JPH0467314A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPH0467314A JPH0467314A JP17565790A JP17565790A JPH0467314A JP H0467314 A JPH0467314 A JP H0467314A JP 17565790 A JP17565790 A JP 17565790A JP 17565790 A JP17565790 A JP 17565790A JP H0467314 A JPH0467314 A JP H0467314A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュ
ーターテープ、磁気ディスク、フロッピーディスク、磁
気カードなどに関して用いられる磁気記録媒体の性能向
上に関し、さらに詳しくは、放射線により硬化するバイ
ンダを用いた磁気記録媒体に関する。
ーターテープ、磁気ディスク、フロッピーディスク、磁
気カードなどに関して用いられる磁気記録媒体の性能向
上に関し、さらに詳しくは、放射線により硬化するバイ
ンダを用いた磁気記録媒体に関する。
(従来の技術)
近年、磁気記録媒体においては、放射線硬化性樹脂を磁
性粉およびその他の必須成分とともに混合分散して磁性
塗料を調整し、えらめれる磁性塗料を支持体上に塗布、
乾燥させた後、放射線硬化し磁性層を形成することが行
なわれている。
性粉およびその他の必須成分とともに混合分散して磁性
塗料を調整し、えらめれる磁性塗料を支持体上に塗布、
乾燥させた後、放射線硬化し磁性層を形成することが行
なわれている。
そして、これら放射線硬化性樹脂として、塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体などの水酸基を
有する塩化ビニル系共重合体に、エチレン不飽和基を有
するモノイソシアネート化合物、たとえばトリレンジイ
ソシアネート1モルと2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト1モルとの7ダクト体などを反応させて放射線硬化性
樹脂を得たり、または水酸基を存する塩化ビニル系共重
合体と酸無水物を反応させ、その後グリシジルアクリレ
ート化合物を反応させて放射線硬化性樹脂を得たりして
いる。
酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体などの水酸基を
有する塩化ビニル系共重合体に、エチレン不飽和基を有
するモノイソシアネート化合物、たとえばトリレンジイ
ソシアネート1モルと2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト1モルとの7ダクト体などを反応させて放射線硬化性
樹脂を得たり、または水酸基を存する塩化ビニル系共重
合体と酸無水物を反応させ、その後グリシジルアクリレ
ート化合物を反応させて放射線硬化性樹脂を得たりして
いる。
しかしながら、これら放射線硬化性樹脂をバインダとし
て用いた場合、極性基を持たないた分散剤を使用しなけ
ればならず、塗膜物性の低下が生じる。また高分子鎖か
ら長い側鎖を用いてエチレン性不飽和化合物を結合させ
ているため磁性粉の分散性、配向性が不十分であり、高
記録密度化に対して不十分であるという欠点を有してい
る。
て用いた場合、極性基を持たないた分散剤を使用しなけ
ればならず、塗膜物性の低下が生じる。また高分子鎖か
ら長い側鎖を用いてエチレン性不飽和化合物を結合させ
ているため磁性粉の分散性、配向性が不十分であり、高
記録密度化に対して不十分であるという欠点を有してい
る。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、上記の種々の欠点を改良したもので、分散性
、配向性に優れた高記録密度化に適した磁気記録媒体を
提供するものである。
、配向性に優れた高記録密度化に適した磁気記録媒体を
提供するものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、水酸基、および水酸基以外の極性基を有する
塩化ビニル系共重合体(A)とエチレン性不飽和二重結
合を1個以上およびイソシアネート(B)とを反応させ
得られる放射線硬化性樹脂と磁性粉とを含む磁性層が支
持体上に設けられ、放射線により硬化されてなる磁気記
録媒体である。
塩化ビニル系共重合体(A)とエチレン性不飽和二重結
合を1個以上およびイソシアネート(B)とを反応させ
得られる放射線硬化性樹脂と磁性粉とを含む磁性層が支
持体上に設けられ、放射線により硬化されてなる磁気記
録媒体である。
本発明において、水酸基および極性基を有する塩化ビニ
ル系共重合体(A)としては、塩化ビニに一酢酸ビニル
ービニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビニルアル
コール共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコール−グリシジル(メタ)アクリレート共
重合体などがあり、水酸基の数としては1分子中に3〜
60個、好ましくは5〜30個であり、また極性基とし
ては一0803M基、−803基、−OPC)aM基、
−PO3M基、−C00M基などがある(M原子は)1
% Li1Nas K% BalCsなどを示す。)。
ル系共重合体(A)としては、塩化ビニに一酢酸ビニル
ービニルアルコール共重合体、塩化ビニル−ビニルアル
コール共重合体、塩化ビニル−ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−
ビニルアルコール−グリシジル(メタ)アクリレート共
重合体などがあり、水酸基の数としては1分子中に3〜
60個、好ましくは5〜30個であり、また極性基とし
ては一0803M基、−803基、−OPC)aM基、
−PO3M基、−C00M基などがある(M原子は)1
% Li1Nas K% BalCsなどを示す。)。
これらの極性基は1種または2種以上含有させることが
できる。
できる。
本発明において、エチレン性不飽和二重結合を1個以上
およびインシアネート基1個を1分子中に有しかつウレ
タン結合を分子中に持たないモノマー(B)としては、
2−インシアネートエチル(メタ)アクリレートなどが
ある。この分子の様にインシアネート基とアクリル基の
距離は短くなければならない。
およびインシアネート基1個を1分子中に有しかつウレ
タン結合を分子中に持たないモノマー(B)としては、
2−インシアネートエチル(メタ)アクリレートなどが
ある。この分子の様にインシアネート基とアクリル基の
距離は短くなければならない。
水酸基、および極性基を有する塩化ビニル系共重合体(
A)と七ツマ−(B)との反応によってウレタン結合に
よりエチレン性不飽和二重結合を導入するが、水酸基お
よびその他の極性基を有する塩化ビニル系共重合体(A
)とモノマー(B)のモル比によって放射線硬化性を自
由に設計できる。しかしながら、ウレタン結合濃度を上
げすぎると分散性の低下が生じる。そこで分散性と硬化
性のバランスを取ると、水酸基およびその他の極性基を
存する塩化ビニル系共重合体(A)1分子あたり1〜2
0個、好ましくは2〜10個のモノマー(B)を反応さ
せると分散性、硬化性ともに優れた放射線硬化性樹脂を
得ることができる。
A)と七ツマ−(B)との反応によってウレタン結合に
よりエチレン性不飽和二重結合を導入するが、水酸基お
よびその他の極性基を有する塩化ビニル系共重合体(A
)とモノマー(B)のモル比によって放射線硬化性を自
由に設計できる。しかしながら、ウレタン結合濃度を上
げすぎると分散性の低下が生じる。そこで分散性と硬化
性のバランスを取ると、水酸基およびその他の極性基を
存する塩化ビニル系共重合体(A)1分子あたり1〜2
0個、好ましくは2〜10個のモノマー(B)を反応さ
せると分散性、硬化性ともに優れた放射線硬化性樹脂を
得ることができる。
本発明における、水酸基およびその他の極性基を有する
塩化ビニル系共重合体(A)とモノマー(B)の反応は
、必要に応じて反応に関与しない公知の有機溶剤に水酸
基およびその他の極性基を有する塩化ビニル系共重合体
を溶解させ、公知のウレタン化反応触媒を用い、公知の
ラジカル重合禁止剤、たとえばハイドロキノンを用い、
反応温度60℃以下で行なわれる。
塩化ビニル系共重合体(A)とモノマー(B)の反応は
、必要に応じて反応に関与しない公知の有機溶剤に水酸
基およびその他の極性基を有する塩化ビニル系共重合体
を溶解させ、公知のウレタン化反応触媒を用い、公知の
ラジカル重合禁止剤、たとえばハイドロキノンを用い、
反応温度60℃以下で行なわれる。
本発明において磁性粉としては、γ−Fe20.、Fe
5O4、γ−Fe2QsとFe50.の混晶、コバルト
をドープしたγ−Fe20a 、コバルトをドープした
Fe3O4、二酸化クロム、バリウムフェライト、また
は鉄、コバルト等の金属磁性体、あるいは種々の合金磁
性体等をあげることができる。
5O4、γ−Fe2QsとFe50.の混晶、コバルト
をドープしたγ−Fe20a 、コバルトをドープした
Fe3O4、二酸化クロム、バリウムフェライト、また
は鉄、コバルト等の金属磁性体、あるいは種々の合金磁
性体等をあげることができる。
上記放射線硬化性樹脂および磁性粉のほかに、ポリエス
テルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキ
シアクリレートなどの放射線硬化性樹脂、スチレンなど
の希釈モノマー、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤などを添
加し、塗布などの方法により支持体上に磁性層として設
け、必要に応じて乾燥した後、放射線照射により硬化さ
せて磁気記録媒体を得る。
テルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキ
シアクリレートなどの放射線硬化性樹脂、スチレンなど
の希釈モノマー、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤などを添
加し、塗布などの方法により支持体上に磁性層として設
け、必要に応じて乾燥した後、放射線照射により硬化さ
せて磁気記録媒体を得る。
本発明の磁気記録媒体に用いられる支持体としては、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル
、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルミニウム合金な
どの任意の物をあげることができる。また、塗布乾燥後
の磁性層の厚さは通常2〜20μmである。
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル
、ポリイミド、ポリアミドイミド、アルミニウム合金な
どの任意の物をあげることができる。また、塗布乾燥後
の磁性層の厚さは通常2〜20μmである。
本発明において便用される放射線としては、電子線加速
器などを線源とした電子線 C011(!を線源とした
γ線、X線発生器を線源としたX線、紫外線などである
。
器などを線源とした電子線 C011(!を線源とした
γ線、X線発生器を線源としたX線、紫外線などである
。
(実施例)
以下、実施例により本発明を説明する。実施例中部とは
、重量部を表わす。
、重量部を表わす。
合成例 1
塩化ビニル系共重合体rMR110J (商品名、日
本ゼオン社製)100部をメチルエチルケトン200部
とトルエン50部に溶解させ、ついでフェノチアジン、
ハイドロキノンを各々アクリル化合物に対して200
ppo+混合した。その後2−イソシアナートエチルメ
タアクリレート(MOI、昭和電工社製)5部、ウレタ
ン化反応触媒のジーn−ブチ/L/チンラウレート(D
BTL)をMOIに対してL O00ppa+混合し、
反応温度60℃で8時間撹拌を行なった。IRスペクト
ルによりインシアネート基の吸収がないことを確認した
。
本ゼオン社製)100部をメチルエチルケトン200部
とトルエン50部に溶解させ、ついでフェノチアジン、
ハイドロキノンを各々アクリル化合物に対して200
ppo+混合した。その後2−イソシアナートエチルメ
タアクリレート(MOI、昭和電工社製)5部、ウレタ
ン化反応触媒のジーn−ブチ/L/チンラウレート(D
BTL)をMOIに対してL O00ppa+混合し、
反応温度60℃で8時間撹拌を行なった。IRスペクト
ルによりインシアネート基の吸収がないことを確認した
。
合成例 2
80℃に加熱したトリレンジイソシアネート174部に
ハイドロキノン0.13部を加えた後、2−ヒドロキシ
エチルメタアクリレート130部を徐々に滴下すること
により加え、80℃で2時間反応させてアダクト体を得
た。
ハイドロキノン0.13部を加えた後、2−ヒドロキシ
エチルメタアクリレート130部を徐々に滴下すること
により加え、80℃で2時間反応させてアダクト体を得
た。
塩化ビニル系共重合体rVROHJ (商品名、ユニ
オンカーバイド社製)200部をメチルエチルケトン4
00部、トルエン180部に60℃で溶解させ、これに
得られたアダクト体50部を加え、ウレタン化反応触媒
のDBTLを0.1部加えた。60℃で8時間攪拌し、
工Rスペクトルによりイソシアネート基の吸収のないこ
とを確認した。
オンカーバイド社製)200部をメチルエチルケトン4
00部、トルエン180部に60℃で溶解させ、これに
得られたアダクト体50部を加え、ウレタン化反応触媒
のDBTLを0.1部加えた。60℃で8時間攪拌し、
工Rスペクトルによりイソシアネート基の吸収のないこ
とを確認した。
合成例 3
塩化ビニル系共重合体rVROH4200部をメチルエ
チルケトン290部に60℃で溶解させ、次いで無水フ
タル酸25部、グリシジルメタアクリレート25部、ハ
イドロキノン0.02部およびトリエタノールアミン0
.12部を加え、80℃で200時間反応せ、酸価が1
0未満になったのを確認した。
チルケトン290部に60℃で溶解させ、次いで無水フ
タル酸25部、グリシジルメタアクリレート25部、ハ
イドロキノン0.02部およびトリエタノールアミン0
.12部を加え、80℃で200時間反応せ、酸価が1
0未満になったのを確認した。
実施例 1
成分■
成分■
上記成分■をボールミル中にて3時間混合分散させ、次
いで上記成分■を加え、5時間混合分散させて磁性塗料
を得た。得られた磁性塗料を厚さ15μmのポリエステ
ルフィルム製支持体に塗布することによって磁性層を設
け、磁場配向させ、電子線を5 Mradll射するこ
とにより硬化させた。
いで上記成分■を加え、5時間混合分散させて磁性塗料
を得た。得られた磁性塗料を厚さ15μmのポリエステ
ルフィルム製支持体に塗布することによって磁性層を設
け、磁場配向させ、電子線を5 Mradll射するこ
とにより硬化させた。
得られた磁気フィルムについて、磁気記録媒体の性能評
価を行なうために表面光沢(グロス60度)、角形比(
Rs)の測定を行った。
価を行なうために表面光沢(グロス60度)、角形比(
Rs)の測定を行った。
なお、上記の磁性塗料は24時間放置後も磁性粉の沈殿
やバインダーの分離等はほとんど認められず非常に安定
なものであった。
やバインダーの分離等はほとんど認められず非常に安定
なものであった。
比較例 1
実施例1において、合成例1で得られた樹脂の溶剤溶液
のかわりに、合成例2で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なお磁性塗料の安定性は不良であっ
た。
のかわりに、合成例2で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なお磁性塗料の安定性は不良であっ
た。
比較例 2
実施例1において、合成例1で得られた樹脂の溶剤溶液
のかわりに、合成例3で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なお、磁性塗料の安定性は不良であ
った。
のかわりに、合成例3で得られた樹脂の溶剤溶液を使用
し、同様の組成および分散条件で磁性塗料を調整し、同
様の評価を行った。なお、磁性塗料の安定性は不良であ
った。
得うれた磁気フィルムについて、実施例と比較例との評
価結果を第1−表に示す。
価結果を第1−表に示す。
平成2年9月6日
Claims (1)
- 水酸基および水酸基以外の極性基を有する塩化ビニル系
共重合体(A)とエチレン性不飽和二重結合を分子中に
持たないモノマー(B)とを反応させて得られる放射線
硬化性樹脂と磁性粉とを含む磁性層が支持体上に設けら
れ、放射照射線照射により硬化されてなる磁気記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2175657A JP3044754B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2175657A JP3044754B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 磁気記録媒体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11232979A Division JP2000109537A (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | 放射線硬化性樹脂 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0467314A true JPH0467314A (ja) | 1992-03-03 |
| JP3044754B2 JP3044754B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=15999935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2175657A Expired - Fee Related JP3044754B2 (ja) | 1990-07-02 | 1990-07-02 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3044754B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7001955B2 (en) | 2003-05-28 | 2006-02-21 | Tdk Corporation | Electron beam curing resin for magnetic recording medium, method for manufacturing the same, and magnetic recording medium including the same |
| US7026371B2 (en) | 2002-03-29 | 2006-04-11 | Tdk Corporation | Electron beam curable urethane resin for magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording medium using the same |
| JP2011046930A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-03-10 | Fujifilm Corp | 放射線硬化性塩化ビニル系樹脂組成物およびその製造方法、塩化ビニル系樹脂、磁気記録媒体、ならびに放射線硬化性塩化ビニル系樹脂用保存安定剤 |
-
1990
- 1990-07-02 JP JP2175657A patent/JP3044754B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7026371B2 (en) | 2002-03-29 | 2006-04-11 | Tdk Corporation | Electron beam curable urethane resin for magnetic recording medium, method of manufacturing the same, and magnetic recording medium using the same |
| US7001955B2 (en) | 2003-05-28 | 2006-02-21 | Tdk Corporation | Electron beam curing resin for magnetic recording medium, method for manufacturing the same, and magnetic recording medium including the same |
| JP2011046930A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-03-10 | Fujifilm Corp | 放射線硬化性塩化ビニル系樹脂組成物およびその製造方法、塩化ビニル系樹脂、磁気記録媒体、ならびに放射線硬化性塩化ビニル系樹脂用保存安定剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3044754B2 (ja) | 2000-05-22 |
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