JPH0466919A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

液晶表示装置の製造方法

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JPH0466919A
JPH0466919A JP2177100A JP17710090A JPH0466919A JP H0466919 A JPH0466919 A JP H0466919A JP 2177100 A JP2177100 A JP 2177100A JP 17710090 A JP17710090 A JP 17710090A JP H0466919 A JPH0466919 A JP H0466919A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
film
crystal display
display device
etched
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Pending
Application number
JP2177100A
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English (en)
Inventor
Mitsutaka Nishikawa
西川 光貴
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、詳しくはス
イッチング用非線形抵抗素子を用いたアクティブマトリ
ックス型液晶表示装置の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
アクティブマトリックス型液晶表示装置におけるスイッ
チング用非線形抵抗2端子素子であるMIMは、それぞ
れの電極にはさまれた絶縁層重が高電界で電流を流す性
質を利用している。非線形な電流−電圧特性のメカニズ
ムは5hottkyやP4O10−Freukel  
機構等によって説明されているが、そのメカニイムは不
明な点も多い。
これらの素子の製造は下記の通りに形成される。まずガ
ラス基板上にエツチングストッパー用として、−船釣に
はTaの酸化物が形成される。これは、必要に応じて形
成されるものであるが、特にTaのエツチングガスでお
かされ難い透明な酸化物、あるいは窒化物が選ばれる。
次に下部電極として、Taが周知のスパッタリングで形
成し、フォトリン・エツチングで所定の寸法に形成する
Taのエツチングは、−船釣には、OF。
CF4+Oz等のエツチングガスを用いたドライエツチ
ング法が用いられる。しかる後に、Taを陽極酸化して
、Taの酸化膜を絶縁層として作成する。陽極酸化は一
般的には1%クエン酸溶液を用いる。この’ra酸化膜
は、熱酸化あるいはO。
ガスによるプラズマ酸化でも得ることが出来る。
次いで上部電極としてその上にCrをスパッタリングで
形成する。Crも所定の寸法にフォトリソ・エツチング
を用い形成される。さらに画素電極が形成される。画素
電極は、工To(インジーラム・スズオキサイド)をパ
ターニングして作られる。これらの素子基板を用い液晶
パネルに組み立てられる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、前述の従来技術では以下の様な問題点を有する
下部電極は、抵抗の問題から厚みが約60001であり
、陽極酸化層も含めて約5200Xの厚みになっている
。また、Taのエツチングされた端面ば、急しぬんな形
状になりており、上部電極であるCrは、スパッタリン
グで形成しても充分なステップカバレッジを得ることが
難しく、シばしば、Crの断線が生じてしまうという問
題を有していた。
〔課題を解決するための手段〕
複数の行電極と対向基板上、にこれに交差して配置され
た複数の列電極を備え、これら両電極の交差部に、マト
リックス状に形成された画素部にスイッチング用非線形
抵抗素子と液晶を電気的に直列に接続して配置したアク
ティブマトリックス型液晶表示装置において、前記スイ
ッチング素子がTaの下部電極であり、絶縁膜がTaの
酸化膜あるいは酸窒化膜であり、上部電極としてcrで
構成されたMIM構造(メタル・インシュレーター・メ
タル)を有しており、上部電極のCrが所定の寸法にフ
ォトリソグラフィを用いてエツチングされた後、さらに
Crを電気メッキして作成した〔実施例〕 フーニング社製7059Baホウケイ酸ガラスを80℃
の熱硫酸で洗浄した。この基板を用いスパッタリング装
置で、ガラス保護膜としてTa膜を500X形成した。
しかる後に、酸化雰囲気中で450℃の熱酸化を行い、
Ta205を形成した。これはスイッチング素子の特性
には直接彰響するものではな(、ガラスの保護として作
成したものであり、その必要が少なげれば、必ずしも形
成する必要はない。
次に、下部電極用としてTa膜をスパッタリングで約5
000′に形成した。Taを所定の寸法にフォトリソグ
ラフィ・エツチング技術を使いバターニングした。エツ
チングは、(!?、60%+0240%ガスを用いドラ
イエツチング法にて行なつた。
次に1%クエン酸を用い陽極酸化法にて酸化膜を形成し
た。酸化膜の厚みは約5ooXである。
次にCrをスパッタリングした。厚みは150oXとし
た。周知のフォトリソグラフィを用い、6?[iニセリ
ウムアンモニウム溶液で湿式エツチングした。
この時、Crの断線は153600パターン中約12ケ
生じていた。これは、ガラス基板10枚の平均Cr断線
数である。各々のar断線数は表1に示す。
表I   Crの断線数(Crエツチング上り)パネル
のCr断線は8ケ以下まで許容されているため、パネル
の歩留りとしては70%である。
次にフォトレジストを剥M後、下部電極のTaを陰極と
して用い、サージェント浴にてCrメッキを実施した。
サージェント浴組成は無水クロム酸2009/l、硫酸
21/lである。液温55℃に保った浴に電流密度50
A/djとしメッキを実施した。電極は鉛板とした。メ
ッキ時間は10分間とした。
しかる後にCrの断線を調査した。その結果を表2に示
す。
表2  Crの断線数(Crの電解メッキ後)なってい
た。
〔発明の効果〕
以上述べた通り、本発明によれば、Crの断線が激減し
たことが分る。したがって、Crの断線による素子の欠
陥がな(なることから、パネルに組み立てた時の画素欠
陥をなくすことが出来、パネルの歩留りを向上すること
が出来た。
以上 表2からも明らかな様にCarの平均断線数は07ケと
激減した。また、パネルの歩留りは100%となった。
Crの析出状況を見ると、Crの断線部からメッキが成
長しており、その密着性は強固なものと出願人 セイコ
ーエプソン株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数の行電極と対向基板上にこれに交差して配置された
    複数の列電極を備え、これら両電極の交差部に、マトリ
    ックス状に形成された画素部にスイッチング用非線形抵
    抗素子と液晶を電気的に直列に接続して配置したアクテ
    ィブマトリックス型液晶表示装置において、前記スイッ
    チング素子がTaの下部電極であり、絶縁膜がTaの酸
    化膜あるいは酸窒化膜であり、上部電極としてCrで構
    成されたMIM構造(メタル・インシュレータ・メタル
    )を有しており、上部電極のCrが所定の寸法にフォト
    リソグラフィを用いてエッチングされた後、さらにCr
    を電解メッキして作成したことを特徴とする液晶表示装
    置の製造方法。
JP2177100A 1990-07-04 1990-07-04 液晶表示装置の製造方法 Pending JPH0466919A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005258382A (ja) * 2004-02-09 2005-09-22 Hitachi Ltd スクリーン及びそれに用いられるフレネルレンズシート、並びにそれを用いた画像表示装置
JP2009136213A (ja) * 2007-12-06 2009-06-25 Doggy Man H A Co Ltd ペット用のリード収納装置

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