotating the workpiece 4 will be explained.

ワーク保持部材10zの上面にはギア軸121を介して
自転駆動用ギア11.が回転自在に設けられ、自転駆動
用ギアIllの歯はワーク自転軸141の外側面の中央
付近に一体的に設けられた歯部とかみ合っている。した
がって、自転駆動用ギア11□を図示しない駆動源によ
り回転駆動すれば、ワーク自転軸14+が自転し、基板
保持部材1、円筒スライド軸2□、ワーク4、外周マス
ク8、内周マスク9、基板31もワーク自転軸14、の
回転に伴って自転する。スライド駆動軸32を図示上下
方向に動かすことにより基板保持部材1を上下に動かせ
ることは、第1実施例の成膜装置と同様である。
A rotation drive gear 11. is attached to the upper surface of the workpiece holding member 10z via a gear shaft 121. is rotatably provided, and the teeth of the rotation drive gear Ill mesh with teeth integrally provided near the center of the outer surface of the work rotation shaft 141. Therefore, when the rotation drive gear 11□ is rotationally driven by a drive source (not shown), the workpiece rotation axis 14+ rotates, and the substrate holding member 1, the cylindrical slide shaft 2□, the workpiece 4, the outer circumference mask 8, the inner circumference mask 9, The substrate 31 also rotates as the work rotation axis 14 rotates. Similar to the film forming apparatus of the first embodiment, the substrate holding member 1 can be moved up and down by moving the slide drive shaft 32 in the vertical direction in the drawing.

次に、この成膜装置による光磁気記録媒体の製造につい
て説明する。
Next, manufacturing of a magneto-optical recording medium using this film forming apparatus will be explained.

まず、基板31を基板保持部材1に保持し、−その後、
外周マスク8と内周マスク9をワーク4に取り付けて固
定する。次に、自転駆動用ギア11、を回転駆動して、
基板保持部材1、ワーク4、外周マスク8、内周マスク
9、基板31を自転させる。自転させながら、第1実施
例と同様に、スライド駆動軸3□を上下に駆動して基板
31を上下に移動させつつ、下地保護層32、記録層3
3、上地保護層34を順次成膜することにより、光磁気
記録媒体が製造される。
First, the substrate 31 is held on the substrate holding member 1, - then,
The outer circumferential mask 8 and the inner circumferential mask 9 are attached and fixed to the workpiece 4. Next, the rotation drive gear 11 is rotationally driven,
The substrate holding member 1, the workpiece 4, the outer circumferential mask 8, the inner circumferential mask 9, and the substrate 31 are rotated. While rotating, the slide drive shaft 3□ is driven up and down to move the substrate 31 up and down, as in the first embodiment, while the base protective layer 32 and the recording layer 3 are moved up and down.
3. A magneto-optical recording medium is manufactured by sequentially forming the upper protective layer 34.

この成膜装置を用いれば、成膜中に基板とマスクを自転
させることができるので、基板とマスクが自転しない成
膜装置に比べ、成膜した層がより均一になるという利点
がある。
If this film forming apparatus is used, the substrate and mask can be rotated during film formation, which has the advantage that the deposited layer will be more uniform, compared to a film forming apparatus in which the substrate and mask do not rotate.

なお、ワーク自転軸14、を回転させるのに、自転駆動
用ギア111の代わりにチェーンやベルトを用いてもよ
い。また各ベアリング13.15の代わりに金属や樹脂
製の軸受けを用いてもよい。
Note that a chain or a belt may be used instead of the rotation drive gear 111 to rotate the work rotation shaft 14. Further, instead of each bearing 13.15, a metal or resin bearing may be used.

第3実施例 第3図は本発明の第3実施例の成膜装置の構成を示す要
部断面図である。この成膜装置は、第2実施例の成膜装
置において、自転駆動用ギアがワーク保持部材の下側に
取り付けられるような変更を加えたものである。
Third Embodiment FIG. 3 is a sectional view of essential parts showing the structure of a film forming apparatus according to a third embodiment of the present invention. This film forming apparatus is the same as the film forming apparatus of the second embodiment, with a modification such that the rotational drive gear is attached to the lower side of the workpiece holding member.

ワーク4は、外側面の下端部に一体的に歯部の設けられ
た円筒状のワーク自転軸14□に固着され、ワーク自転
軸142はベアリング15を介してワーク保持部材10
.に回転自在に取り付けられている。また、ワーク保持
部材10.の下側には、ギア軸12□を介して自転駆動
用ギア112が回転自在に取り付けられ、自転駆動用ギ
ア11□の歯はワーク自転軸14iの歯部とかみ合って
いる。この成膜装置は、第2実施例の成膜装置と同様に
、自転駆動用ギア112を回転駆動することによって、
基板保持部材l、ワーク4、外周マスク8、内周マスク
9、基板31をワーク自転軸142の回転に伴って自転
させることができ、同様の方法によって光磁気記録媒体
を製造することができる。
The workpiece 4 is fixed to a cylindrical workpiece rotation shaft 14 □ that is integrally provided with teeth at the lower end of the outer surface, and the workpiece rotation shaft 142 is connected to the workpiece holding member 10 via a bearing 15 .
.. is rotatably attached to. Moreover, the work holding member 10. An autorotation drive gear 112 is rotatably attached to the lower side of the workpiece via a gear shaft 12□, and the teeth of the autorotation drive gear 11□ mesh with the teeth of the workpiece rotation shaft 14i. This film forming apparatus, like the film forming apparatus of the second embodiment, rotates the rotation drive gear 112 to
The substrate holding member 1, the workpiece 4, the outer circumferential mask 8, the inner circumferential mask 9, and the substrate 31 can be rotated along with the rotation of the workpiece rotation axis 142, and a magneto-optical recording medium can be manufactured by the same method.

この成膜装置では、自転駆動用ギア11□がワーク保持
部材1o、の下側、すなわちワーク4の反対側に設けら
れているので、自転駆動用ギア11□に成膜材料が堆積
することがなく、成膜材料が堆積したギアが回転するこ
とによる塵埃の発生を防ぐことができるという利点があ
る。
In this film forming apparatus, since the rotational drive gear 11□ is provided below the workpiece holding member 1o, that is, on the opposite side of the workpiece 4, the film forming material is not deposited on the rotational drive gear 11□. This has the advantage that dust generation due to the rotation of the gear on which the film-forming material is deposited can be prevented.

なお、ワーク自転軸14□を回転させるのに、自転駆動
用ギア11□の代わりにチェーンやベルトを用いてもよ
い。また、各ベアリング1315の代わりに金属や樹脂
製の軸受けを用いてもよい。
Note that a chain or a belt may be used instead of the rotation drive gear 11□ to rotate the workpiece rotation axis 14□. Moreover, instead of each bearing 1315, a metal or resin bearing may be used.

第4実施例 第4図は本発明の第4実施例の成膜装置の構成を示す要
部断面図である。この成膜装置は、第1実施例の成膜装
置に、基板が公転および自転を行なえるような変更を加
えたものである。
Fourth Embodiment FIG. 4 is a sectional view of essential parts showing the structure of a film forming apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. This film forming apparatus is the same as the film forming apparatus of the first embodiment, modified so that the substrate can revolve and rotate.

この成膜装置では、ワーク4は円筒状のワーク自転軸1
42に固着され、ワーク自転軸14□はベアリング15
を介してワーク保持部材104に回転自在に取り付けら
れている。また、円筒スライド軸22はベアリング13
を介して逆り字形のスライド駆動軸33に対して回転自
在に取り付けられている。ワーク保持部材104の下側
にはギア軸12.を介して自転駆動用ギア113が回転
自在に取り付けられている。自転駆動用ギア113は、
ワーク自転軸142の下端部に設けられた歯部および後
述するギア16とかみ合っている。ワーク保持部材10
4は、円筒形状で側面の中央部に開口部を有する円筒公
転軸19に固着され、円筒公転軸19はベアリング21
を介して支持柱22に回転自在に取り付けられている。
In this film forming apparatus, a workpiece 4 has a cylindrical workpiece rotation axis 1
42, and the work rotation axis 14□ is fixed to the bearing 15.
It is rotatably attached to the workpiece holding member 104 via. In addition, the cylindrical slide shaft 22 has a bearing 13
It is rotatably attached to an inverted-shaped slide drive shaft 33 via. A gear shaft 12 is provided below the workpiece holding member 104. An autorotation drive gear 113 is rotatably attached via the. The rotational drive gear 113 is
It meshes with a toothed portion provided at the lower end of the workpiece rotation shaft 142 and a gear 16, which will be described later. Work holding member 10
4 is fixed to a cylindrical revolution shaft 19 having a cylindrical shape and an opening at the center of the side surface, and the cylindrical revolution shaft 19 is fixed to a bearing 21.
It is rotatably attached to the support column 22 via.

また、円筒公転軸19には、ギア16がベアリング17
を介して自由回転自在に設けられ、該ギア16の上半分
が自転駆動用ギア113にかみ合つている。また、前記
ギア16の下半分は、図示しない駆動源により回転され
る駆動ギア18にかみ合っている。円筒公転軸19の外
周に一体的に設けられた歯部は、図示しない公転用の駆
動源により回転される公転駆動用ギア20とかみ合って
いる。一端にベアリング13を介して円筒スライド軸2
□が回転自在に取り付けられている逆り字形のスライド
駆動軸3.は、円筒公転軸19の側面の開口部から円筒
公転軸19の内部に導入され、他端がベアリング23を
介してスライド初段軸24に回転自在に取り付けられて
いる。
Further, the gear 16 is attached to the bearing 17 on the cylindrical revolving shaft 19.
The upper half of the gear 16 is engaged with the rotation drive gear 113. Further, the lower half of the gear 16 meshes with a drive gear 18 that is rotated by a drive source (not shown). A tooth portion integrally provided on the outer periphery of the cylindrical revolution shaft 19 meshes with a revolution drive gear 20 rotated by a revolution drive source (not shown). Cylindrical slide shaft 2 via bearing 13 at one end
□ is rotatably attached to the inverted-shaped slide drive shaft 3. is introduced into the interior of the cylindrical revolution shaft 19 through an opening on the side surface of the cylindrical revolution shaft 19, and the other end is rotatably attached to the slide first stage shaft 24 via a bearing 23.

駆動ギア18を回転駆動すると、ギア16、自転駆動用
ギア115、ワーク自転軸14□と回転が伝達し、基板
保持部材1、円筒スライド軸22、ワーク4、外周マス
ク8、内周マスク9、基板31は、ワーク保持部材10
4に対し、ワーク自転軸142の回転に伴って自転する
。一方、公転駆動用ギア20を回転駆動すると、円筒公
転軸19が回転して、これに伴ってワーク保持部材10
4とスライド駆動軸3.とが回転する。したがって、基
板保持部材l、円筒スライド軸2□、ワーク4、外周マ
スク8、内周マスク9、基板31は円筒公転軸19のま
わりを公転することになる。スライド駆動軸33は、円
筒公転軸19の中に引き込まれ、ベアリング23を介し
てスライド初段軸24に取り付けられているので、スラ
イド初段軸24を上下に駆動すればスライド駆動軸33
も上下に移動し、その結果第1実施例の場合と同様に、
基板保持部材1も上下に移動する。
When the drive gear 18 is rotationally driven, the rotation is transmitted to the gear 16, the rotation drive gear 115, and the workpiece rotation axis 14□, and the rotation is transmitted to the substrate holding member 1, the cylindrical slide shaft 22, the workpiece 4, the outer circumference mask 8, the inner circumference mask 9, The substrate 31 is the workpiece holding member 10
4, the workpiece rotates along with the rotation of the workpiece rotation axis 142. On the other hand, when the revolution drive gear 20 is rotationally driven, the cylindrical revolution shaft 19 rotates, and accordingly, the work holding member 10
4 and slide drive shaft 3. and rotates. Therefore, the substrate holding member l, the cylindrical slide shaft 2□, the workpiece 4, the outer circumferential mask 8, the inner circumferential mask 9, and the substrate 31 revolve around the cylindrical revolution axis 19. The slide drive shaft 33 is drawn into the cylindrical revolution shaft 19 and is attached to the first stage slide shaft 24 via the bearing 23, so if the first stage slide shaft 24 is driven up and down, the slide drive shaft 33
also moves up and down, and as a result, as in the first embodiment,
The substrate holding member 1 also moves up and down.

次に、この成膜装置による光磁気記録媒体の製造方法に
ついて説明する。
Next, a method for manufacturing a magneto-optical recording medium using this film forming apparatus will be described.

まず、基板31を基板保持部材1に保持し、その後、外
周マスク8と内周マスク9をワーク4に取り付けて固定
する0次に、駆動ギア18を回転駆動して、基板保持部
材1、ワーク4、外周マスク8、内周マスク9、基板3
1を自転させ、公転駆動用ギア20を回転駆動して、基
板保持部材1、ワーク4、外周マスク8、内周マスク9
、基板31を公転させる。自転と公転とをさせながら、
スライド初段軸24を上下に駆動して基板31を上下に
移動させつつ、第1実施例と同様に、基板31上に下地
保護層32、記録層33、上地保護層34を順次成膜す
ることにより、光磁気記録媒体が成膜される。
First, the substrate 31 is held on the substrate holding member 1, and then the outer circumferential mask 8 and the inner circumferential mask 9 are attached and fixed to the workpiece 4.Next, the driving gear 18 is rotationally driven to hold the substrate holding member 1 and the workpiece. 4, outer circumference mask 8, inner circumference mask 9, substrate 3
1 and rotates the revolution drive gear 20 to rotate the substrate holding member 1, the workpiece 4, the outer mask 8, and the inner mask 9.
, causing the substrate 31 to revolve. While rotating and revolving,
While moving the substrate 31 up and down by driving the first slide shaft 24 up and down, the base protective layer 32, the recording layer 33, and the top protective layer 34 are sequentially formed on the substrate 31 as in the first embodiment. As a result, a magneto-optical recording medium is formed.

この成膜装置を用いれば、成膜中に基板とマスクを公転
させかつ自転させることができるので、基板とマスクが
自転しないかあるいは公転しない成膜装置に比べ、成膜
された層がより均一になるという利点がある。
Using this film deposition system, the substrate and mask can both revolve and rotate on their own axis during film formation, so the deposited layer is more uniform compared to a film deposition system in which the substrate and mask do not rotate or rotate. It has the advantage of becoming

なお、これら自転および公転を行なうために、各ギアl
ls、16,18.20を用いているが、これらの代わ
りにそれぞれチェーンやベルトを用いてもよい。また、
各ベアリング13゜15.17,21.23の代わりに
金属や樹脂製の軸受けを用いてもよい。
In addition, in order to perform these rotations and revolutions, each gear l
ls, 16, 18.20, but chains or belts may be used instead. Also,
Bearings made of metal or resin may be used instead of the bearings 13°15.17, 21.23.

以上、本発明の実施例について説明してきたが、第2実
施例、第3実施例および第4実施例において、複数個の
基板上に同時に成膜を行なうため、複数個のワークを同
心円上に配置するように設けてもよい。ただしそれぞれ
のワークを公転させるどきは、公転の中心と前記同心円
の中心とが一致していることが望ましい。
The embodiments of the present invention have been described above, but in the second, third, and fourth embodiments, multiple workpieces are arranged concentrically in order to simultaneously form films on multiple substrates. It may be provided so as to be arranged. However, when each workpiece is revolved, it is desirable that the center of revolution coincides with the center of the concentric circles.

本発明は、光磁気記録媒体の製造に適した成膜装置に限
定されるものではなく、それぞれ異なる成膜面積の2以
上の層を有する多層膜を成膜する成膜装置一般に適用で
きるものである。
The present invention is not limited to film forming apparatuses suitable for manufacturing magneto-optical recording media, but can be applied to general film forming apparatuses that form multilayer films having two or more layers each having a different film forming area. be.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、マスクをワークに固定し
、ワークとマスクの間で移動可能な基板保持部材を設け
たことにより、マスクを移動することなく、それぞれ異
なる成膜面積の2層以上の層を有する多層膜を成膜する
ことができるので、マスクの移動に伴うゴミの発生を防
ぐことができ、かつ、マスクの移動に必要な機構が不要
になって装置の構成が簡単になるという効果がある。
As explained above, the present invention fixes the mask to the workpiece and provides a movable substrate holding member between the workpiece and the mask, so that two or more layers with different film formation areas can be formed without moving the mask. Since it is possible to form a multilayer film having layers of There is an effect.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)、(b)はそれぞれ本発明の第1実施例の
成膜装置の成膜過程を示す要部断面図、第2図は本発明
の第2実施例の成膜装置の構成を示す要部断面図、第3
図は本発明の第3実施例の成膜装置の構成を示す要部断
面図、第4図は本発明の第4実施例の成膜装置の構成を
示す要部断面図、第5図は光磁気記録媒体の模式断面図
、第6図(a)、(b)はそれぞれ従来の成膜装置の成
膜過程を示す要部断面図である。 1・・・基板保持部材、   1a・・・突出部、21
.2□・・・円筒スライド軸、 31.32.3s・・・スライド駆動軸、4・・・ワー
ク、      5.6・・・溝、7+、7a・・・す
き間、 8・・・外周マスク、9・・・内周マスク、 10+ 、10* 、10s 、104・・・ワーク保
持部材、 1+、llt、lls・・・自転駆動用ギア、2+ 、
12i 、12s・・・ギア軸、3.15.17,21
.23・・・ベアリング、4+、14i・・・ワーク自
転軸、 6・・・ギア、      18・・・駆動ギア、9・
・・円筒公転軸、  2o・・・公転駆動用ギア、2・
・・支持柱、 1・・・基板、 3・・・記録層、 1・・・ワーク、 3・・・内周マスク、 4・・・スライド初段軸、 2・・・下地保護層、 4・・・上地保護層、 2・・・外周マスク、 4・・・突出部。 9内囚マスク
1(a) and (b) are sectional views of main parts showing the film forming process of a film forming apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of a film forming apparatus according to a second embodiment of the present invention. Main part sectional view showing the configuration, 3rd
The figure is a cross-sectional view of main parts showing the structure of a film forming apparatus according to a third embodiment of the present invention, FIG. 4 is a cross-sectional view of main parts showing the structure of a film forming apparatus according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. A schematic cross-sectional view of a magneto-optical recording medium, and FIGS. 6(a) and 6(b) are cross-sectional views of main parts showing the film forming process of a conventional film forming apparatus, respectively. 1... Board holding member, 1a... Protrusion, 21
.. 2□...Cylindrical slide shaft, 31.32.3s...Slide drive shaft, 4...Workpiece, 5.6...Groove, 7+, 7a...Gap, 8...Outer periphery mask, 9... Inner circumference mask, 10+, 10*, 10s, 104... Work holding member, 1+, llt, lls... Rotation drive gear, 2+,
12i, 12s...gear shaft, 3.15.17, 21
.. 23...Bearing, 4+, 14i...Work rotation axis, 6...Gear, 18...Drive gear, 9.
...Cylindrical revolution axis, 2o...Revolution drive gear, 2.
...Support column, 1...Substrate, 3...Recording layer, 1...Workpiece, 3...Inner peripheral mask, 4...Slide first stage shaft, 2...Underlying protective layer, 4... ...Top protective layer, 2...Outer mask, 4...Protrusion. 9 prisoner mask

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.ワーク保持部材に設けたワークにマスクが間隔をお
いて一体的に設けられ、 前記ワークとマスクの間に配設される基板を保持するた
めの基板保持部材と該基板保持部材を前記ワークと前記
マスクの間で移動させる駆動手段を備えて、前記基板と
前記マスクとの間隔を変化させるよう構成した成膜装置
1. A mask is integrally provided at intervals on a workpiece provided on a workpiece holding member, and a substrate holding member for holding a substrate disposed between the workpiece and the mask is connected to the workpiece and the substrate holding member. A film forming apparatus configured to include a drive means for moving between the masks and to change the distance between the substrate and the mask.
2.ワークがワーク保持部材に回転可能に軸支され、基
板保持部材が駆動手段に回転可能に軸支されており、ワ
ークを強制回転させるための回転駆動機構を備えたこと
を特徴とする請求項1記載の成膜装置。
2. Claim 1, wherein the workpiece is rotatably supported by the workpiece holding member, the substrate holding member is rotatably supported by the driving means, and a rotational drive mechanism for forcibly rotating the workpiece is provided. The film forming apparatus described.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6413381B1 (en) 2000-04-12 2002-07-02 Steag Hamatech Ag Horizontal sputtering system
WO2014174892A1 (en) * 2013-04-25 2014-10-30 シャープ株式会社 Electroluminescent apparatus, and apparatus and method for manufacturing same

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