JPH0465464B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0465464B2 JPH0465464B2 JP27914384A JP27914384A JPH0465464B2 JP H0465464 B2 JPH0465464 B2 JP H0465464B2 JP 27914384 A JP27914384 A JP 27914384A JP 27914384 A JP27914384 A JP 27914384A JP H0465464 B2 JPH0465464 B2 JP H0465464B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drum
- tape guide
- coating
- wear
- stepped portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、その外周面に形成されたテープ案内
領域に沿つて螺旋状に延びかつテープの側端部を
案内するための段部を有する記録再生装置用回転
ヘツドドラム機構のテープ案内ドラムの前記螺旋
状段部に被膜を形成する方法に関するものであ
る。
領域に沿つて螺旋状に延びかつテープの側端部を
案内するための段部を有する記録再生装置用回転
ヘツドドラム機構のテープ案内ドラムの前記螺旋
状段部に被膜を形成する方法に関するものであ
る。
ビデオテープレコーダ等の記録再生装置におけ
る回転ヘツドドラム機構は従来から一般的に第４
図に示すように構成されている。即ち、回転ヘツ
ドドラム機構１は、記録再生装置のシヤーシに固
定された下側テープ案内ドラム２と、その上部に
同心状にかつ回転自在に配置された上側テープ案
内ドラム３とを具備し、上側ドラム３の下端には
その外周に臨むようにして複数個の回転磁気ヘツ
ド４が取付けられている。そしてこれら両ドラム
２，３は通常アルミニウムまたはアルミニウム合
金にて成形されている。また下側ドラム２の外周
面２ａには、そのテープ案内領域の下部に沿つて
螺施状に延びる通常テープリードと称される上向
きの段部５が切削加工により形成されている。従
つて上側ドラム３の外周面３ａと下側ドラム２の
内周面２ａとに跨がつて螺旋状に巻付けられる磁
気テープ６はその下側端部６ａを上記上向き段部
５に案内され、磁気テープ６の走行時に上記下側
端部６ａが上記上向き段部５に対して摺接するよ
うになつている。
る回転ヘツドドラム機構は従来から一般的に第４
図に示すように構成されている。即ち、回転ヘツ
ドドラム機構１は、記録再生装置のシヤーシに固
定された下側テープ案内ドラム２と、その上部に
同心状にかつ回転自在に配置された上側テープ案
内ドラム３とを具備し、上側ドラム３の下端には
その外周に臨むようにして複数個の回転磁気ヘツ
ド４が取付けられている。そしてこれら両ドラム
２，３は通常アルミニウムまたはアルミニウム合
金にて成形されている。また下側ドラム２の外周
面２ａには、そのテープ案内領域の下部に沿つて
螺施状に延びる通常テープリードと称される上向
きの段部５が切削加工により形成されている。従
つて上側ドラム３の外周面３ａと下側ドラム２の
内周面２ａとに跨がつて螺旋状に巻付けられる磁
気テープ６はその下側端部６ａを上記上向き段部
５に案内され、磁気テープ６の走行時に上記下側
端部６ａが上記上向き段部５に対して摺接するよ
うになつている。
このように、上向き段部５を切削加工にて下側
ドラム２の外周面２ａに一体に形成する構造は、
加工時に精度が出る利点がある反面、下側ドラム
２の素材がアルミニウムまたはアルミニウム合金
である為に耐摩耗性に欠け、走行中の磁気テープ
６の下側端部６ａによつてその上向き段部５が早
期に摩耗してしまう欠陥があつた。なお下側ドラ
ム２を耐摩耗性の優れた硬い材料で一体に形成す
ることも孝えられるが、下側ドラム２を研磨仕上
げして充分に高い精度にする必要があるので、極
めてコスト高となつて実用的でない。
ドラム２の外周面２ａに一体に形成する構造は、
加工時に精度が出る利点がある反面、下側ドラム
２の素材がアルミニウムまたはアルミニウム合金
である為に耐摩耗性に欠け、走行中の磁気テープ
６の下側端部６ａによつてその上向き段部５が早
期に摩耗してしまう欠陥があつた。なお下側ドラ
ム２を耐摩耗性の優れた硬い材料で一体に形成す
ることも孝えられるが、下側ドラム２を研磨仕上
げして充分に高い精度にする必要があるので、極
めてコスト高となつて実用的でない。
そこで、本発明者等は蒸着等のPVDプロセス
（Physical Vapour Deposition Process）によつ
て酸化アルミニウム等の耐摩耗性金属酸化物から
成る極めて薄くしかも剥がれにくい硬質の被膜を
下側テープ案内ドラム２の上向きの螺施状段部５
に形成することに想到した。この場合、形成され
る被膜が極めて薄いために下側ドラム２の寸法精
度が許容誤差範囲に収まるので、被膜形成後に下
側ドラム２を再度にわたつて切削加工する必要が
特になく、このためコストの低減化を計ることが
できる。
（Physical Vapour Deposition Process）によつ
て酸化アルミニウム等の耐摩耗性金属酸化物から
成る極めて薄くしかも剥がれにくい硬質の被膜を
下側テープ案内ドラム２の上向きの螺施状段部５
に形成することに想到した。この場合、形成され
る被膜が極めて薄いために下側ドラム２の寸法精
度が許容誤差範囲に収まるので、被膜形成後に下
側ドラム２を再度にわたつて切削加工する必要が
特になく、このためコストの低減化を計ることが
できる。
しかしながら、上述の蒸着等のPVDプロセス
では通常PVD装置内を１０-5Torr程度に初期設
定する必要があるので、一回のプロセスあたりの
所要時間が数時間にも及ぶ。従つて、上記PVD
プロセスにおいて一回のプロセスで多数の下側テ
ープ案内ドラム２を同時に処理すれば効率が良
い。しかしながら、第４図に示すように下側テー
プ案内ドラム２の段部５の巾は下側テープ案内ド
ラム２全体の寸法に比べて極めて小さい。また、
第１図にも示されているようにPVDプロセスに
おいては蒸発源等の被着物質源からの被着物質は
放射状に近い状態で拡散される。このため、被着
物質源に対する下側テープ案内ドラム２の姿勢、
即ち相対的位置関係によつては、段部５が下側テ
ープ案内ドラム２の他の部分によつて被着物質源
１４から隠されてしまうことになるで、この段部
５に耐摩耗性酸化物の被膜が十分には形成されな
くなる。また、下側ドラム２の外周２ａよりも早
期摩耗の激しい段部５には、外周面２ａに形成さ
れる被膜の膜厚よりも数倍の厚さの膜厚の被膜を
形成する必要がある。
では通常PVD装置内を１０-5Torr程度に初期設
定する必要があるので、一回のプロセスあたりの
所要時間が数時間にも及ぶ。従つて、上記PVD
プロセスにおいて一回のプロセスで多数の下側テ
ープ案内ドラム２を同時に処理すれば効率が良
い。しかしながら、第４図に示すように下側テー
プ案内ドラム２の段部５の巾は下側テープ案内ド
ラム２全体の寸法に比べて極めて小さい。また、
第１図にも示されているようにPVDプロセスに
おいては蒸発源等の被着物質源からの被着物質は
放射状に近い状態で拡散される。このため、被着
物質源に対する下側テープ案内ドラム２の姿勢、
即ち相対的位置関係によつては、段部５が下側テ
ープ案内ドラム２の他の部分によつて被着物質源
１４から隠されてしまうことになるで、この段部
５に耐摩耗性酸化物の被膜が十分には形成されな
くなる。また、下側ドラム２の外周２ａよりも早
期摩耗の激しい段部５には、外周面２ａに形成さ
れる被膜の膜厚よりも数倍の厚さの膜厚の被膜を
形成する必要がある。
前記の問題点を解決するために、本発明は、そ
の外周面に形成されたテープ案内領域に沿つて螺
旋状に延びかつテープの側端部を案内するための
段部を有する記録再生装置用回転ヘツドドラム機
構のテープ案内ドラムの前記螺旋状段部に被膜を
形成する方法において、PVD装置内に被着物質
源及び複数のテープ案内ドラムをそれぞれ配置し
て、酸化アルミニウム、チタニア、酸化ジルコニ
ウムなどの耐摩耗性金属酸化物から成る被膜を蒸
着、イオンプレーテイング、スパツタリングなど
のPVDプロセスにより前記段部に被着形成する
ようになし、こ際、前記被着物質源を所定の仮想
中心線上に配置し、また前記段部が前記被着物質
源にほぼ対向するように前記複数のテープ案内ド
ラムを前記被着物質源から前記仮想中心線の延び
る方向に互いにほぼ等距離離すと共に前記仮想中
心線から互いにほぼ等距離離して配置し、更にま
た前記複数のテープ案内ドラムをそれぞれ自転さ
せるようにしたことを特徴とする方法に係るもの
である。
の外周面に形成されたテープ案内領域に沿つて螺
旋状に延びかつテープの側端部を案内するための
段部を有する記録再生装置用回転ヘツドドラム機
構のテープ案内ドラムの前記螺旋状段部に被膜を
形成する方法において、PVD装置内に被着物質
源及び複数のテープ案内ドラムをそれぞれ配置し
て、酸化アルミニウム、チタニア、酸化ジルコニ
ウムなどの耐摩耗性金属酸化物から成る被膜を蒸
着、イオンプレーテイング、スパツタリングなど
のPVDプロセスにより前記段部に被着形成する
ようになし、こ際、前記被着物質源を所定の仮想
中心線上に配置し、また前記段部が前記被着物質
源にほぼ対向するように前記複数のテープ案内ド
ラムを前記被着物質源から前記仮想中心線の延び
る方向に互いにほぼ等距離離すと共に前記仮想中
心線から互いにほぼ等距離離して配置し、更にま
た前記複数のテープ案内ドラムをそれぞれ自転さ
せるようにしたことを特徴とする方法に係るもの
である。
以下、本発明の一実施例を第１図〜第３図に基
づき説明する。
づき説明する。
第１図及び第２図は蒸着装置１０を示すもので
あつて、この蒸着装置１０によつて、第４図に示
すものと実質的に同一の構成である回転ヘツドド
ラムの下側テープ案内ドラム２に形成されている
例えば0.2mm程度の巾の螺施状段部５に、酸化ア
ルミニウムから成る例えば厚さ１〜５μ程度の被
膜７が以下に詳述するようにして形成される。
あつて、この蒸着装置１０によつて、第４図に示
すものと実質的に同一の構成である回転ヘツドド
ラムの下側テープ案内ドラム２に形成されている
例えば0.2mm程度の巾の螺施状段部５に、酸化ア
ルミニウムから成る例えば厚さ１〜５μ程度の被
膜７が以下に詳述するようにして形成される。
先づ蒸着装置の構成を第１図及び第２図に基づ
いて説明すると、ステンレス製などの基台１３と
同様にステンレス製などのベルジヤ型外筐２６と
によつて真空室２７が形成されている。そして真
空室２７のほぼ中央を通つて垂直に延びる仮想中
心線L0上において基台１３付近には酸化アルミ
ニウムから成る蒸着源１４が配置されている。こ
の蒸着源１４は基台１３附近に配設されたルツボ
２０内に充填され、このルツボ２０に隣接して電
子銃１５が設置されている。
いて説明すると、ステンレス製などの基台１３と
同様にステンレス製などのベルジヤ型外筐２６と
によつて真空室２７が形成されている。そして真
空室２７のほぼ中央を通つて垂直に延びる仮想中
心線L0上において基台１３付近には酸化アルミ
ニウムから成る蒸着源１４が配置されている。こ
の蒸着源１４は基台１３附近に配設されたルツボ
２０内に充填され、このルツボ２０に隣接して電
子銃１５が設置されている。
真空室２７には、中央開口１１ａを有する支持
円板１１が配設され、この支持円板１１は複数本
の支柱１２によつて基台１３に固定されている。
基台１３及び支持円板１１には、既述の仮想中心
線L0に対してほぼ平行に延びる従動軸２２が軸
受３１及び３２を介して回転自在に支持され、こ
の従動軸２２の下端に取付けられた傘歯車２３に
は、モータなどによつて駆動される駆動軸２５に
取付けられた傘歯車２４が噛み合つている。
円板１１が配設され、この支持円板１１は複数本
の支柱１２によつて基台１３に固定されている。
基台１３及び支持円板１１には、既述の仮想中心
線L0に対してほぼ平行に延びる従動軸２２が軸
受３１及び３２を介して回転自在に支持され、こ
の従動軸２２の下端に取付けられた傘歯車２３に
は、モータなどによつて駆動される駆動軸２５に
取付けられた傘歯車２４が噛み合つている。
従動軸２２の上端付近にはスプロケツト１９が
取付けられ、このスプロケツト１９に掛けられて
いるエンドレスチエーン２１は６つのスプロケツ
ト１７にもそれぞれ掛けられている。そしてこれ
らのスプロケツト１７は、その中間部分を支持円
板１１に軸受１６を介してそれぞれ回転自在に支
持されている回転軸１８の下端に取付けられ、ま
た既述の仮想中心線L0からほぼ等距離の位置に
互いに等角度を成すように配置されている。
取付けられ、このスプロケツト１９に掛けられて
いるエンドレスチエーン２１は６つのスプロケツ
ト１７にもそれぞれ掛けられている。そしてこれ
らのスプロケツト１７は、その中間部分を支持円
板１１に軸受１６を介してそれぞれ回転自在に支
持されている回転軸１８の下端に取付けられ、ま
た既述の仮想中心線L0からほぼ等距離の位置に
互いに等角度を成すように配置されている。
回転軸１８の上端には、その下端に支持用つば
部３５ａを有する円筒状のドラム支持体３５が嵌
合されている。そしてごドラム支持体３５に下側
テープ案内ドラム２を上下を逆向きにして嵌合さ
せてから、固定用ボルト３６によつて、下側ドラ
ム２をドラム支持体３５に押し付ける押え板３７
をドラム支持体３５に取付けるようにしている。
次に以上の構成による蒸着装置１０を用いて下側
テープ案内ドラム２に酸化アルミニウムから成る
被膜７を形成する方法について述べると、まず６
つのドラム支持体３５にそれぞれアルミニウム又
はアルミニウム合金から成る下側ドラム２を上下
を逆向きにして嵌合させ、次いで固定用ボルト３
６によつて押え板３７をドラム支持体３５にそれ
ぞれ取付けて、下側ドラム２を押え板３７によつ
てドラム支持体３５に押し付けることにより固定
する。この場合、６つの下側ドラム２は蒸着源１
４から既述の仮想中心線L0の延びる垂直方向に
充分離れており、またこの中心線L0に対して等
距離の位置にほぼ対称的に配置され、しかも互い
に等角度を成している。従つて蒸着源１４を頂点
とし、仮想中心線L0を回転軸とし、６つの下側
ドラム２を結ぶ円形を底面とする回転体を想定す
ると、この回転体はほぼ逆円錐形となる。またこ
の状態においては、下側ドラム２に螺旋状段部５
の一部が支持円板１１の中央開口１１ａを介して
蒸発源１４とほぼ対向している。
部３５ａを有する円筒状のドラム支持体３５が嵌
合されている。そしてごドラム支持体３５に下側
テープ案内ドラム２を上下を逆向きにして嵌合さ
せてから、固定用ボルト３６によつて、下側ドラ
ム２をドラム支持体３５に押し付ける押え板３７
をドラム支持体３５に取付けるようにしている。
次に以上の構成による蒸着装置１０を用いて下側
テープ案内ドラム２に酸化アルミニウムから成る
被膜７を形成する方法について述べると、まず６
つのドラム支持体３５にそれぞれアルミニウム又
はアルミニウム合金から成る下側ドラム２を上下
を逆向きにして嵌合させ、次いで固定用ボルト３
６によつて押え板３７をドラム支持体３５にそれ
ぞれ取付けて、下側ドラム２を押え板３７によつ
てドラム支持体３５に押し付けることにより固定
する。この場合、６つの下側ドラム２は蒸着源１
４から既述の仮想中心線L0の延びる垂直方向に
充分離れており、またこの中心線L0に対して等
距離の位置にほぼ対称的に配置され、しかも互い
に等角度を成している。従つて蒸着源１４を頂点
とし、仮想中心線L0を回転軸とし、６つの下側
ドラム２を結ぶ円形を底面とする回転体を想定す
ると、この回転体はほぼ逆円錐形となる。またこ
の状態においては、下側ドラム２に螺旋状段部５
の一部が支持円板１１の中央開口１１ａを介して
蒸発源１４とほぼ対向している。
次に図外の真空装置によつて真空室２７を
10-5Torr程度の真空にする。またこの前後に、
テープ案内ドラム２を自転させるために駆動軸２
５を回転させる。なお駆動軸２５の回転は傘歯車
２４及び２３、従動軸２２、スプロケツト１９、
エンドレスチエーン２１、スプロケツト１７、回
転軸１８及びドラム支持体３５を順次介して下側
ドラム２に伝達されるので、下側ドラム２は例え
ば10r.P.m.程度の定速度で自転する。従つて中央
開口１１ａを介して蒸発源１４と対向する下側ド
ラム２の段部５の部分は順次入れ変わることにな
るので、下側ドラム２の一回転中には、そのほぼ
全周に亘つて螺旋状に形成されている段部５の全
部が蒸発源１４と対向することになる。
10-5Torr程度の真空にする。またこの前後に、
テープ案内ドラム２を自転させるために駆動軸２
５を回転させる。なお駆動軸２５の回転は傘歯車
２４及び２３、従動軸２２、スプロケツト１９、
エンドレスチエーン２１、スプロケツト１７、回
転軸１８及びドラム支持体３５を順次介して下側
ドラム２に伝達されるので、下側ドラム２は例え
ば10r.P.m.程度の定速度で自転する。従つて中央
開口１１ａを介して蒸発源１４と対向する下側ド
ラム２の段部５の部分は順次入れ変わることにな
るので、下側ドラム２の一回転中には、そのほぼ
全周に亘つて螺旋状に形成されている段部５の全
部が蒸発源１４と対向することになる。
次いで電子銃１５によつて電子ビーム２８を発
射させると共に電子ビーム２８に図外の装置によ
つて磁界をかけて電子ビーム２８の進行方向を
180度偏向させる。従つて電子ビーム２８は蒸発
源１４にほぼ真上から入射して蒸発源１４を極め
て高温に加熱するので、この加熱された蒸発源１
４から耐摩耗性酸化物が蒸発する。蒸発した耐摩
耗性酸化物は円板１１の開口１１ａを通り抜けて
下側ドラム２に付着して耐摩耗性酸化物の被膜７
を形成する。なお第１図に示すように、下側ドラ
ム２の螺旋状段部５は蒸発源１４に対してほぼ対
向しているが、下側ドラム２の外周面２ａは蒸着
源１４に向かう方向に対してほぼ平行になるの
で、第３図に示すように下側ドラム２の外周面２
ａには被膜７はほとんど形成されず、螺旋状段部
５及びこれとほぼ同方向を向いている上端面３８
等に主として被膜７が形成される。また、蒸発源
１４から等距離でかつ蒸発源１４に対して同一方
向に向いている２つの面に形成される被膜７の膜
厚を比べると、その大きさは、第１図に示すよう
に、仮想中心線L0に対してなす蒸発角θにほぼ
反比例することが実験で確かめられた。
射させると共に電子ビーム２８に図外の装置によ
つて磁界をかけて電子ビーム２８の進行方向を
180度偏向させる。従つて電子ビーム２８は蒸発
源１４にほぼ真上から入射して蒸発源１４を極め
て高温に加熱するので、この加熱された蒸発源１
４から耐摩耗性酸化物が蒸発する。蒸発した耐摩
耗性酸化物は円板１１の開口１１ａを通り抜けて
下側ドラム２に付着して耐摩耗性酸化物の被膜７
を形成する。なお第１図に示すように、下側ドラ
ム２の螺旋状段部５は蒸発源１４に対してほぼ対
向しているが、下側ドラム２の外周面２ａは蒸着
源１４に向かう方向に対してほぼ平行になるの
で、第３図に示すように下側ドラム２の外周面２
ａには被膜７はほとんど形成されず、螺旋状段部
５及びこれとほぼ同方向を向いている上端面３８
等に主として被膜７が形成される。また、蒸発源
１４から等距離でかつ蒸発源１４に対して同一方
向に向いている２つの面に形成される被膜７の膜
厚を比べると、その大きさは、第１図に示すよう
に、仮想中心線L0に対してなす蒸発角θにほぼ
反比例することが実験で確かめられた。
従つて第１図及び第２図に示すように６つの下
側ドラム２を仮想中心線L0に対して対称的に配
置しかつこれらのドラム２を自転させることによ
つて、それぞれのドラムの螺旋状段部５の全体に
わたつて耐摩耗性酸化物から成る被膜７をほぼ均
一に形成することができる。
側ドラム２を仮想中心線L0に対して対称的に配
置しかつこれらのドラム２を自転させることによ
つて、それぞれのドラムの螺旋状段部５の全体に
わたつて耐摩耗性酸化物から成る被膜７をほぼ均
一に形成することができる。
なお以上のように構成されている蒸着装置１０
において、下側ドラム２の段部５に対する蒸発角
θを小さくすると、下側ドラム２の段部５に形成
される被膜７の膜厚は外周面２ａに形成される被
膜７の膜厚よりも充分大きくなる。しかしなが
ら、蒸発角θを小さくするためには、下側ドラム
２を互いに接近させなければならず、そのために
は一括してPVDプロセスを施す下側ドラム２の
数量を減らさなければならない。一方、一括して
PVDプロセスを施す下側ドラム２の数量を増や
すために下側ドラム２の段部５に対する蒸発角θ
を大きくすると、下側ドラム２の段部５に形成さ
れる被膜７の膜厚を外周面２ａに形成される被膜
７の膜厚よりも充分大きくすることができなくな
る。このことは、下側ドラム２の最も早期摩耗の
激しい部分である螺旋状段部５に被着形成される
耐摩耗性金属酸化物から成る被膜７の膜厚を、早
期摩耗の激しくない部分である外周面２ａのそれ
よりも充分大きくすることができないことを意味
している。従つて下側ドラム２の段部５に形成さ
れる被膜７の膜厚が外周面２ａのそれよりも大き
く、しかも或る程度の数量の下側ドラム２に対し
て一括してPVDプロセスを施すことができる蒸
発角θを設定すること重要である。そこで、本実
施例では、６個の下側ドラム２に対して一括して
PVDプロセスを施すようにすると共に、螺旋状
段部５に形成される被膜の膜厚が外周面２ａに形
成される被膜７の膜厚の５〜６倍になるように、
下側ドラム２の段部５に対する蒸発角θを10〜15
度の範囲内に設定している。
において、下側ドラム２の段部５に対する蒸発角
θを小さくすると、下側ドラム２の段部５に形成
される被膜７の膜厚は外周面２ａに形成される被
膜７の膜厚よりも充分大きくなる。しかしなが
ら、蒸発角θを小さくするためには、下側ドラム
２を互いに接近させなければならず、そのために
は一括してPVDプロセスを施す下側ドラム２の
数量を減らさなければならない。一方、一括して
PVDプロセスを施す下側ドラム２の数量を増や
すために下側ドラム２の段部５に対する蒸発角θ
を大きくすると、下側ドラム２の段部５に形成さ
れる被膜７の膜厚を外周面２ａに形成される被膜
７の膜厚よりも充分大きくすることができなくな
る。このことは、下側ドラム２の最も早期摩耗の
激しい部分である螺旋状段部５に被着形成される
耐摩耗性金属酸化物から成る被膜７の膜厚を、早
期摩耗の激しくない部分である外周面２ａのそれ
よりも充分大きくすることができないことを意味
している。従つて下側ドラム２の段部５に形成さ
れる被膜７の膜厚が外周面２ａのそれよりも大き
く、しかも或る程度の数量の下側ドラム２に対し
て一括してPVDプロセスを施すことができる蒸
発角θを設定すること重要である。そこで、本実
施例では、６個の下側ドラム２に対して一括して
PVDプロセスを施すようにすると共に、螺旋状
段部５に形成される被膜の膜厚が外周面２ａに形
成される被膜７の膜厚の５〜６倍になるように、
下側ドラム２の段部５に対する蒸発角θを10〜15
度の範囲内に設定している。
以上、本発明の実施例について説明したが、本
発明の技術的思想から逸脱しない限り、上記実施
例において種々の変更や修正が可能である。例え
ば、下側ドラム２を回転させるための回転軸１８
は特に垂直に配置される必要はなく、必要に応じ
て或る程度傾斜していてもよい。また、既述の実
施例では、PVDプロセスを施すのに蒸着装置１
０を用いているが、スパツタリング、イオンプレ
ーテイング等を施す装置を用いてもよい。また、
既述の実施例では、下側ドラム２と蒸発源１４と
の間に支持円板１１を介在させているが、この支
持円板１１を下側ドラム２の上方に配置して下側
ドラム２が支持円板１１から懸垂されるように構
成してもよい。また、既述の実施例では、下側ド
ラム２の運動は自転のみであるが、公転が加わつ
てもよく、この場合には、支持円板１１が回転駆
動されるように構成すると共に下側ドラム２を自
転させるための駆動機構も支持円板１１と共に回
転駆動されるようにすればよい。
発明の技術的思想から逸脱しない限り、上記実施
例において種々の変更や修正が可能である。例え
ば、下側ドラム２を回転させるための回転軸１８
は特に垂直に配置される必要はなく、必要に応じ
て或る程度傾斜していてもよい。また、既述の実
施例では、PVDプロセスを施すのに蒸着装置１
０を用いているが、スパツタリング、イオンプレ
ーテイング等を施す装置を用いてもよい。また、
既述の実施例では、下側ドラム２と蒸発源１４と
の間に支持円板１１を介在させているが、この支
持円板１１を下側ドラム２の上方に配置して下側
ドラム２が支持円板１１から懸垂されるように構
成してもよい。また、既述の実施例では、下側ド
ラム２の運動は自転のみであるが、公転が加わつ
てもよく、この場合には、支持円板１１が回転駆
動されるように構成すると共に下側ドラム２を自
転させるための駆動機構も支持円板１１と共に回
転駆動されるようにすればよい。
以上に述べたように、本発明によれば、テープ
案内ドラムにおけるテープ側端部案内用の螺旋状
段部に耐摩耗性酸化物から成る被膜を形成するよ
うにしたので、螺旋状段部の耐摩耗性が向上し、
その耐久性を飛躍的に向上させたテープ案内ドラ
イブギヤを得ることができる。
案内ドラムにおけるテープ側端部案内用の螺旋状
段部に耐摩耗性酸化物から成る被膜を形成するよ
うにしたので、螺旋状段部の耐摩耗性が向上し、
その耐久性を飛躍的に向上させたテープ案内ドラ
イブギヤを得ることができる。
また、耐摩耗性酸化物から成る被膜をPVDプ
ロセスによつてテープ案内ドラムの螺旋状段部に
形成するようにしたので、均一でかつ極めて薄く
しかも剥れにくい被膜を形成することができ、従
つてテープ案内ドラムに被膜を形成した後に特に
寸法精度の調整をしなくても、テープ案内ドラム
の寸法精度を許容誤差範囲内に収めることがで
き、従つて、仕上げの切削加工を特に行う必要が
ない。
ロセスによつてテープ案内ドラムの螺旋状段部に
形成するようにしたので、均一でかつ極めて薄く
しかも剥れにくい被膜を形成することができ、従
つてテープ案内ドラムに被膜を形成した後に特に
寸法精度の調整をしなくても、テープ案内ドラム
の寸法精度を許容誤差範囲内に収めることがで
き、従つて、仕上げの切削加工を特に行う必要が
ない。
また、複数のテープ案内ドラムをその段部が被
着物質源にほぼ対向するように配置したので、前
記段部に形成される被膜の膜厚をテープ案内ドラ
ムの外周面のそれよりも大きくすることができ
る。
着物質源にほぼ対向するように配置したので、前
記段部に形成される被膜の膜厚をテープ案内ドラ
ムの外周面のそれよりも大きくすることができ
る。
また前記複数のテープ案内ドラムを前記被着物
質源から前記仮想中心線の延びる方向に互いにほ
ぼ等距離離すと共にかつ前記仮想中心線から互い
にほぼ等距離離して配置し、更にまた前記複数の
テープ案内ドラムをそれぞれ自転させるようにし
たので、PVDプロセスを施すための装置の限ら
れた内部空間内で、複数のテープ案内ドラムのそ
れぞれの螺旋状段部に耐摩耗性金属酸化物の被膜
を万遍なく一様にしかも能率的に形成することが
できる。
質源から前記仮想中心線の延びる方向に互いにほ
ぼ等距離離すと共にかつ前記仮想中心線から互い
にほぼ等距離離して配置し、更にまた前記複数の
テープ案内ドラムをそれぞれ自転させるようにし
たので、PVDプロセスを施すための装置の限ら
れた内部空間内で、複数のテープ案内ドラムのそ
れぞれの螺旋状段部に耐摩耗性金属酸化物の被膜
を万遍なく一様にしかも能率的に形成することが
できる。
第１図〜第３図は本発明の一実施例を示すもの
であつて、第１図は蒸着装置の縦断面図、第２図
は第１図の−線断面図、第３図は下側テープ
案内ドラムの一部分の縦断面図、第４図は本発明
を適用し得る従来の一般的な回転ヘツドドラム機
構の斜視図である。 なお、図面に用いられた符号において、１……
回転ヘツドドラム機構、２……下側テープ案内ド
ラム、５……螺旋状段部、１０……蒸着装置、１
１……支持円板、１４……蒸発源、である。
であつて、第１図は蒸着装置の縦断面図、第２図
は第１図の−線断面図、第３図は下側テープ
案内ドラムの一部分の縦断面図、第４図は本発明
を適用し得る従来の一般的な回転ヘツドドラム機
構の斜視図である。 なお、図面に用いられた符号において、１……
回転ヘツドドラム機構、２……下側テープ案内ド
ラム、５……螺旋状段部、１０……蒸着装置、１
１……支持円板、１４……蒸発源、である。
Claims (1)
- １ その外周面に形成されたテープ案内領域に沿
つて螺旋状に延びかつテープの側端部を案内する
ための段部を有する記録再生装置用回転ヘツドド
ラム機構のテープ案内ドラムの前記螺旋状段部に
被膜を形成する方法において、PVD装置内に被
着物質源及び複数のテープ案内ドラムをそれぞれ
配置して、耐摩耗性金属酸化物から成る被膜を
PVDプロセスにより前記段部に被着形成するよ
うになし、この際、前記被着物質源を所定の仮想
中心線上に配置し、また前記段部が前記被着物質
源にほぼ対向するように前記複数のテープ案内ド
ラムを前記被着物質源から前記仮想中心線の延び
る方向に互いにほぼ等距離離すと供に前記仮想中
心線から互いにほぼ等距離離して配置し、更にま
た前記複数のテープ案内ドラムをそれぞれ自転さ
せるようにしたことを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27914384A JPS61158060A (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 | 記録再生装置用回転ヘツドドラム機構のテ−プ案内ドラムに被膜を形成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27914384A JPS61158060A (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 | 記録再生装置用回転ヘツドドラム機構のテ−プ案内ドラムに被膜を形成する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61158060A JPS61158060A (ja) | 1986-07-17 |
| JPH0465464B2 true JPH0465464B2 (ja) | 1992-10-20 |
Family
ID=17607035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27914384A Granted JPS61158060A (ja) | 1984-12-29 | 1984-12-29 | 記録再生装置用回転ヘツドドラム機構のテ−プ案内ドラムに被膜を形成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61158060A (ja) |
-
1984
- 1984-12-29 JP JP27914384A patent/JPS61158060A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61158060A (ja) | 1986-07-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |