JPH0465496A - Flux-cleaning agent - Google Patents
Flux-cleaning agentInfo
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- JPH0465496A JPH0465496A JP17617290A JP17617290A JPH0465496A JP H0465496 A JPH0465496 A JP H0465496A JP 17617290 A JP17617290 A JP 17617290A JP 17617290 A JP17617290 A JP 17617290A JP H0465496 A JPH0465496 A JP H0465496A
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- polyoxyethylene
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- flux
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハンダ接合時にハンダと基材との接合力を強
める為に塗布されるフラックスをハンダ接合後に除去す
る為のフラックス洗浄剤に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a flux cleaning agent for removing flux applied during solder bonding to strengthen the bonding force between the solder and a base material after solder bonding.
従来、電機・電子産業分野では、プリント回路又はプリ
ント配線板製造工程において、ハンダと基材とを強固に
固着させる為に予めフラックスを塗布している。このフ
ラックスは、プリント回路又はプリント配線板に残存す
ると導電不良或は腐食の原因となる為、通常、ハンダ付
は終了後には有機系洗浄剤によって、洗浄除去されてい
る。この洗浄剤として、従来からフロン113或はメチ
ルクロロホルムが使用されてきている。これらの溶剤は
フラックスに対する溶解力が大きく、不燃性であること
から広範囲に使用されている。Conventionally, in the electrical and electronic industries, flux is applied in advance to firmly bond solder and base material in the printed circuit or printed wiring board manufacturing process. If this flux remains on the printed circuit or printed wiring board, it will cause poor conductivity or corrosion, so it is usually washed off with an organic cleaning agent after soldering. Freon 113 or methyl chloroform has conventionally been used as this cleaning agent. These solvents have a great ability to dissolve flux and are nonflammable, so they are widely used.
しかし、社会的な環境問題に対する意識の高まりの中で
環境破壊性物質の大気及び水系への排出規制の動きか出
てきている。例えば、フロン系溶剤(特定フロン5種:
CFCII、 CFCl2. CFCII3. CF
CI 14゜CFCII5)やメチルクロロホルムは、
オゾン層破壊物質として、その使用か制限されつつある
。However, as society's awareness of environmental issues increases, there is a movement toward regulating the release of environmentally destructive substances into the atmosphere and water systems. For example, fluorocarbon solvents (5 types of specified fluorocarbons:
CFCII, CFCl2. CFCII3. C.F.
CI 14°CFCII5) and methyl chloroform,
Its use is being restricted as it is an ozone layer depleting substance.
かかる状況において、フロン113或はメチルクロロホ
ルムを使用している産業界では、−日も早く、これら溶
剤に代わるフラックス洗浄剤か求められているのか実状
である。Under these circumstances, industries that use Freon 113 or methyl chloroform are rapidly seeking flux cleaning agents that can replace these solvents.
本発明者らは、フラックス洗浄剤に用いられるフロン1
13或はメチルクロロホルムに代わる洗浄剤の研究を重
ねた結果、ノニオン系界面活性剤、及び
一般式(I)
HOOC(CH2>4 CDOR(I )(式中、Rは
炭素数1及び2のアルキル基を示す)で表されるアジピ
ン酸エステルの一種又は二種を必須成分として含む組成
物が、従来のフラックス洗浄剤(フロン113及びメチ
ルクロロホルム)に匹敵する程の高い洗浄性能及び仕上
がり性の良さを示す洗浄剤であることを見出し、この知
見に基ついて本発明をなすに至った。The present inventors have discovered that Freon 1 used in flux cleaning agents.
13 or as a result of repeated research on detergents to replace methyl chloroform, nonionic surfactants and compounds with the general formula (I) HOOC(CH2>4 CDOR(I) (wherein R is an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms) A composition containing one or two types of adipate esters represented by (group) as an essential component has high cleaning performance and good finish comparable to conventional flux cleaning agents (Freon 113 and methyl chloroform). It was discovered that the cleaning agent exhibits the following properties, and based on this knowledge, the present invention was completed.
すなわち、本発明は、
(1)ノニオン系界面活性剤、及び
(2)−船蔵(I)
HOOC−(CH2)4−COOR(I )(式中、R
は炭素数1及び2のアルキル基を示す)で表されるアジ
ピン酸エステルの一種又は二種、を必須成分として含む
ことを特徴とするフラックス洗浄剤である。That is, the present invention provides: (1) a nonionic surfactant;
is an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms) as an essential component.
本発明に用いるノニオン系界面活性剤の濃度は1〜30
重量%の範囲にあることが好ましい。The concentration of the nonionic surfactant used in the present invention is 1 to 30
Preferably, it is in the range of % by weight.
本発明に用いるノニオン系界面活性剤としては、例えば
、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエ
チレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリル
エーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポ
リオキシエチレンアルキルエーテル;ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフ
ェニルエーテル;ポリオキシエチレンポリオキシプロピ
レンブロックポリマー、ポリオキシソルビタン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレン脂肪酸
アミド等のポリオキシエチレン誘導体;ソルビタン脂肪
酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル等が挙げられる
。これらはそれぞれ単独でも用いることが可能であるが
、好ましくは二種類以上の組み合わせが用いられる。Examples of nonionic surfactants used in the present invention include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene nonylphenyl Ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether such as polyoxyethylene octylphenyl ether; polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer, polyoxysorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine, polyoxyethylene fatty acid amide, etc. polyoxyethylene derivatives; examples include sorbitan fatty acid esters and glycerin fatty acid esters. Although each of these can be used alone, a combination of two or more types is preferably used.
より好ましくはポリオキシエチレンアルキルエーテル或
はポリオキシエチレン脂肪酸エステル等のポリオキシエ
チレン系のノニオン系界面活性剤か一種類以上含まれる
組み合わせが用いられる。ポリオキシエチレン系のノニ
オン系界面活性剤におけるエチレンオキサイド部分の付
加モル数は3〜40が好ましく、より好ましくはlO〜
20である。More preferably, a combination containing one or more polyoxyethylene-based nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ether or polyoxyethylene fatty acid ester is used. The number of moles of the ethylene oxide moiety added in the polyoxyethylene nonionic surfactant is preferably 3 to 40, more preferably lO to 40.
It is 20.
本発明に用いられるアジピン酸エステルの濃度は、50
〜99重量%の範囲にあることが好ましい。The concentration of adipate ester used in the present invention is 50
It is preferably in the range of 99% by weight.
本発明に用いられるアジピン酸エステルとしては、アジ
ピン酸モノメチル及びアジピン酸モノエチルが挙げられ
る。これらはそれぞれ単独または2種類を組み合わせて
用いられる。Adipate esters used in the present invention include monomethyl adipate and monoethyl adipate. These may be used alone or in combination.
本発明における必須成分の組み合わせは、被洗物の材質
及び形態、汚れの種類等に応じて、任意に変えることが
可能である。必須成分の内、どちらか一方でも欠けると
、フラックス洗浄性能或は水リンス性が悪くなることに
よる仕上がりの悪化が起こる。又、必須成分2種類の組
み合わせによって始めて環境に対して安全てしかも労働
衛生上も問題がなく、従来のフロン系及び塩素系のフラ
ックス洗浄能力に匹敵する実用的な洗浄剤が得られるも
のであご。更に、本発明の組成物に液の安定性の保持や
被洗物に対する安定性を向上させる為に或は溶解力向上
の為に種々の安定剤及び添加剤を加えることが可能であ
る。安定剤及び添加剤としては例えば、炭化水素類、ア
ルコール類、エーテル類、アセタール類、エステル類、
ケトン類、脂肪酸類、ニトロアルカン類、アミン類、ア
ミド類、グリコール類、アミノエタノール類、ベンゾト
リアゾール類等が挙げられる。The combination of essential components in the present invention can be arbitrarily changed depending on the material and form of the object to be washed, the type of dirt, etc. If any one of the essential components is missing, the finish will deteriorate due to poor flux cleaning performance or water rinsing performance. In addition, by combining two essential ingredients, it is possible to obtain a practical cleaning agent that is safe for the environment, poses no problems in terms of occupational hygiene, and is comparable in cleaning ability to conventional fluorocarbon-based and chlorine-based fluxes. . Furthermore, it is possible to add various stabilizers and additives to the composition of the present invention in order to maintain the stability of the liquid and improve the stability against the objects to be washed, or to improve the dissolving power. Examples of stabilizers and additives include hydrocarbons, alcohols, ethers, acetals, esters,
Examples include ketones, fatty acids, nitroalkanes, amines, amides, glycols, aminoethanols, benzotriazoles, and the like.
更に本発明の組成物にアニオン系界面活性剤やカチオン
系界面活性剤を必要に応じて添加することも可能である
。Furthermore, it is also possible to add an anionic surfactant or a cationic surfactant to the composition of the present invention, if necessary.
以下、本発明を実施例及び比較例によって具体的に説明
する。実施例及び比較例における洗浄方法は次の通りで
ある。Hereinafter, the present invention will be specifically explained using Examples and Comparative Examples. The cleaning methods in Examples and Comparative Examples are as follows.
実施例における洗浄方法(第1図)
■ 本発明の組成物を仕込んだ超音波洗浄機(ヤマド科
学(at製、商品名: BRANSONIC220)2
槽(第一槽、第二槽)と水リンス槽2槽(第三槽、第四
槽)を用意し、洗浄槽の温度を40°Cとした。Cleaning method in Examples (Fig. 1) ■ Ultrasonic cleaner (manufactured by Yamado Scientific Co., Ltd., product name: BRANSONIC220) containing the composition of the present invention 2
A water rinsing tank (first tank, second tank) and two water rinsing tanks (third tank, fourth tank) were prepared, and the temperature of the washing tank was set to 40°C.
尚、水リンス槽の温度は室温とした。In addition, the temperature of the water rinsing tank was set to room temperature.
■ 被洗物(ガラスエポキシ製プリント基板)に各種フ
ラックス(タムラ製作所製、商品名:フラックスF−2
30V及びMH−320V)を塗布し、溶融ハンダ槽(
260°C)で5秒間ハンダ付は作業を行った。■ Apply various types of flux (manufactured by Tamura Seisakusho, product name: Flux F-2) to the item to be washed (glass epoxy printed circuit board).
30V and MH-320V) and melted solder bath (
Soldering was carried out at 260°C for 5 seconds.
■ 被洗物を第一槽に1分間、続いて第二槽に1分間浸
漬して、超音波洗浄を行った。■ The items to be washed were immersed in the first tank for 1 minute and then in the second tank for 1 minute to perform ultrasonic cleaning.
■ 次に被洗物を第三槽と第四槽に各1分間、順番に浸
し、それぞれ被洗物を軽く揺動させて水リンスを行った
。(2) Next, the items to be washed were sequentially immersed in the third tank and the fourth tank for 1 minute each, and the items to be washed were lightly shaken for water rinsing.
■ 最後に110°Cに設定された乾燥機で被洗物を乾
燥させた(乾燥時間5分間)。■ Finally, the items to be washed were dried in a dryer set at 110°C (drying time: 5 minutes).
■ オメガメーターにより、プリント基板上のイオン分
残査を測定した。■ Ion residue on the printed circuit board was measured using an omega meter.
比較例における洗浄方法(第2図)
(揮発性溶剤を用いた場合)
■ 冷却管を備えた容量100(Wの硬質ガラス製洗浄
器3台(第一槽、第二槽、第三槽)を用意し、各種に比
較溶剤300イをいれ、第一槽を沸騰槽(比較溶剤の沸
点の温度)、第二槽を冷浴槽(室温)、第三槽を蒸気槽
(比較溶剤の沸点の温度)とした。Cleaning method in comparative example (Figure 2) (When volatile solvent is used) ■ Three hard glass washers (1st tank, 2nd tank, 3rd tank) with a capacity of 100 (W) equipped with cooling pipes Prepare 300 μl of comparative solvent in each type, set the first tank to a boiling tank (temperature at the boiling point of the comparative solvent), the second tank to a cold bath (room temperature), and the third tank to a steam tank (temperature at the boiling point of the comparative solvent). temperature).
■ 前期の被洗物を各種に順番に1分間浸漬した(但し
、第三槽では被洗物を蒸気層へ入れたたけ)。■ Each item to be washed in the previous period was immersed in order for 1 minute (however, in the third tank, the items to be washed were placed in the steam layer).
■ その後、オメガメーターにより、プリント基板上の
イオン分残査を測定した。■ Thereafter, the ion content remaining on the printed circuit board was measured using an omega meter.
尚、比較例で高沸系溶剤を用いる場合は“実施例におけ
る洗浄方法″に準じた。In addition, when using a high-boiling solvent in the comparative example, the "cleaning method in the example" was followed.
実施例1〜5 第1表に示す組成物について洗浄実験を行った。Examples 1-5 A cleaning experiment was conducted on the compositions shown in Table 1.
その結果を第4表に示す。The results are shown in Table 4.
比較例1,2 第2表に示す溶剤について洗浄実験を行った。Comparative examples 1 and 2 Cleaning experiments were conducted using the solvents shown in Table 2.
その結果を第4表に示す。The results are shown in Table 4.
比較例3,4 第3表に示す溶剤について洗浄実験を行った。Comparative examples 3 and 4 Cleaning experiments were conducted using the solvents listed in Table 3.
その結果を第4表に示す。The results are shown in Table 4.
以下余白
〔発明の効果〕
本発明のフラックス洗浄剤は、従来のフロン系及び塩素
系溶剤に匹敵する洗浄性能及び仕上がり性の良さを有し
、しかも、オゾンを破壊することなく、更に生物分解性
が高い為に、排水中に混入した場合でも、通常の微生物
処理等により容易に分解させることが可能である。従っ
て、排水によって水系環境を汚染させる心配もない。ま
た、低毒性及び高引火点である為、非常に安全な洗浄溶
剤である。Margins below [Effects of the Invention] The flux cleaning agent of the present invention has cleaning performance and finish quality comparable to conventional fluorocarbon-based and chlorinated solvents, and also does not destroy ozone and is biodegradable. Even if it gets mixed into wastewater, it can be easily decomposed by normal microbial treatment. Therefore, there is no need to worry about contaminating the aquatic environment due to wastewater. It is also a very safe cleaning solvent due to its low toxicity and high flash point.
従って、本発明のフラックス洗浄剤は実用上、従来のフ
ロン系及び塩素系溶剤を代替する優れたフラックス洗浄
剤である。Therefore, the flux cleaning agent of the present invention is practically an excellent flux cleaning agent that can replace conventional fluorocarbon-based and chlorinated solvents.
第1図は実施例の洗浄剤を用いた被洗物の洗浄方法の概
略図、第2図は比較例の発揮性溶剤を用いた被洗物の洗
浄方法の概略図である。
特許出願人 旭化成工業株式会社FIG. 1 is a schematic diagram of a method of cleaning an object to be washed using a cleaning agent of an example, and FIG. 2 is a schematic diagram of a method of cleaning an object to be washed using a volatile solvent of a comparative example. Patent applicant: Asahi Kasei Industries, Ltd.
Claims (2)
されるアジピン酸エステルの一種又は二種、を必須成分
として含むことを特徴とするフラックス洗浄剤。(2) General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R represents an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms) One or two types of adipate esters are required. A flux cleaning agent characterized by containing it as an ingredient.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17617290A JPH0465496A (en) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | Flux-cleaning agent |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17617290A JPH0465496A (en) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | Flux-cleaning agent |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0465496A true JPH0465496A (en) | 1992-03-02 |
Family
ID=16008923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17617290A Pending JPH0465496A (en) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | Flux-cleaning agent |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0465496A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5605881A (en) * | 1993-09-03 | 1997-02-25 | Minolta Co., Ltd. | Cleaning liquid for recycling copy medium for electrophotography |
| US5612302A (en) * | 1993-01-08 | 1997-03-18 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Cleaning solution for recycling recording member having toner images |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP17617290A patent/JPH0465496A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5612302A (en) * | 1993-01-08 | 1997-03-18 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Cleaning solution for recycling recording member having toner images |
| US5605881A (en) * | 1993-09-03 | 1997-02-25 | Minolta Co., Ltd. | Cleaning liquid for recycling copy medium for electrophotography |
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