JPH0467314A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPH0467314A
JPH0467314A JP17565790A JP17565790A JPH0467314A JP H0467314 A JPH0467314 A JP H0467314A JP 17565790 A JP17565790 A JP 17565790A JP 17565790 A JP17565790 A JP 17565790A JP H0467314 A JPH0467314 A JP H0467314A
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貴志 宮本
Hideyuki Ohashi
大橋 英之
Shinpei Yamamoto
晋平 山本
Yoshiichi Kodera
宣一 小寺
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Toyobo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュ
ーターテープ、磁気ディスク、フロッピーディスク、磁
気カードなどに関して用いられる磁気記録媒体の性能向
上に関し、さらに詳しくは、放射線により硬化するバイ
ンダを用いた磁気記録媒体に関する。
(従来の技術) 近年、磁気記録媒体においては、放射線硬化性樹脂を磁
性粉およびその他の必須成分とともに混合分散して磁性
塗料を調整し、えらめれる磁性塗料を支持体上に塗布、
乾燥させた後、放射線硬化し磁性層を形成することが行
なわれている。
そして、これら放射線硬化性樹脂として、塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体などの水酸基を
有する塩化ビニル系共重合体に、エチレン不飽和基を有
するモノイソシアネート化合物、たとえばトリレンジイ
ソシアネート1モルと2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト1モルとの7ダクト体などを反応させて放射線硬化性
樹脂を得たり、または水酸基を存する塩化ビニル系共重
合体と酸無水物を反応させ、その後グリシジルアクリレ
ート化合物を反応させて放射線硬化性樹脂を得たりして
いる。
しかしながら、これら放射線硬化性樹脂をバインダとし
て用いた場合、極性基を持たないた分散剤を使用しなけ
ればならず、塗膜物性の低下が生じる。また高分子鎖か
ら長い側鎖を用いてエチレン性不飽和化合物を結合させ
ているため磁性粉の分散性、配向性が不十分であり、高
記録密度化に対して不十分であるという欠点を有してい
る。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、上記の種々の欠点を改良したもので、分散性
、配向性に優れた高記録密度化に適した磁気記録媒体を
提供するものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は、水酸基、および水酸基以外の極性基を有する
塩化ビニル系共重合体(A)とエチレン性不飽和二重結
合を1個以上およびイソシアネート(B)とを反応させ
得られる放射線硬化性樹脂と磁性粉とを含む磁性層が支
持体上に設けられ、放射線により硬化されてなる磁気記
録媒体である。
本発明において、水酸基および極性基を有する塩化ビニ
ル系共重合体(A)としては、塩化ビニに一酢酸ビニル
ービニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビニルアル
コール共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコール−グリシジル(メタ)アクリレート共
重合体などがあり、水酸基の数としては1分子中に3〜
60個、好ましくは5〜30個であり、また極性基とし
ては一0803M基、−803基、−OPC)aM基、
−PO3M基、−C00M基などがある(M原子は)1
% Li1Nas K% BalCsなどを示す。)。
これらの極性基は1種または2種以上含有させることが
できる。
本発明において、エチレン性不飽和二重結合を1個以上
およびインシアネート基1個を1分子中に有しかつウレ
タン結合を分子中に持たないモノマー(B)としては、
2−インシアネートエチル(メタ)アクリレートなどが
ある。この分子の様にインシアネート基とアクリル基の
距離は短くなければならない。
水酸基、および極性基を有する塩化ビニル系共重合体(
A)と七ツマ−(B)との反応によってウレタン結合に
よりエチレン性不飽和二重結合を導入するが、水酸基お
よびその他の極性基を有する塩化ビニル系共重合体(A
)とモノマー(B)のモル比によって放射線硬化性を自
由に設計できる。しかしながら、ウレタン結合濃度を上
げすぎると分散性の低下が生じる。そこで分散性と硬化
性のバランスを取ると、水酸基およびその他の極性基を
存する塩化ビニル系共重合体(A)1分子あたり1〜2
0個、好ましくは2〜10個のモノマー(B)を反応さ
せると分散性、硬化性ともに優れた放射線硬化性樹脂を
得ることができる。
本発明における、水酸基およびその他の極性基を有する
塩化ビニル系共重合体(A)とモノマー(B)の反応は
、必要に応じて反応に関与しない公知の有機溶剤に水酸
基およびその他の極性基を有する塩化ビニル系共重合体
を溶解させ、公知のウレタン化反応触媒を用い、公知の
ラジカル重合禁止剤、たとえばハイドロキノンを用い、
反応温度60℃以下で行なわれる。
本発明において磁性粉としては、γ−Fe20.、Fe
5O4、γ−Fe2QsとFe50.の混晶、コバルト
をドープしたγ−Fe20a 、コバルトをドープした
Fe3O4、二酸化クロム、バリウムフェライト、また
は鉄、コバルト等の金属磁性体、あるいは種々の合金磁
性体等をあげることができる。
上記放射線硬化性樹脂および磁性粉のほかに、ポリエス
テルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキ
シアクリレートなどの放射線硬化性樹脂、スチレンなど
の希釈モノマー、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤などを添
加し、塗布などの方法により支持体上に磁性層として設
け、必要に応じて乾燥した後、放射線照射により硬化さ
せて磁気記録媒体を得る。
本発明の磁気記録媒体に用いられる支持体としては、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル
、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルミニウム合金な
どの任意の物をあげることができる。また、塗布乾燥後
の磁性層の厚さは通常2〜20μmである。
本発明において便用される放射線としては、電子線加速
器などを線源とした電子線 C011(!を線源とした
γ線、X線発生器を線源としたX線、紫外線などである
(実施例) 以下、実施例により本発明を説明する。実施例中部とは
、重量部を表わす。
合成例 1 塩化ビニル系共重合体rMR110J  (商品名、日
本ゼオン社製)100部をメチルエチルケトン200部
とトルエン50部に溶解させ、ついでフェノチアジン、
ハイドロキノンを各々アクリル化合物に対して200 
ppo+混合した。その後2−イソシアナートエチルメ
タアクリレート(MOI、昭和電工社製)5部、ウレタ
ン化反応触媒のジーn−ブチ/L/チンラウレート(D
BTL)をMOIに対してL O00ppa+混合し、
反応温度60℃で8時間撹拌を行なった。IRスペクト
ルによりインシアネート基の吸収がないことを確認した
合成例 2 80℃に加熱したトリレンジイソシアネート174部に
ハイドロキノン0.13部を加えた後、2−ヒドロキシ
エチルメタアクリレート130部を徐々に滴下すること
により加え、80℃で2時間反応させてアダクト体を得
た。
塩化ビニル系共重合体rVROHJ  (商品名、ユニ
オンカーバイド社製)200部をメチルエチルケトン4
00部、トルエン180部に60℃で溶解させ、これに
得られたアダクト体50部を加え、ウレタン化反応触媒
のDBTLを0.1部加えた。60℃で8時間攪拌し、
工Rスペクトルによりイソシアネート基の吸収のないこ
とを確認した。
合成例 3 塩化ビニル系共重合体rVROH4200部をメチルエ
チルケトン290部に60℃で溶解させ、次いで無水フ
タル酸25部、グリシジルメタアクリレート25部、ハ
イドロキノン0.02部およびトリエタノールアミン0
.12部を加え、80℃で200時間反応せ、酸価が1
0未満になったのを確認した。
実施例 1 成分■ 成分■ 上記成分■をボールミル中にて3時間混合分散させ、次
いで上記成分■を加え、5時間混合分散させて磁性塗料
を得た。得られた磁性塗料を厚さ15μmのポリエステ
ルフィルム製支持体に塗布することによって磁性層を設
け、磁場配向させ、電子線を5 Mradll射するこ
とにより硬化させた。
得られた磁気フィルムについて、磁気記録媒体の性能評
価を行なうために表面光沢(グロス60度)、角形比(
Rs)の測定を行った。
なお、上記の磁性塗料は24時間放置後も磁性粉の沈殿
やバインダーの分離等はほとんど認められず非常に安定
なものであった。
比較例 1 実施例1において、合成例1で得られた樹脂の溶剤溶液
のかわりに、合成例2で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なお磁性塗料の安定性は不良であっ
た。
比較例 2 実施例1において、合成例1で得られた樹脂の溶剤溶液
のかわりに、合成例3で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なお、磁性塗料の安定性は不良であ
った。
得うれた磁気フィルムについて、実施例と比較例との評
価結果を第1−表に示す。
平成2年9月6日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 水酸基および水酸基以外の極性基を有する塩化ビニル系
    共重合体(A)とエチレン性不飽和二重結合を分子中に
    持たないモノマー(B)とを反応させて得られる放射線
    硬化性樹脂と磁性粉とを含む磁性層が支持体上に設けら
    れ、放射照射線照射により硬化されてなる磁気記録媒体
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7001955B2 (en) 2003-05-28 2006-02-21 Tdk Corporation Electron beam curing resin for magnetic recording medium, method for manufacturing the same, and magnetic recording medium including the same
US7026371B2 (en) 2002-03-29 2006-04-11 Tdk Corporation Electron beam curable urethane resin for magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording medium using the same
JP2011046930A (ja) * 2009-07-31 2011-03-10 Fujifilm Corp 放射線硬化性塩化ビニル系樹脂組成物およびその製造方法、塩化ビニル系樹脂、磁気記録媒体、ならびに放射線硬化性塩化ビニル系樹脂用保存安定剤

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