【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば乾式メツキ型磁気デイスクと
いつた磁気記録媒体に関するものである。
〔従来技術とその問題点〕
例えば、コンピユータ周辺機器の記憶媒体とし
て用いられている磁気デイスクには、塗布型のも
のと乾式又は湿式メツキ手段によるメツキ型のも
のとがある。
これらのうちメツキ型のものは、磁性膜形成に
バインダー樹脂が用いられていないので、すなわ
ち例えばCo系磁性合金材料を非磁性基体上にス
パツタリングといつたメツキ手段で設けたもので
あるから、磁性材料の充填密度が高く、高密度化
に適しているものの、これで充分満足できるもの
でもなく、さらなる研究が続けられている。
つまり、従来の乾式メツキ型磁気デイスクは、
メツキ磁性膜の膜面内での磁化容易軸が等方的な
ものとなつていることより、あるいはスパツタ装
置のマグネツトの影響を受けて半径方向に磁化容
易軸が向いていたりするので、その再生出力、分
解能等において問題が残されていたのである。
〔発明の開示〕
本発明者は、例えばスパツタリング等のペーパ
ーデポジシヨン手段で磁性膜を構成した磁気デイ
スクの乾式メツキ磁性膜は、その成膜過程おける
下地膜の表面状態によつて大きく影響を受けるの
ではないかと考え、このような発想に基いて研究
を続けた所、乾式メツキ磁性膜の磁化容易軸方向
は下地膜の表面状態によつて影響を受けることを
見い出し、このような点より本発明をなしとげた
のである。
すなわち、例えば磁気デイスクの場合にあつて
は、その非磁性基体上に略同心円状のあるいは略
渦巻状のといつたように、再生ヘツドの走行方向
にほぼ沿つた方向に傷を付けておき、このように
表面処理された非磁性基体の表面処理面に乾式メ
ツキ処理で磁性膜を構成すると、この乾式メツキ
磁性膜は乾式メツキ磁性膜の下地面の影響を受け
て、再生ヘツドの走行方向に沿つた方向に磁化容
易軸をもつ磁気異方性のあるものとなることを見
い出したのである。
尚、この非磁性基体上に形成する傷の程度は微
細なものであつて、例えば傷の深さの基準として
は、中心線平均粗さRaの表現手段で約0.002〜
0.1μm程度であり、又、ピツチは約50μm以下、
より好ましくは約0.1〜10μm程度であることが望
ましい。
つまり、中心線平均粗さRaが0.0002μmより大
巾に小さな傷付け程度であると、配向効果が小さ
くなり、又、逆に中心線平均粗さRaが0.1μmよ
り大巾に大きな傷付け程度であると、再生ヘツド
の浮上安定性が確保されにくく、例えばヘツドク
ラツシユが起きやすくなつたりするからであり、
又、傷のピツチが50μmを越えて大きくなりすぎ
ると、配向効果が小さくなるからである。
そして、このような傷付は、例えば非磁性基体
面上に研磨砥粒等を配し、非磁性基体を回転させ
ることで簡単に形成でき、このような傷の付けら
れた非磁性基体を例えばスパツタ装置内に配し、
所定のスパツタ条件でもつて非磁性基体面上に磁
性粒子をスパツタさせて成膜することより、本発
明になる磁気記録媒体は得られる。
〔実施例 １〜４〕
第１図ａ，ｂは、本発明に係る磁気記録媒体の
実施例の製造工程説明図である。
まず、第１図ａに示す如く、約1.9mm厚のNi−
Ｐメツキ膜付のAl製基板１を用意し、この基板
１面上に前記のような研磨手段で略円周方向に沿
つた方向に傷方向を有する傷２を形成する。
尚、この傷２の深さは中心線平均粗さRaがタ
リステツプによれば約0.0029〜0.0435μmであり、
かつ傷２のピツチは約1μmである。
その後、傷２の付けられた基板１をスパツタ装
置内に配し、所定のスパツタ条件（アルゴンガス
圧２×10-3Torr）でCr膜３を約4000Å厚形成し、
続いてCo−Ni磁性膜４を約600Å厚形成して磁気
デイスクを構成する。
〔実施例 ５〜８〕
実施例１と同様にして中心線平均粗さRaが約
0.0036〜0.0419μmでかつピツチが約1μmの略円周
方向に沿つた方向に傷方向を有する傷の付けられ
たNi−Ｐメツキ膜付ｌ製基板を用意し、この傷
の付いた基板をスパツタ装置内に配して所定のス
パツタ条件（アルゴンガス圧５×10-3Torr）で
Cr膜を約4000Å厚形成し、続いてCo−Ni磁性膜
を約600Å厚形成して磁気デイスクを構成する。
〔特性〕
上記各例で得た磁気デイスクについて、その再
生出力、分解能、W50（弧立再生波形の半値巾）、
Ｃ／Ｎ、D50（出力が1/2になつた際の周波数）、
Hc（保磁力）及びノイズ（5MHzの信号を記録し
た時の1.5MHz付近でのピーク値）を調べると、
表に示す通りである。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a magnetic recording medium such as, for example, a dry plating type magnetic disk. [Prior Art and Its Problems] For example, magnetic disks used as storage media for computer peripherals include coated disks and plated disks using dry or wet plating means. Among these, the plating type does not use binder resin to form the magnetic film, in other words, it is a method in which a Co-based magnetic alloy material is provided on a non-magnetic substrate by a plating method such as sputtering. Although the material has a high packing density and is suitable for increasing density, this is not completely satisfactory, and further research is continuing. In other words, the conventional dry plating type magnetic disk is
Because the axis of easy magnetization in the plane of the plated magnetic film is isotropic, or because the axis of easy magnetization is oriented in the radial direction due to the influence of the magnet of the sputtering device, the reproduction Problems remained in terms of output, resolution, etc. [Disclosure of the Invention] The present inventor has discovered that the dry plating magnetic film of a magnetic disk, in which the magnetic film is formed by paper deposition means such as sputtering, is greatly affected by the surface condition of the underlying film during the film formation process. After continuing research based on this idea, we discovered that the axis of easy magnetization of a dry-plated magnetic film is affected by the surface condition of the underlying film. He accomplished his invention. That is, in the case of a magnetic disk, for example, scratches are made on the non-magnetic substrate in a substantially concentric or spiral shape in a direction substantially parallel to the running direction of the reproducing head; When a magnetic film is formed by dry plating on the surface-treated surface of a non-magnetic substrate that has been surface-treated in this way, this dry-plated magnetic film is influenced by the underlying surface of the dry-plated magnetic film and is not aligned in the traveling direction of the playback head. They discovered that it has magnetic anisotropy with an axis of easy magnetization along the direction. Note that the degree of scratches formed on this non-magnetic substrate is minute, and for example, the standard for the depth of scratches is approximately 0.002 to 0.002 as expressed by center line average roughness Ra.
The pitch is approximately 0.1μm, and the pitch is approximately 50μm or less.
More preferably, it is about 0.1 to 10 μm. In other words, if the center line average roughness Ra is much smaller than 0.0002 μm, the alignment effect will be small, and conversely, if the center line average roughness Ra is much more than 0.1 μm, the alignment effect will be small. This is because it is difficult to ensure the floating stability of the playback head, and, for example, head crash is more likely to occur.
Furthermore, if the pitch of the scratches becomes too large, exceeding 50 μm, the alignment effect will be reduced. Such scratches can be easily created by, for example, placing abrasive grains on the surface of the non-magnetic substrate and rotating the non-magnetic substrate. Placed inside the sputtering device,
The magnetic recording medium of the present invention can be obtained by sputtering magnetic particles to form a film on the surface of a nonmagnetic substrate under predetermined sputtering conditions. [Examples 1 to 4] FIGS. 1a and 1b are explanatory diagrams of the manufacturing process of an example of a magnetic recording medium according to the present invention. First, as shown in Figure 1a, a Ni-
An Al substrate 1 with a P plating film is prepared, and scratches 2 having a scratch direction substantially along the circumferential direction are formed on the surface of the substrate 1 using the polishing means described above. In addition, the depth of this scratch 2 has a center line average roughness Ra of approximately 0.0029 to 0.0435 μm according to Talystep.
Moreover, the pitch of the scratch 2 is approximately 1 μm. Thereafter, the substrate 1 with the scratches 2 was placed in a sputtering device, and a Cr film 3 was formed to a thickness of about 4000 Å under predetermined sputtering conditions (argon gas pressure of 2×10 -3 Torr).
Subsequently, a Co--Ni magnetic film 4 is formed to a thickness of about 600 Å to form a magnetic disk. [Examples 5 to 8] In the same manner as in Example 1, the center line average roughness Ra was approximately
A Ni-P plated substrate with scratches of 0.0036 to 0.0419 μm and a pitch of approximately 1 μm and a scratch direction along the circumferential direction is prepared, and the scratched substrate is sputtered. Place it in the device and under the specified sputtering conditions (argon gas pressure 5 x 10 -3 Torr).
A Cr film is formed to a thickness of about 4000 Å, and then a Co-Ni magnetic film is formed to a thickness of about 600 Å to form a magnetic disk. [Characteristics] Regarding the magnetic disks obtained in each of the above examples, the reproduction output, resolution, W 50 (half width of the vertical reproduction waveform),
C/N, D 50 (frequency when output is reduced to 1/2),
When examining Hc (coercive force) and noise (peak value around 1.5MHz when recording a 5MHz signal),
As shown in the table.
〔効果〕〔effect〕
再生出力は高く、又、分解能にも優れてり、さ
らにはDC消去ノイズの少ない高密度記録の行な
えるものである。
It has high reproduction output, excellent resolution, and can perform high-density recording with little DC erase noise.
【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]
第１図ａ，ｂは、本発明に係る磁気記録媒体の
実施例の製造工程説明図である。
１……基板、２……傷、３……Cr膜、４……
Co−Ni磁性膜。
FIGS. 1a and 1b are explanatory views of the manufacturing process of an embodiment of the magnetic recording medium according to the present invention. 1... Substrate, 2... Scratch, 3... Cr film, 4...
Co-Ni magnetic film.