JPH0467012A - コンタクトレンズの製造方法 - Google Patents
コンタクトレンズの製造方法Info
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- JPH0467012A JPH0467012A JP17845190A JP17845190A JPH0467012A JP H0467012 A JPH0467012 A JP H0467012A JP 17845190 A JP17845190 A JP 17845190A JP 17845190 A JP17845190 A JP 17845190A JP H0467012 A JPH0467012 A JP H0467012A
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Landscapes
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、視力の矯正に用いるコンタクトレンズの製造
方法に関する。
方法に関する。
［従来の技術］
従来、コンタクトレンズ装用時の異物感を減少させ、い
わゆる装用感を向上させる手段としては、コンタクトレ
ンズ表面を、親水性を有する高分子膜で修飾することに
より濡れ性を向上させ、角膜とレンズ表面のなじみを良
くする方法がある。この時、レンズ表面を高分子膜でｇ
ｓする前処理として、レンズ材表面をプラズマ処理し、
表面に活性点を導入する必要がある。
わゆる装用感を向上させる手段としては、コンタクトレ
ンズ表面を、親水性を有する高分子膜で修飾することに
より濡れ性を向上させ、角膜とレンズ表面のなじみを良
くする方法がある。この時、レンズ表面を高分子膜でｇ
ｓする前処理として、レンズ材表面をプラズマ処理し、
表面に活性点を導入する必要がある。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、従来上述のプラズマ処理はプラズマ点灯領域で
行なわれていた。該領域ではプラズマ粒子の密度、エネ
ルギー等の空間分布が不均一であり、このような状況下
では、特に大量処理の場合等、レンズ材表面への活性点
の導入を個体毎にばらつきなく均一に行なうことが困難
であるため、最終的に得られるコンタクトレンズ表面の
濡れ性も個体毎にばらつき、これを製造工程における条
件で制御することができないといった問題点を有してい
た。
行なわれていた。該領域ではプラズマ粒子の密度、エネ
ルギー等の空間分布が不均一であり、このような状況下
では、特に大量処理の場合等、レンズ材表面への活性点
の導入を個体毎にばらつきなく均一に行なうことが困難
であるため、最終的に得られるコンタクトレンズ表面の
濡れ性も個体毎にばらつき、これを製造工程における条
件で制御することができないといった問題点を有してい
た。
そこで本発明では、上記の問題点を解決すべく、レンズ
表面数ｗ後の濡れ性の個体毎のばらつきを無くし、品質
の均一なコンタクトレンズが得られるようなコンタクト
レンズの製造方法を提供することを目的とする。
表面数ｗ後の濡れ性の個体毎のばらつきを無くし、品質
の均一なコンタクトレンズが得られるようなコンタクト
レンズの製造方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
上記課題を解決するため、本発明のコンタクトレンズの
製造方法は、 （ａ）円筒状母材からの削り出し及び表
面研磨を経てレンズを形成する工程と、 （ｂ）レンズ
表面をプラズマ処理する工程と、（ｃ）レンズ表面をレ
ンズ材とは異なる高分子で修飾する工程とから成るコン
タクトレンズの製造方法において、前記（ｂ）工程のプ
ラズマ処理を、拡散プラズマを用いて行なうことを特徴
とする。
製造方法は、 （ａ）円筒状母材からの削り出し及び表
面研磨を経てレンズを形成する工程と、 （ｂ）レンズ
表面をプラズマ処理する工程と、（ｃ）レンズ表面をレ
ンズ材とは異なる高分子で修飾する工程とから成るコン
タクトレンズの製造方法において、前記（ｂ）工程のプ
ラズマ処理を、拡散プラズマを用いて行なうことを特徴
とする。
［作用］
拡散によるプラズマを用いれば圧力等の制御を行なうこ
とで、プラズマ処理空間におけるプラズマの分布を均一
にすることができる。これにより、特に大量処理の場合
等では、個体毎にばらつきなくレンズ表面に活性点を導
入することが可能となり、ひいては品質の均一な表面濡
れ性を有するコンタクトレンズを製造することができる
のである。
とで、プラズマ処理空間におけるプラズマの分布を均一
にすることができる。これにより、特に大量処理の場合
等では、個体毎にばらつきなくレンズ表面に活性点を導
入することが可能となり、ひいては品質の均一な表面濡
れ性を有するコンタクトレンズを製造することができる
のである。
［実施例］
以下、本発明について、実施例にもとすき詳細に説明す
る。
る。
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を主原料とする
母材から、削り出しにより直径１０ｍｍ、厚さ０．５ｍ
ｍの平板ディスクを１０枚作製し、各々表面（両面）に
研磨処理を施した。その内の５枚（試料１〜５）につい
て、第１図に示したプラズマ発生装置のチャンバー内に
設けた試料室１の任意の場所に設置した。尚、試料は１
枚づつ導入し、各試料毎に以下に述べるプラズマ照射を
行なった。
母材から、削り出しにより直径１０ｍｍ、厚さ０．５ｍ
ｍの平板ディスクを１０枚作製し、各々表面（両面）に
研磨処理を施した。その内の５枚（試料１〜５）につい
て、第１図に示したプラズマ発生装置のチャンバー内に
設けた試料室１の任意の場所に設置した。尚、試料は１
枚づつ導入し、各試料毎に以下に述べるプラズマ照射を
行なった。
試料室１はプラズマ点灯領域２とステンレス製メツシュ
３で仕切られており、拡散によるプラズマ粒子のみを試
料に曝すことができる。チャンバー内の圧力がＩ Ｘ
１０−７ｔｏｒｒに到達するまで充分真空引きを行なっ
た後、ガス導入口１１よりアルゴンガスをチャンバー内
に導き圧力をｌＸｌ０−３ｔｏｒｒに保った。次に、マ
グネット４から発する磁場（約９００Ｇａｕｓｓ）と、
プラズマ点灯領域２に挿入されたアンテナ５がら発する
マイクロ波（４，２５ＧＨｚ、出力５０Ｗ）との共鳴で
、アルゴンプラズマを点灯させた。試料をプラズマに３
秒間曝した後、これを取り出し、１０％アクリルアミド
水溶液に浸漬し、充分脱気（１ｓ ｏ ”ｃ恒温下で２
０分間重合を行ない、試料表面へのポリアクリルアミド
の修飾を行なった。一方、比較のため、プラズマ処理を
チャンバー内のプラズマ点灯領域２の任意の場所で行な
ったもの（比較例１〜５）も用意し、併せて以下の如き
評価を行なった。
３で仕切られており、拡散によるプラズマ粒子のみを試
料に曝すことができる。チャンバー内の圧力がＩ Ｘ
１０−７ｔｏｒｒに到達するまで充分真空引きを行なっ
た後、ガス導入口１１よりアルゴンガスをチャンバー内
に導き圧力をｌＸｌ０−３ｔｏｒｒに保った。次に、マ
グネット４から発する磁場（約９００Ｇａｕｓｓ）と、
プラズマ点灯領域２に挿入されたアンテナ５がら発する
マイクロ波（４，２５ＧＨｚ、出力５０Ｗ）との共鳴で
、アルゴンプラズマを点灯させた。試料をプラズマに３
秒間曝した後、これを取り出し、１０％アクリルアミド
水溶液に浸漬し、充分脱気（１ｓ ｏ ”ｃ恒温下で２
０分間重合を行ない、試料表面へのポリアクリルアミド
の修飾を行なった。一方、比較のため、プラズマ処理を
チャンバー内のプラズマ点灯領域２の任意の場所で行な
ったもの（比較例１〜５）も用意し、併せて以下の如き
評価を行なった。
本発明の製造方法によるもの（試ｊ４１〜５）及び従来
の方法によるもの（比較例１〜５）について、プラズマ
処理前（即ち、母材がらの削り出し・研磨ｔ＆）、処理
後の表面の濡れ性を液滴法にて水の接触角を測定するこ
とにより評価した。結果を第１表に掲げる。
の方法によるもの（比較例１〜５）について、プラズマ
処理前（即ち、母材がらの削り出し・研磨ｔ＆）、処理
後の表面の濡れ性を液滴法にて水の接触角を測定するこ
とにより評価した。結果を第１表に掲げる。
第１表より明らかな如く、本発明によるもの（試料１〜
５）は表面処理後の接触角が処理前に比べ減少しており
、従って濡れ性が大幅に向上していることがわかる。し
かも得られた表面状態は個体毎のばらつきが全くなく均
一なものとなっている。一方、従来の方法によるもの（
比較例１〜５）は表面処理後の濡れ性に個体毎のばらつ
きが顕著に現れていることがわかる。
５）は表面処理後の接触角が処理前に比べ減少しており
、従って濡れ性が大幅に向上していることがわかる。し
かも得られた表面状態は個体毎のばらつきが全くなく均
一なものとなっている。一方、従来の方法によるもの（
比較例１〜５）は表面処理後の濡れ性に個体毎のばらつ
きが顕著に現れていることがわかる。
尚、本実施例では試料として平板ディスクを用いた際の
結果を示したが、コンタクトレンズ様の曲率を有するレ
ンズ状の試料に於いても本実施例と同様の結果が得られ
た。
結果を示したが、コンタクトレンズ様の曲率を有するレ
ンズ状の試料に於いても本実施例と同様の結果が得られ
た。
第
表
［発明の効果］
以上述べたように、本発明のコンタクトレンズの製造方
法では、 （ａ）円筒状母材からの削り出し及び表面研
磨を経てレンズを形成する工程と、（ｂ）レンズ表面を
プラズマ処理する工程と、 （ｃ）レンズ表面をレンズ
材とは異なる高分子で修飾する工程とから成るコンタク
トレンズの製造方法において、前記（ｂ）工程のプラズ
マ処理を、拡散プラズマを用いて行なうので、レンズ表
面への活性点の導入を、個体毎にばらつきなく均質に行
なうことができる。これにより、後工程に於ける親水性
高分子による表面修飾で均一な表面濡れ性を有するコン
タクトレンズを製造することが可能となった。従って、
本発明の製造方法を用いれば、従来問題となっていた表
面濡れ性の個体毎のばらつきを皆無にすることができ、
また量産に於いては工程管理、製品の品質管理等が大幅
に改善され、そのもたらされる効果は多大である。
法では、 （ａ）円筒状母材からの削り出し及び表面研
磨を経てレンズを形成する工程と、（ｂ）レンズ表面を
プラズマ処理する工程と、 （ｃ）レンズ表面をレンズ
材とは異なる高分子で修飾する工程とから成るコンタク
トレンズの製造方法において、前記（ｂ）工程のプラズ
マ処理を、拡散プラズマを用いて行なうので、レンズ表
面への活性点の導入を、個体毎にばらつきなく均質に行
なうことができる。これにより、後工程に於ける親水性
高分子による表面修飾で均一な表面濡れ性を有するコン
タクトレンズを製造することが可能となった。従って、
本発明の製造方法を用いれば、従来問題となっていた表
面濡れ性の個体毎のばらつきを皆無にすることができ、
また量産に於いては工程管理、製品の品質管理等が大幅
に改善され、そのもたらされる効果は多大である。
第１図は、本発明のコンタクトレンズの製造方法で用い
るプラズマ発生装置の概念図。 １・・・試料室 ２・・・プラズマ点灯領域 ３・・・ステンレス製メツシュ ４・・・マグネット ５・・・アンテナ ト・・ガス導入口 １・・・ターボ分子ポンプ ２・・・ロータリーポンプ ト・・パルプ
るプラズマ発生装置の概念図。 １・・・試料室 ２・・・プラズマ点灯領域 ３・・・ステンレス製メツシュ ４・・・マグネット ５・・・アンテナ ト・・ガス導入口 １・・・ターボ分子ポンプ ２・・・ロータリーポンプ ト・・パルプ
Claims (1)
- （ａ）円筒状母材からの削り出し及び表面研磨を経てレ
ンズを形成する工程と、（ｂ）レンズ表面をプラズマ処
理する工程と、（ｃ）レンズ表面をレンズ材とは異なる
高分子で修飾する工程とから成るコンタクトレンズの製
造方法において、前記（ｂ）工程のプラズマ処理を、拡
散プラズマを用いて行なうことを特徴とするコンタクト
レンズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17845190A JPH0467012A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | コンタクトレンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17845190A JPH0467012A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | コンタクトレンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0467012A true JPH0467012A (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=16048751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17845190A Pending JPH0467012A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | コンタクトレンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0467012A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8423874B2 (en) | 2009-12-18 | 2013-04-16 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Transmitter and receiver for terrestrial digital multimedia broadcasting |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP17845190A patent/JPH0467012A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8423874B2 (en) | 2009-12-18 | 2013-04-16 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Transmitter and receiver for terrestrial digital multimedia broadcasting |
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