JPH046607A - 垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH046607A JPH046607A JP10946990A JP10946990A JPH046607A JP H046607 A JPH046607 A JP H046607A JP 10946990 A JP10946990 A JP 10946990A JP 10946990 A JP10946990 A JP 10946990A JP H046607 A JPH046607 A JP H046607A
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- yoke
- insulating layer
- central
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
磁気ディスク装置、或いは磁気テープ装置等に用いられ
る垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法に係り、特にプレーナ
型の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法に関し、 主磁極と薄膜コイルの中心部に設けた中心磁性ヨークと
を直接接触させると共に、磁束のリターンヨークを媒体
対向面に近接、または露出するように構成し、記録・再
生効率を向上させることを目的とし、 軟磁性膜からなる主磁極を間に挟んで、かつ接着して一
体化した2枚の非磁性基板の上面に、該主磁極を中心と
した薄膜コイルと、該薄膜コイルの中心に前記主磁極と
接続する中心磁性ヨークとを形成する工程と、該薄膜コ
イル及び中心磁性ヨーク上に絶縁層を被着した後、該絶
縁層を前記中心磁性ヨークが露出するように平坦化する
工程と、前記薄膜コイルの外周部の絶縁層部位に、直下
の前記非磁性基板内部に通ずる溝を形成した後、該絶縁
層の上面に脚状突出部を有する磁性フェライトからなる
磁束リターン用磁性ヨークを、その脚状突出部を前記溝
内に嵌入した状態で接着する工程と、前記非磁性基板の
下面を、該磁束リターン用磁性ヨークの脚状突出部が露
出する位置まで平坦研磨して媒体対向面を形成する工程
とを含み構成する。
る垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法に係り、特にプレーナ
型の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法に関し、 主磁極と薄膜コイルの中心部に設けた中心磁性ヨークと
を直接接触させると共に、磁束のリターンヨークを媒体
対向面に近接、または露出するように構成し、記録・再
生効率を向上させることを目的とし、 軟磁性膜からなる主磁極を間に挟んで、かつ接着して一
体化した2枚の非磁性基板の上面に、該主磁極を中心と
した薄膜コイルと、該薄膜コイルの中心に前記主磁極と
接続する中心磁性ヨークとを形成する工程と、該薄膜コ
イル及び中心磁性ヨーク上に絶縁層を被着した後、該絶
縁層を前記中心磁性ヨークが露出するように平坦化する
工程と、前記薄膜コイルの外周部の絶縁層部位に、直下
の前記非磁性基板内部に通ずる溝を形成した後、該絶縁
層の上面に脚状突出部を有する磁性フェライトからなる
磁束リターン用磁性ヨークを、その脚状突出部を前記溝
内に嵌入した状態で接着する工程と、前記非磁性基板の
下面を、該磁束リターン用磁性ヨークの脚状突出部が露
出する位置まで平坦研磨して媒体対向面を形成する工程
とを含み構成する。
本発明は磁気ディスク装置、或いは磁気テープ装置等に
用いられる垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法に係り、特に
プレーナ型の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
用いられる垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法に係り、特に
プレーナ型の垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法に関するも
のである。
近年、磁気ディスク装置にあっては小型化、大容量化が
2、速に進められ、従来の水平磁気記録方式に比べて遥
かに高密度記録が可能な垂直磁気記録方式のプレーナ型
薄膜磁気ヘッドが提案されているが、更に記録・再生効
率の良い垂直薄膜磁気ヘットの製造方法が必要とされて
いる。
2、速に進められ、従来の水平磁気記録方式に比べて遥
かに高密度記録が可能な垂直磁気記録方式のプレーナ型
薄膜磁気ヘッドが提案されているが、更に記録・再生効
率の良い垂直薄膜磁気ヘットの製造方法が必要とされて
いる。
従来のプレーナ型の垂直薄膜磁気ヘッドは、第3図(a
)に示すようにNi−Zn等のフェライトからなる磁性
基板1上に、SiO□などからなる眉間絶縁層2を介し
て薄膜コイル3を被着形成し、その薄膜コイル3の中心
部にNi−Feからなる中心磁性ヨーク4を、前記磁性
基板1と接続するようにマスクめっき法等により形成す
る。
)に示すようにNi−Zn等のフェライトからなる磁性
基板1上に、SiO□などからなる眉間絶縁層2を介し
て薄膜コイル3を被着形成し、その薄膜コイル3の中心
部にNi−Feからなる中心磁性ヨーク4を、前記磁性
基板1と接続するようにマスクめっき法等により形成す
る。
次に第3図(b)に示すように前記層間絶縁層2、薄膜
コイル3及び中心磁性ヨーク4上にSiO□膜5をスパ
ッタリング法等により被着した後、該SiO□膜5を前
記中心磁性ヨーク4が露出する状態に平坦研磨してその
平坦面に、第3図(C)に示すように予め例えば一方の
Af203・TIC%或いはセラミック等からなる非磁
性基板の側面に軟磁性膜からなる主磁極6を被着形成し
、その非磁性基板の側面に対して該主磁極6を挟むよう
に他方の同様な非磁性基板の側面を接着材6aを介して
接着一体化した非磁性基板7を、前記主磁極6が中心磁
性ヨーク4と磁気的に接続するように低融点ガラス、ま
たはエポキシ樹脂等の接着材8により接着する。
コイル3及び中心磁性ヨーク4上にSiO□膜5をスパ
ッタリング法等により被着した後、該SiO□膜5を前
記中心磁性ヨーク4が露出する状態に平坦研磨してその
平坦面に、第3図(C)に示すように予め例えば一方の
Af203・TIC%或いはセラミック等からなる非磁
性基板の側面に軟磁性膜からなる主磁極6を被着形成し
、その非磁性基板の側面に対して該主磁極6を挟むよう
に他方の同様な非磁性基板の側面を接着材6aを介して
接着一体化した非磁性基板7を、前記主磁極6が中心磁
性ヨーク4と磁気的に接続するように低融点ガラス、ま
たはエポキシ樹脂等の接着材8により接着する。
その後、前記非磁性基板7を図中のC−C’ 1点鎖
線で示す位置までの所定厚さを平坦に研磨して、前記主
磁極6が露出する媒体対向面9を形成することによって
ヘッドを作成している。
線で示す位置までの所定厚さを平坦に研磨して、前記主
磁極6が露出する媒体対向面9を形成することによって
ヘッドを作成している。
そしてかかる構成の垂直薄膜磁気ヘッドは、第4図に示
すように図示しないスライダに取付けられ、ディスク基
板12上に高透磁率な軟磁性層13を介して垂直記録層
14が積層された二層膜構造の垂直磁気ディスク11と
組み合わせて用い、また磁気ヘッド側には磁束のリター
ンヨークを設けることによって記録・再生効率の向上を
図っている。
すように図示しないスライダに取付けられ、ディスク基
板12上に高透磁率な軟磁性層13を介して垂直記録層
14が積層された二層膜構造の垂直磁気ディスク11と
組み合わせて用い、また磁気ヘッド側には磁束のリター
ンヨークを設けることによって記録・再生効率の向上を
図っている。
ところで上記した従来の垂直′FR膜磁気へノドでは、
第4図に示すようにNi−Zn等のフェライトからなる
磁性基板1が磁束のリターンヨークの働きをしており、
この磁束リターンヨークは対向する二層膜構造の垂直磁
気ディスク11における高透磁率な軟磁性層13と接近
している程、記録・再生効率は良好となるが、実際には
磁性基板1からなる磁束リターンヨークは図示のように
垂直磁気ディスク11の高透磁率な軟磁性層13とかな
り離間した位置関係となるため、記録・再生効率が悪い
という問題があった。
第4図に示すようにNi−Zn等のフェライトからなる
磁性基板1が磁束のリターンヨークの働きをしており、
この磁束リターンヨークは対向する二層膜構造の垂直磁
気ディスク11における高透磁率な軟磁性層13と接近
している程、記録・再生効率は良好となるが、実際には
磁性基板1からなる磁束リターンヨークは図示のように
垂直磁気ディスク11の高透磁率な軟磁性層13とかな
り離間した位置関係となるため、記録・再生効率が悪い
という問題があった。
また、主磁極6の断面積も小さいため、該主磁極6と薄
膜コイル3の中心部に設けたNi−Feからなる中心磁
性ヨーク4との間に接着材の層が介在すると、更に前記
効率が低下する欠点があった。
膜コイル3の中心部に設けたNi−Feからなる中心磁
性ヨーク4との間に接着材の層が介在すると、更に前記
効率が低下する欠点があった。
本発明は上記した従来の問題点に鑑み、主磁極と薄膜コ
イルの中心部に設けた中心磁性ヨークとを直接接触させ
ると共に、磁束リターンヨークを媒体対向面に近接、ま
たは露出させるように構成し、記録・再生効率の向上を
図った新規な垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
イルの中心部に設けた中心磁性ヨークとを直接接触させ
ると共に、磁束リターンヨークを媒体対向面に近接、ま
たは露出させるように構成し、記録・再生効率の向上を
図った新規な垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
本発明は上記した目的を達成するため、軟磁性膜からな
る主磁極を間に挟んで、かつ接着して一体化した2枚の
非磁性基板の上面に、該主磁極を中心とした薄膜コイル
と、該薄膜コイルの中心に前記主磁極と接続する中心磁
性ヨークとを形成する工程と、該薄膜コイル及び中心磁
性ヨーク上に絶縁層を被着した後、該絶縁層を前記中心
磁性ヨークが露出するように平坦化する工程と、前記薄
膜コイルの外周部の絶縁層部位に、直下の前記非磁性基
板内部に通ずる溝を形成した後、該絶縁層の上面に脚状
突出部を有する磁性フェライトからなる磁束リターン用
磁性ヨークを、その脚状突出部を前記溝内に嵌入した状
態で接着する工程と、前記非磁性基板の下面を、該磁束
リターン用磁性ヨークの脚状突出部が露出する位置まで
平坦研磨して媒体対向面を形成する工程とを含み構成す
る。
る主磁極を間に挟んで、かつ接着して一体化した2枚の
非磁性基板の上面に、該主磁極を中心とした薄膜コイル
と、該薄膜コイルの中心に前記主磁極と接続する中心磁
性ヨークとを形成する工程と、該薄膜コイル及び中心磁
性ヨーク上に絶縁層を被着した後、該絶縁層を前記中心
磁性ヨークが露出するように平坦化する工程と、前記薄
膜コイルの外周部の絶縁層部位に、直下の前記非磁性基
板内部に通ずる溝を形成した後、該絶縁層の上面に脚状
突出部を有する磁性フェライトからなる磁束リターン用
磁性ヨークを、その脚状突出部を前記溝内に嵌入した状
態で接着する工程と、前記非磁性基板の下面を、該磁束
リターン用磁性ヨークの脚状突出部が露出する位置まで
平坦研磨して媒体対向面を形成する工程とを含み構成す
る。
本発明の製造方法では、主磁極上に中心磁性ヨークを直
接接触した状態に配設できると共に、磁束リターンヨー
クもその脚状突出部等を媒体対向面に露出、または近接
させて設けることができるので、記録・再生効率を向上
させることができる。
接接触した状態に配設できると共に、磁束リターンヨー
クもその脚状突出部等を媒体対向面に露出、または近接
させて設けることができるので、記録・再生効率を向上
させることができる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第1図(a)〜(e)は本発明に係る垂直薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法の一実施例を示す要部断面図である。
ドの製造方法の一実施例を示す要部断面図である。
先ず第1図(a)に示すように例えば所定のトラック幅
で0.3μmの膜厚のセンダスト(A 12−5i−F
e)等の軟磁性膜からなる主磁極21を従来と同様に、
例えばAj2z(h・TiC、或いはセラミック等から
なる2枚の非磁性基板間に挟んでガラス、または硬化性
樹脂等からなる接着材層21aにより接着し、体化した
非磁性基板22の上面に、SiO□からなる眉間絶縁層
23を介して該主磁極21を中心としたCuめっき膜か
らなる薄膜コイル24をマスクめっき法により形成した
後、該薄膜コイル24の中心に10μmの膜厚のNi−
Fe膜からなる中心磁性ヨーク25を前記主磁極21と
直接接触した状態にマスクめっき法等により形成する。
で0.3μmの膜厚のセンダスト(A 12−5i−F
e)等の軟磁性膜からなる主磁極21を従来と同様に、
例えばAj2z(h・TiC、或いはセラミック等から
なる2枚の非磁性基板間に挟んでガラス、または硬化性
樹脂等からなる接着材層21aにより接着し、体化した
非磁性基板22の上面に、SiO□からなる眉間絶縁層
23を介して該主磁極21を中心としたCuめっき膜か
らなる薄膜コイル24をマスクめっき法により形成した
後、該薄膜コイル24の中心に10μmの膜厚のNi−
Fe膜からなる中心磁性ヨーク25を前記主磁極21と
直接接触した状態にマスクめっき法等により形成する。
次に第1図(b)に示すように前記薄膜コイル24を含
む眉間絶縁層23及び中心磁性ヨーク25上に15μm
の膜厚の1203からなる無機絶縁層26をスパッタリ
ング法により被着した後、該無機絶縁層26を前記中心
磁性ヨーク25が露出する状態に平坦研磨する。
む眉間絶縁層23及び中心磁性ヨーク25上に15μm
の膜厚の1203からなる無機絶縁層26をスパッタリ
ング法により被着した後、該無機絶縁層26を前記中心
磁性ヨーク25が露出する状態に平坦研磨する。
次に第1図(C)示すように前記薄膜コイル24の外周
部の無機絶縁層26の所定部位に、直下の非磁性基板2
2内部に通ずる溝27を機械加工により該基板22の厚
さの約80%程度に相当する深さに形成した後、第1図
(d)に示すように前記中心磁性ヨーク25が露出する
無機絶縁層26上に、脚状突出部28aを有するNi−
Zn、 Mn−Zn等の磁性フェライトからなる磁束リ
ターン用磁性ヨーク28を、その脚状突出部28aを前
記溝27内に嵌入した状態でガラス、またはエポキシ樹
脂等の接着材29により接着固定する。
部の無機絶縁層26の所定部位に、直下の非磁性基板2
2内部に通ずる溝27を機械加工により該基板22の厚
さの約80%程度に相当する深さに形成した後、第1図
(d)に示すように前記中心磁性ヨーク25が露出する
無機絶縁層26上に、脚状突出部28aを有するNi−
Zn、 Mn−Zn等の磁性フェライトからなる磁束リ
ターン用磁性ヨーク28を、その脚状突出部28aを前
記溝27内に嵌入した状態でガラス、またはエポキシ樹
脂等の接着材29により接着固定する。
その後、前記非磁性基板22の下面を、該磁束すターン
用磁性ヨーク28の脚状突出部28aが露出する図中の
A−A’ 1点鎖線で示す位置まで平坦に研磨して、
第1図(e)に示すように該磁束リターン用磁性ヨーク
28の脚状突出部28aと共に、前記主磁極21が露出
する媒体対向面30を形成する。
用磁性ヨーク28の脚状突出部28aが露出する図中の
A−A’ 1点鎖線で示す位置まで平坦に研磨して、
第1図(e)に示すように該磁束リターン用磁性ヨーク
28の脚状突出部28aと共に、前記主磁極21が露出
する媒体対向面30を形成する。
かくすれば、該媒体対向面30に露出する主磁極21は
前記中心磁性ヨーク25と直接接続され、また磁束リタ
ーン用磁性ヨーク28の脚状突出部28aが媒体対向面
30に露出しているため、記録・再生時の二層膜構造の
垂直磁気ディスクに対して極めて近接する位置関係とな
り、記録・再生効率が著しく向上する。
前記中心磁性ヨーク25と直接接続され、また磁束リタ
ーン用磁性ヨーク28の脚状突出部28aが媒体対向面
30に露出しているため、記録・再生時の二層膜構造の
垂直磁気ディスクに対して極めて近接する位置関係とな
り、記録・再生効率が著しく向上する。
更に第2図(a)〜(d)は本発明に係る垂直薄膜磁気
ヘッドの製造方法の他の実施例を示す要部断面図である
。
ヘッドの製造方法の他の実施例を示す要部断面図である
。
本実施例では先ず第2図(a)に示すように、例えば所
定のトラック幅で0.3μmの膜厚のセンダスト(A
12−5i−Fe)等の軟磁性膜からなる主磁極21を
従来と同様に、例えばAf203・TiC、或いはセラ
ミック等からなる2枚の非磁性基板間に挟んでガラス、
または硬化性樹脂等からなる接着材層21aにより接着
し、一体化した非磁性基板22の上面に、SiO□から
なる層間絶縁層23を介して該主磁極21を中心とした
Cuめっき膜からなる薄膜コイル24をマスクめっき法
により形成した後、その薄膜コイル24の中心に主磁極
21と直接接続する10μmの膜厚のNi−Fe膜から
なる中心磁性ヨーク25と、同しく薄膜コイル24の外
周部にNi−Fe膜からなるサイト磁性ヨーク31をマ
スクめっき法等により形成する。
定のトラック幅で0.3μmの膜厚のセンダスト(A
12−5i−Fe)等の軟磁性膜からなる主磁極21を
従来と同様に、例えばAf203・TiC、或いはセラ
ミック等からなる2枚の非磁性基板間に挟んでガラス、
または硬化性樹脂等からなる接着材層21aにより接着
し、一体化した非磁性基板22の上面に、SiO□から
なる層間絶縁層23を介して該主磁極21を中心とした
Cuめっき膜からなる薄膜コイル24をマスクめっき法
により形成した後、その薄膜コイル24の中心に主磁極
21と直接接続する10μmの膜厚のNi−Fe膜から
なる中心磁性ヨーク25と、同しく薄膜コイル24の外
周部にNi−Fe膜からなるサイト磁性ヨーク31をマ
スクめっき法等により形成する。
次に第2図(b)に示すように前記薄膜コイル24を含
む層間絶縁層23、中心磁性ヨーク25及びサイド磁性
ヨーク31上に、15μmの膜厚のA 1203からな
る無機絶縁層32をスパッタリング法により被着した後
、該無機絶縁層32を前記中心磁性ヨーク25及びサイ
ド磁性ヨーク31が露出するように平坦研磨する。
む層間絶縁層23、中心磁性ヨーク25及びサイド磁性
ヨーク31上に、15μmの膜厚のA 1203からな
る無機絶縁層32をスパッタリング法により被着した後
、該無機絶縁層32を前記中心磁性ヨーク25及びサイ
ド磁性ヨーク31が露出するように平坦研磨する。
次に第2図(C)に示すように該中心磁性ヨーク25及
びサイド磁性ヨーク31が露出した無機絶縁層32上に
、Ni−Zn、 Mn−Zn等の磁性フェライトからな
る磁束す、ターン用磁性ヨーク33を、ガラス、または
硬化性樹脂等の接着材34により接着した後、前記非磁
性基板22の下面を、図中のB−B’ 1点鎖線で示
す位置まで平坦に研磨して第2図(d)に示すように薄
層化し、前記主磁極21が露出する媒体対向面35を形
成する。
びサイド磁性ヨーク31が露出した無機絶縁層32上に
、Ni−Zn、 Mn−Zn等の磁性フェライトからな
る磁束す、ターン用磁性ヨーク33を、ガラス、または
硬化性樹脂等の接着材34により接着した後、前記非磁
性基板22の下面を、図中のB−B’ 1点鎖線で示
す位置まで平坦に研磨して第2図(d)に示すように薄
層化し、前記主磁極21が露出する媒体対向面35を形
成する。
かくすれば、該媒体対向面35に露出する主磁極21は
前記中心磁性ヨーク25と直接接続され、また前記磁束
リターン用磁性ヨーク33と磁気的に接続されたサイド
磁性ヨーク31が媒体対向面35に近接配置された構成
となるため、記録・再生時の二層膜構造の垂直磁気ディ
スクに対して前記磁束リターン用磁性ヨーク33は近接
する位置関係となり、記録・再生効率が向上する。
前記中心磁性ヨーク25と直接接続され、また前記磁束
リターン用磁性ヨーク33と磁気的に接続されたサイド
磁性ヨーク31が媒体対向面35に近接配置された構成
となるため、記録・再生時の二層膜構造の垂直磁気ディ
スクに対して前記磁束リターン用磁性ヨーク33は近接
する位置関係となり、記録・再生効率が向上する。
〔発明の効果]
以上の説明から明らかなように、本発明に係る垂直薄膜
磁気ヘッドの製造方法によれば、媒体対向面に露出する
主磁極が中心磁性ヨークと直接接続されると共に、その
主磁極からの磁束を対向する二層膜構造の垂直磁気ディ
スクの軟磁性層を通して再び主磁極へ還流させる磁束リ
ターン用磁性ヨークを媒体対向面に露出、或いは近接し
た状態に配置することが可能となり、記録・再生効率が
著しく向上する等、実用上優れた効果を奏する。
磁気ヘッドの製造方法によれば、媒体対向面に露出する
主磁極が中心磁性ヨークと直接接続されると共に、その
主磁極からの磁束を対向する二層膜構造の垂直磁気ディ
スクの軟磁性層を通して再び主磁極へ還流させる磁束リ
ターン用磁性ヨークを媒体対向面に露出、或いは近接し
た状態に配置することが可能となり、記録・再生効率が
著しく向上する等、実用上優れた効果を奏する。
第1図(a)〜(e)は本発明に係る垂直薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法の一実施例を示す要部断 面図、 第2図(a)〜(d)は本発明に係る垂直薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法の他の実施例を示す要部 断面図、 第3図(a)〜(d)は従来の垂直薄膜磁気へノドの製
造方法の一例を示す要部断面図、 第4図は従来の垂直薄膜磁気ヘッドの問題点を説明する
ための要部断面図である。 第1図(a) 〜(e)及び第2図(a) 〜(d)に
おいて、21は主磁極、22は非磁性基板、23は層間
絶縁層、24は薄膜コイル、25は中心磁性ヨーク、2
6は無機絶縁層、27は溝、28゜33は磁束リターン
用磁性ヨーク、28a は脚状突出部、30.35は媒
体対向面、31はサイド磁性ヨーク、32は無機絶縁層
をそれぞれ示す。 ンffi’9f4 n’PL5I−1Jオに?(へJ1
%!t、fjfn/ff^5E’Je/j#p#t;緯
檜W第2図 3Wt
ドの製造方法の一実施例を示す要部断 面図、 第2図(a)〜(d)は本発明に係る垂直薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法の他の実施例を示す要部 断面図、 第3図(a)〜(d)は従来の垂直薄膜磁気へノドの製
造方法の一例を示す要部断面図、 第4図は従来の垂直薄膜磁気ヘッドの問題点を説明する
ための要部断面図である。 第1図(a) 〜(e)及び第2図(a) 〜(d)に
おいて、21は主磁極、22は非磁性基板、23は層間
絶縁層、24は薄膜コイル、25は中心磁性ヨーク、2
6は無機絶縁層、27は溝、28゜33は磁束リターン
用磁性ヨーク、28a は脚状突出部、30.35は媒
体対向面、31はサイド磁性ヨーク、32は無機絶縁層
をそれぞれ示す。 ンffi’9f4 n’PL5I−1Jオに?(へJ1
%!t、fjfn/ff^5E’Je/j#p#t;緯
檜W第2図 3Wt
Claims (2)
- (1)軟磁性膜からなる主磁極(21)を間に挟んで、
かつ接着して一体化した2枚の非磁性基板(22)の上
面に、該主磁極(21)を中心とした薄膜コイル(24
)と、該薄膜コイル(24)の中心に前記主磁極(21
)と接続する中心磁性ヨーク(25)とを形成する工程
と、該薄膜コイル(24)及び中心磁性ヨーク(25)
上に絶縁層(26)を被着した後、該絶縁層(26)を
前記中心磁性ヨーク(25)が露出するように平坦化す
る工程と、 前記薄膜コイル(24)の外周部の絶縁層(26)部位
に、直下の前記非磁性基板(22)内部に通ずる溝(2
7)を形成した後、該絶縁層(26)の上面に脚状突出
部(28a)を有する磁性フェライトからなる磁束リタ
ーン用磁性ヨーク(28)を、その脚状突出部(28a
)を前記溝(27)内に嵌入した状態で接着する工程と
、前記非磁性基板(22)の下面を、該磁束リターン用
磁性ヨーク(28)の脚状突出部(28a)が露出する
位置まで平坦研磨して媒体対向面(30)を形成する工
程とを含むことを特徴とする垂直薄膜磁気ヘッドの製造
方法。 - (2)軟磁性膜からなる主磁極(21)を間に挟んで、
かつ接着して一体化した2枚の非磁性基板(22)の上
面に、該主磁極(21)を中心とした薄膜コイル(24
)と、該薄膜コイル(24)の中心部に前記主磁極(2
1)と接続する磁性膜からなる中心磁性ヨーク(25)
と、外周部にサイド磁性ヨーク(31)を形成する工程
と、該薄膜コイル(24)、中心磁性ヨーク(25)及
びサイド磁性ヨーク(31)上に絶縁層(32)を被着
した後、該絶縁層(32)を前記中心磁性ヨーク(25
)及びサイド磁性ヨーク(31)が露出するように平坦
化する工程と、 該中心磁性ヨーク(25)及びサイド磁性ヨーク(31
)が露出する絶縁層(32)上に磁性フェライトからな
る磁束リターン用磁性ヨーク(33)を接着した後、前
記非磁性基板(22)の下面を平坦研磨して薄層化し媒
体対向面(35)を形成する工程とを含むことを特徴と
する垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10946990A JPH046607A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10946990A JPH046607A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH046607A true JPH046607A (ja) | 1992-01-10 |
Family
ID=14511023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10946990A Pending JPH046607A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | 垂直薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH046607A (ja) |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP10946990A patent/JPH046607A/ja active Pending
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