JPH0465862B2 - - Google Patents
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- JPH0465862B2 JPH0465862B2 JP59051038A JP5103884A JPH0465862B2 JP H0465862 B2 JPH0465862 B2 JP H0465862B2 JP 59051038 A JP59051038 A JP 59051038A JP 5103884 A JP5103884 A JP 5103884A JP H0465862 B2 JPH0465862 B2 JP H0465862B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- parts
- tinuvin
- weather resistance
- polyoxymethylene
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は、耐候性の優れたポリオキシメチレン
組成物に関するものであり、更に詳しくは、特定
のベンゾトリアゾールとヒンダードアミンの併用
添加により耐候性を改良したポリオキシメチレン
組成物に関するものである。 ポリオキシメチレンは、その優れた強度、摩擦
摩耗特性、耐疲労特性、クリープ特性、電気特
性、寸法性などの故に、歯車、軸受などの機械部
品、電気部品に広く使用されている。しかしなが
ら耐候性においてやゝ劣り、特に着色品の場合長
期に日光に曝すと表面においてポリオキシメチレ
ンが光エネルギーにより分子切断される為白化現
象及びクレージングを起し、目立ち易いことか
ら、成形品の外観を著しく低下させ、さらに著し
い場合は機械的強度低下を起し実用に耐えない。 従つてこうした日光に対する抵抗性つまり耐候
性を改良することによつて、自動車などの高度な
耐候性が要求される分野へ用途拡大できることは
必至である。 従来、ポリオキシメチレンの耐候性を改良する
方法として、紫外線吸収剤、例えばベンゾフエノ
ン系、ベンゾトリアゾール系などを添加する方
法、紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤
を併用する方法があるが、耐候性はまだ十分でな
い。またこれらの方法で十分な耐候性を得ようと
すれば、非常に多量の添加剤を添加しなければな
らず、添加剤のブリードなどによる外観不良、添
加剤による熱安定性、機械的強度低下などの問題
を生じ実用的でない。 本発明者らはこうした事に鑑み、ポリオキシメ
チレンの耐候性向上に対し鋭意研究の結果、ある
一種のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤とヒン
ダードアミン系光安定剤との組合せが特異的にポ
リオキシメチレンの耐候性を向上させることを発
見し、今発明に至つた。 すなわち本発明はポリオキシメチレンとそれの
100重量部に対し、構造式 で表わされるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
0.01〜４重量部好ましくは0.05〜２重量部と、１
種あるいは２種以上のヒンダードアミン系光安定
剤0.01〜３重量部、好ましくは0.05〜1.5重量部を
併用含有したポリオキシメチレン組成物である。
また上記以外の紫外線吸収剤の併用も可能である
が、全紫外線吸収剤量から見れば効果は減ずる。
紫外線吸収剤の量が、この範囲より少なければ、
耐候性を向上させる効果が不充分であり、またこ
の範囲より多い場合には、成形品表面へのブリー
ドに帰因する外観不良、機械的特性の低下のため
実情的でない。 ヒンダードアミン系光安定剤の場合も同様に少
なければ、効果が不充分であり、多い場合には、
外観不良、熱安定性低下のため実用的でない。 本発明におけるベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤としては、チバガイギー社製チヌビン234（化
学構造式を表−１に示す）が用いられる。 また本発明に用いられるヒンダードアミン系光
安定剤としては、市販品としては三共(株)製サノー
ルLS770、LS744、LS944、LS2626、チバガイギ
ー社製、チヌビン622、アデカアーガス社製、
MARK、LA−57（化学構造式を表−１に示す）
などがあげられるが、必ずしもこれらに限定され
るものではない。 本発明に用いられるポリオキシメチレンとは、
ポリオキシメチレンホモポリマー又は主鎖の大部
分がオキシメチレン連鎖よりなるポリオキシメチ
レン共重合体であり、詳しくはホルムアルデヒド
もしくはホルムアルデヒドの環状オリゴマーであ
るトリオキサン、テトラオキサンなどを単独に、
又はこれらと共重合可能な１種以上のコモノマー
（たとえばエチレンオキサイド、１，４−ブタン
ジオールフオマールなど）をさらに組合せて、重
合又は共重合して得られたものを末端基からの分
解に対して安定化したものをいう。使用に際して
は、通常の熱安定剤、酸化防止剤を添加すること
ができ、従来公知の各種有機顔料、無機顔料およ
びガラス繊維などの種々補強剤の添加も許され
る。 以下実施例を挙げ説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。 実施例 １ ポリオキシメチレンホモポリマー（メルトイン
デツクス15ｇ／10分）100重量部に対し熱安定剤
としてカプロラクタム／ヘキサメチレンアジパミ
ド／ヘキサメチレンセバカミドの三元共重合ポリ
アミド0.5重量部および、チバガイギー社製酸化
防止剤イルガノツクス1010を0.10重量部、着色用
顔料として、有機顔料（BASF製バリオゲンレツ
ド3911K0.066重量部およびBASF製シコバーサル
レツド39−1001を0.056重量部、耐候性向上剤と
して、チバガイギー社のベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤チヌビン−234を0.50重量部、三共社
製ヒンダードアミン系光安定剤サノールLS770を
0.10重量部を添加し、三井三池製作所ヘンシユル
ミキサーで常温、１分間ブレンド後、30mmφ押出
し機で溶融混合してペレツトを作つた。ペレツト
を80℃で５時間熱風乾燥した後、射出成形機によ
り、タテ９cm、ヨコ５cm、厚さ２mmの平板を成形
した。この平板をサンシヤインウエザーメーター
（スガ試験機(株)製、サンシヤインスーパーロング
ライフウユザーメーターWEL−SUN−HCブラ
ツクパネル83℃雨なし連続運転）に曝露し、200、
300、400、600時間の促進耐候試験を実施し平板
表面の観察をした。結果を表２に示す。比較例１
〜３と比べ優れた耐候性を示す。 比較例 １ 実施例−１記載のうちチヌビン234をチバガイ
ギー社製ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤チヌ
ビン328に変えた結果を表２に示す。 比較例 ２ 実施例−１記載のうちチヌビン234をチバガイ
ギー社製ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤チヌ
ビン327に変えた結果を表２に示す。 比較例 ３ 実施例−１記載のうちチヌビン234をチバガイ
ギー社製ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤チヌ
ビン327に変えた場合の結果を表２に示す。 実施例 ２ 実施例−１のうち、チヌビン234の量を1.0重量
部、サノールLS770の量を0.25重量部にかえ、同
様に行なつた。結果を表２に示す。 非常に優れた耐候性を示す。 実施例 ３ 実施例−１のうち、三共(株)のサノールLS770
0.10重量部を同じくヒンダードアミン系光安定剤
サノールLS944 0.10重量部にかえ同様に行なつ
た。結果を表２に示す。比較例４に比べ耐候性に
優れている。 比較例 ４ 実施例−３のうち、チヌビン234をチヌビン328
に変えた結果を表２に示す。 実施例 ４ 実施例−１のうち、チヌビン234の量0.50重量
部を1.00重量部、サノールLS770 0.10重量部を、
サノールLS944 0.25重量部に変え同様に行なつ
た。結果を表２に示す。良好な耐候性を有してい
る。 実施例 ５ 実施例−１のうち、サノールLS770 0.10重量
部を、アデカアーガス社製ヒンダードアミン系光
安定剤MARK LA−57 0.10重量部に変え同様に
行なつた。結果を表２に示す。比較例５に比べ耐
候性に優れている。 比較例 ５ 実施例−５記載のうち、チヌビン234に変えチ
ヌビン328の場合での結果を表２に示す。 実施例 ６ 実施例−１のうち、チヌビン234の量0.50重量
部を1.00重量部、サノール770 0.10重量部を、ア
デカアーガスMARK LA−57 0.25重量部に変え
た場合の結果を表２に示す。良好な耐候性を有し
ている。 実施例 ７ 市販のポリオキシメチレンホモポリマー（旭化
成工業製テナツク5010）100重量部に対しチヌビ
ン234 0.50重量部サノール770 0.10重量部を添加
し、混合し、溶融押出後成形した。ポリオキシメ
チレン組成物の耐候試験結果を表２に示す。比較
例−６に比べ良好な耐候性を示す。 比較例 ６ 実施例−７記載のうちチヌビン234を、チヌビ
ン328を用いた結果を表２に示す。 実施例 ８ 実施例−７記載のうちポリオキシメチレンホモ
ポリマーに変え市販のポリオキシメチレンコポリ
マー（ポリプラスチツクス社製ジユラコンＭ−90
−02）を用いた場合の結果を表２に示す。比較例
−７に比べ耐候性に優れる。 比較例 ７ 実施例−８記載のうち、チヌビン234を、チヌ
ビン328にかえた場合の結果を表２に示す。 比較例 ８ 実施例−１のうち、サノールLS770を除いた配
合の結果を表２に示す。 比較例 ９ 実施例−１のうち、チヌビン234を除いた配合
の結果を表２に示す。非常に耐候性が悪いことが
明らかである。 実施例 ９ 実施例−１のうち、紫外線吸収剤チヌビン234
を0.10重量部ヒンダードアミン系光安定剤サノー
ルLS770を0.10重量に変えた場合の結果を表２に
示す。比較例−10に比べ耐候性に優れる。 比較例 10 実施例−９のうち、チヌビン234、サノール
LS770を除いた配合の結果を表２に示す。 実施例 10 実施例−１のうち、紫外線吸収剤チヌビン234
を２重量部、サノールLS770 1.5重量部に変え造
つたペレツトを射出成形して、平板を得た。この
平板を常温で24時間放置したが表面光沢は変化な
く、ブリードなしと判定。 比較例 11 実施例−10のうち、チヌビン234を５重量部サ
ノールLS770を４重量部に変え、射出成形平板を
得た。成形品表面は、光沢がなくトルエンを含ま
せたガーゼでふき取ることができた。ブリードあ
りと判定。
組成物に関するものであり、更に詳しくは、特定
のベンゾトリアゾールとヒンダードアミンの併用
添加により耐候性を改良したポリオキシメチレン
組成物に関するものである。 ポリオキシメチレンは、その優れた強度、摩擦
摩耗特性、耐疲労特性、クリープ特性、電気特
性、寸法性などの故に、歯車、軸受などの機械部
品、電気部品に広く使用されている。しかしなが
ら耐候性においてやゝ劣り、特に着色品の場合長
期に日光に曝すと表面においてポリオキシメチレ
ンが光エネルギーにより分子切断される為白化現
象及びクレージングを起し、目立ち易いことか
ら、成形品の外観を著しく低下させ、さらに著し
い場合は機械的強度低下を起し実用に耐えない。 従つてこうした日光に対する抵抗性つまり耐候
性を改良することによつて、自動車などの高度な
耐候性が要求される分野へ用途拡大できることは
必至である。 従来、ポリオキシメチレンの耐候性を改良する
方法として、紫外線吸収剤、例えばベンゾフエノ
ン系、ベンゾトリアゾール系などを添加する方
法、紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤
を併用する方法があるが、耐候性はまだ十分でな
い。またこれらの方法で十分な耐候性を得ようと
すれば、非常に多量の添加剤を添加しなければな
らず、添加剤のブリードなどによる外観不良、添
加剤による熱安定性、機械的強度低下などの問題
を生じ実用的でない。 本発明者らはこうした事に鑑み、ポリオキシメ
チレンの耐候性向上に対し鋭意研究の結果、ある
一種のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤とヒン
ダードアミン系光安定剤との組合せが特異的にポ
リオキシメチレンの耐候性を向上させることを発
見し、今発明に至つた。 すなわち本発明はポリオキシメチレンとそれの
100重量部に対し、構造式 で表わされるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
0.01〜４重量部好ましくは0.05〜２重量部と、１
種あるいは２種以上のヒンダードアミン系光安定
剤0.01〜３重量部、好ましくは0.05〜1.5重量部を
併用含有したポリオキシメチレン組成物である。
また上記以外の紫外線吸収剤の併用も可能である
が、全紫外線吸収剤量から見れば効果は減ずる。
紫外線吸収剤の量が、この範囲より少なければ、
耐候性を向上させる効果が不充分であり、またこ
の範囲より多い場合には、成形品表面へのブリー
ドに帰因する外観不良、機械的特性の低下のため
実情的でない。 ヒンダードアミン系光安定剤の場合も同様に少
なければ、効果が不充分であり、多い場合には、
外観不良、熱安定性低下のため実用的でない。 本発明におけるベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤としては、チバガイギー社製チヌビン234（化
学構造式を表−１に示す）が用いられる。 また本発明に用いられるヒンダードアミン系光
安定剤としては、市販品としては三共(株)製サノー
ルLS770、LS744、LS944、LS2626、チバガイギ
ー社製、チヌビン622、アデカアーガス社製、
MARK、LA−57（化学構造式を表−１に示す）
などがあげられるが、必ずしもこれらに限定され
るものではない。 本発明に用いられるポリオキシメチレンとは、
ポリオキシメチレンホモポリマー又は主鎖の大部
分がオキシメチレン連鎖よりなるポリオキシメチ
レン共重合体であり、詳しくはホルムアルデヒド
もしくはホルムアルデヒドの環状オリゴマーであ
るトリオキサン、テトラオキサンなどを単独に、
又はこれらと共重合可能な１種以上のコモノマー
（たとえばエチレンオキサイド、１，４−ブタン
ジオールフオマールなど）をさらに組合せて、重
合又は共重合して得られたものを末端基からの分
解に対して安定化したものをいう。使用に際して
は、通常の熱安定剤、酸化防止剤を添加すること
ができ、従来公知の各種有機顔料、無機顔料およ
びガラス繊維などの種々補強剤の添加も許され
る。 以下実施例を挙げ説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。 実施例 １ ポリオキシメチレンホモポリマー（メルトイン
デツクス15ｇ／10分）100重量部に対し熱安定剤
としてカプロラクタム／ヘキサメチレンアジパミ
ド／ヘキサメチレンセバカミドの三元共重合ポリ
アミド0.5重量部および、チバガイギー社製酸化
防止剤イルガノツクス1010を0.10重量部、着色用
顔料として、有機顔料（BASF製バリオゲンレツ
ド3911K0.066重量部およびBASF製シコバーサル
レツド39−1001を0.056重量部、耐候性向上剤と
して、チバガイギー社のベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤チヌビン−234を0.50重量部、三共社
製ヒンダードアミン系光安定剤サノールLS770を
0.10重量部を添加し、三井三池製作所ヘンシユル
ミキサーで常温、１分間ブレンド後、30mmφ押出
し機で溶融混合してペレツトを作つた。ペレツト
を80℃で５時間熱風乾燥した後、射出成形機によ
り、タテ９cm、ヨコ５cm、厚さ２mmの平板を成形
した。この平板をサンシヤインウエザーメーター
（スガ試験機(株)製、サンシヤインスーパーロング
ライフウユザーメーターWEL−SUN−HCブラ
ツクパネル83℃雨なし連続運転）に曝露し、200、
300、400、600時間の促進耐候試験を実施し平板
表面の観察をした。結果を表２に示す。比較例１
〜３と比べ優れた耐候性を示す。 比較例 １ 実施例−１記載のうちチヌビン234をチバガイ
ギー社製ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤チヌ
ビン328に変えた結果を表２に示す。 比較例 ２ 実施例−１記載のうちチヌビン234をチバガイ
ギー社製ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤チヌ
ビン327に変えた結果を表２に示す。 比較例 ３ 実施例−１記載のうちチヌビン234をチバガイ
ギー社製ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤チヌ
ビン327に変えた場合の結果を表２に示す。 実施例 ２ 実施例−１のうち、チヌビン234の量を1.0重量
部、サノールLS770の量を0.25重量部にかえ、同
様に行なつた。結果を表２に示す。 非常に優れた耐候性を示す。 実施例 ３ 実施例−１のうち、三共(株)のサノールLS770
0.10重量部を同じくヒンダードアミン系光安定剤
サノールLS944 0.10重量部にかえ同様に行なつ
た。結果を表２に示す。比較例４に比べ耐候性に
優れている。 比較例 ４ 実施例−３のうち、チヌビン234をチヌビン328
に変えた結果を表２に示す。 実施例 ４ 実施例−１のうち、チヌビン234の量0.50重量
部を1.00重量部、サノールLS770 0.10重量部を、
サノールLS944 0.25重量部に変え同様に行なつ
た。結果を表２に示す。良好な耐候性を有してい
る。 実施例 ５ 実施例−１のうち、サノールLS770 0.10重量
部を、アデカアーガス社製ヒンダードアミン系光
安定剤MARK LA−57 0.10重量部に変え同様に
行なつた。結果を表２に示す。比較例５に比べ耐
候性に優れている。 比較例 ５ 実施例−５記載のうち、チヌビン234に変えチ
ヌビン328の場合での結果を表２に示す。 実施例 ６ 実施例−１のうち、チヌビン234の量0.50重量
部を1.00重量部、サノール770 0.10重量部を、ア
デカアーガスMARK LA−57 0.25重量部に変え
た場合の結果を表２に示す。良好な耐候性を有し
ている。 実施例 ７ 市販のポリオキシメチレンホモポリマー（旭化
成工業製テナツク5010）100重量部に対しチヌビ
ン234 0.50重量部サノール770 0.10重量部を添加
し、混合し、溶融押出後成形した。ポリオキシメ
チレン組成物の耐候試験結果を表２に示す。比較
例−６に比べ良好な耐候性を示す。 比較例 ６ 実施例−７記載のうちチヌビン234を、チヌビ
ン328を用いた結果を表２に示す。 実施例 ８ 実施例−７記載のうちポリオキシメチレンホモ
ポリマーに変え市販のポリオキシメチレンコポリ
マー（ポリプラスチツクス社製ジユラコンＭ−90
−02）を用いた場合の結果を表２に示す。比較例
−７に比べ耐候性に優れる。 比較例 ７ 実施例−８記載のうち、チヌビン234を、チヌ
ビン328にかえた場合の結果を表２に示す。 比較例 ８ 実施例−１のうち、サノールLS770を除いた配
合の結果を表２に示す。 比較例 ９ 実施例−１のうち、チヌビン234を除いた配合
の結果を表２に示す。非常に耐候性が悪いことが
明らかである。 実施例 ９ 実施例−１のうち、紫外線吸収剤チヌビン234
を0.10重量部ヒンダードアミン系光安定剤サノー
ルLS770を0.10重量に変えた場合の結果を表２に
示す。比較例−10に比べ耐候性に優れる。 比較例 10 実施例−９のうち、チヌビン234、サノール
LS770を除いた配合の結果を表２に示す。 実施例 10 実施例−１のうち、紫外線吸収剤チヌビン234
を２重量部、サノールLS770 1.5重量部に変え造
つたペレツトを射出成形して、平板を得た。この
平板を常温で24時間放置したが表面光沢は変化な
く、ブリードなしと判定。 比較例 11 実施例−10のうち、チヌビン234を５重量部サ
ノールLS770を４重量部に変え、射出成形平板を
得た。成形品表面は、光沢がなくトルエンを含ま
せたガーゼでふき取ることができた。ブリードあ
りと判定。
【表】
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ポリオキシメチレンと、それの100重量部に
対し、構造式 で表わされるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
0.01〜４重量部と、ヒンダードアミン系光安定剤
0.01〜３重量部とからなる耐候性の改良されたポ
リオキシメチレン組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5103884A JPS60195155A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | ポリオキシメチレン組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5103884A JPS60195155A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | ポリオキシメチレン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60195155A JPS60195155A (ja) | 1985-10-03 |
| JPH0465862B2 true JPH0465862B2 (ja) | 1992-10-21 |
Family
ID=12875629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5103884A Granted JPS60195155A (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | ポリオキシメチレン組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60195155A (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6136339A (ja) * | 1984-07-27 | 1986-02-21 | Polyplastics Co | 耐候性ポリアセタ−ル樹脂組成物 |
| US5232965A (en) * | 1991-03-22 | 1993-08-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized polyacetal compositions |
| US5149723A (en) * | 1991-03-22 | 1992-09-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Stabilized polyacetal compositions containing a mixture of hals having tertiary functionality |
| JPH0585679U (ja) * | 1992-04-21 | 1993-11-19 | 益弘 光山 | ファイル |
| DE4229760A1 (de) * | 1992-09-05 | 1994-03-10 | Basf Ag | UV-stabilisierte Polyoxymethylenformmassen |
| BR9404032A (pt) * | 1993-07-07 | 1999-06-01 | Polyplastics Co | Composição de resina de poliacetal e peça moldada com a mesma |
| JP3281153B2 (ja) * | 1993-11-30 | 2002-05-13 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
| EP0758641B1 (en) | 1995-08-11 | 2000-08-30 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | A fatty acid esters composition of a polyglycerine, a process for the preparation thereof, a process for the preparation of a highly-purified fatty acid esters composition of a polyglycerine, a highly-purified fatty acid esters composition of a polyglycerine, an additive for food-stuffs, a resin composition, and a composition for cosmetics or detergents |
| JP2853983B2 (ja) * | 1995-11-27 | 1999-02-03 | 東レ株式会社 | オキシメチレンコポリマの製造方法 |
| JP2001164087A (ja) | 1999-12-03 | 2001-06-19 | Polyplastics Co | 分岐ポリアセタール樹脂組成物 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1033881A (en) * | 1973-03-08 | 1978-06-27 | John D. Spivack | Light stabilized polymer compositions |
| JPS5058141A (ja) * | 1973-06-09 | 1975-05-20 | ||
| AU4624179A (en) * | 1978-05-22 | 1979-11-29 | B.F. Goodrich Company, The | Polymeric composition having enhanced resistance to photo- degradation |
-
1984
- 1984-03-19 JP JP5103884A patent/JPS60195155A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60195155A (ja) | 1985-10-03 |
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