JPH0468571A - 密着型イメージセンサ - Google Patents

密着型イメージセンサ

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JPH0468571A
JPH0468571A JP2180624A JP18062490A JPH0468571A JP H0468571 A JPH0468571 A JP H0468571A JP 2180624 A JP2180624 A JP 2180624A JP 18062490 A JP18062490 A JP 18062490A JP H0468571 A JPH0468571 A JP H0468571A
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JP
Japan
Prior art keywords
switching
photoelectric conversion
image sensor
common
conversion elements
Prior art date
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Pending
Application number
JP2180624A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhide Onuki
大貫 康英
Kiyoshi Kurosawa
黒沢 清
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0468571A publication Critical patent/JPH0468571A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は1次元密着型イメージセンサの構造に関するも
のである。
(従来の技術) 従来、このような分野の技術としては、例えば、特開昭
59−048954号、特開昭59−062267号等
に記載されるものがあった。
そのような従来の密着型イメージセンサは、レンズアレ
イを用いず、光電変換素子列の表面保護膜(透明保護I
II)を介して、直接原稿面に密着させて、原稿を等倍
で読み取るようにしたものである。
以下、その構成を図を用いて説明する。
第3図は従来の密着型イメージセンサの構成図であり、
第3図(a)は原稿の位置する側(照明光源の反対側)
から見た平面図、第3図(b)はそのA−A線断面図で
ある。
これらの図に示すように、ガラス基板21上に光電変換
素子列の共通の配線である下部電極22を形成し、その
上に半導体膜23、例えば、水素化アモルファスシリコ
ンを形成する。更に、この上に上部電極24として、透
明電極(ITO)を形成した後に、金属配線25を形成
し、光電変換素子を得るようにしている。
この装置の動作は、発光源27から発せられる光の原稿
28による反射光を光電変換素子に照射し、半導体中に
キャリア(電荷担体)を発生させる。
単位時間に発生するキャリアの量により、上部電極24
に接する金属配線25の電位を変化させる。即ち、この
電位の変化が原稿の明暗の情報となる。
ここで、光電変換素子の数に応したスイッチング機能を
持つICの端子と金属配線25とを接続し、順次、スイ
ッチをターンオンすることで、時系列的に信号を得るこ
とができる。ICの端子と金属膜l525との接続には
、例えば、ワイヤボンディングが用いられる。また、全
体に透明絶縁膜26を堆積する。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記信号のレベルは小さいものであり、
外部或いはICの内部より発生するノイズが信号に重畳
し、信号のS/N比を悪化させる問題があった。
また、光電変換素子とスイッチングICとが互いに分離
していることにより、構造的に両者の共通電極の電位を
同一にすることが困難であったため、信号出力の分布が
不均一であった。
本発明は、上記問題点を解決するために、互いに離れた
位置にある光電変換素子列とスイッチングICとの共通
電極間に生しるインピーダンスを低下し、両者の電極間
の電位を同一化することにより、時系列的に得られるイ
メージセンサ信号の質を高めた密着型イメージセンサを
提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 本発明は、上記目的を達成するために、光電変換素子の
個々に接続される配線と、共通の配線とが互いに同一面
で交差することがないように形成すると共に、同一方向
に引き出される構造を有し、原稿を等倍で読み取る1次
元密着型イメージセンサにおいて、光電変換素子の個々
に接続される配線の間に引き出される共通の配線と、前
記光電変換素子と近接して配置されるスイッチングIc
チップの間に形成される共通電極とを具備し、前記共通
の配線と前記共通電極とを対向させ互いに接続するよう
にしたものである。
(作用) 本発明によれば、上記したように、光電変換素子列とス
イッチングICとを互いに近接して配置し、更に、充電
変換素子列の共通の配線の一部をスイッチングrCを配
置する側に引き出し、これとスイッチングICの共通電
極とを短い距離で、多数箇所で接続する。
従って、互いに離れた位置にある光電変換素子列とスイ
ッチングICとの共通t8i間に生じるインピーダンス
を低下し、両者の電極間の電位を同一化することができ
る。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
第1図は本発明の実施例を示す密着型イメージセンサの
構成図であり、第1図(a)は原稿側から見た平面図、
第1図(b)は第1図(a)のB−B線断面図である。
以下、本発明の密着型イメージセンサの製造方法につい
て説明する。
図に示すように、ガラス基板(保谷型NA−40厚さ1
 、1 m 、太さ307m+1X25M) 11上に
スパッタリング法により、0.3 μm厚の金属クロム
(C「)を堆積させ、フォトエツチングにより下部電極
12を形成する。なお、この下部電極12は光電変換素
子列の共通電極となる。
次いで、モノシラン(SiH,)のプラズマCVD法に
より、水素化アモルファスシリコン(a−3i:H)膜
(以下、単に半導体膜という)13を1μm堆積させ、
フォトエツチングにより、そのパターンを基板長手方向
に帯状に形成する。
次に、スパッタリング法を用いて、半導体膜13上に透
明電極(ITO)を堆積し、フォトエツチングにより、
上部電極14を形成する。更に、Cr及びA1の2層か
らなる金属膜を蒸着し、フォトエツチングにて上部電極
14の金属配線15を形成す更に、原稿等の摩擦から素
子を保護する目的で、全体に透明絶縁膜16を堆積する
。この実施例の透明絶縁膜16は、スパッタリング法に
よる5iC)z及び5lsNaの2層からなる。このよ
うにして得られた光電変換素子列を有するガラス基板を
以下、センサ基板と呼ぶ。なお、17は発光源である。
本発明の特徴は、第1図(a)に示すように、センサ基
板中の下部電極12の一部をスイッチングICを配置す
る側に引き出すことである。引き出す数はこの実施例で
は上部電極14は64に対して1とした。引き出された
下部電極12の端の一部は次に述べるワイヤボンディン
グのために、金属細線(Cr及びAffiの2層)15
を有している。第1図(b)に引き出し部分の下部電極
12と金属細線15及び他の膜との断面的構成を示す。
次に、第2図は本発明の実施例を示す密着イメージセン
サの組立回である。
この図に示すように、センサ基板(ガラス基板)11を
アルミニウムを加工したマウント30上に、例えば、エ
ポキシ樹脂を用いて接着する。更に、絶縁板32(ガラ
スエポキシ樹脂)上に金属(例えば金)配線を施した基
板をセンサ基板11に添った位置にエポキシ樹脂を用い
て接着する。
次に、多数のスイッチング素子とその駆動回路から成る
スイッチングICチップ33を導電性ペースト(例えば
、銀ペースト)を使用して、絶縁板32上のスイッチン
グICチップ33の共通電極37上に接着する。接着し
たスイッチングICチップ33の数は、実施例では27
個である。また、スイッチングICチップ33間は離し
て配置した。
次に、スイッチングICチップ33のスイッチング素子
から引き出された端子34と光電変換素子列の個々の金
属配線15とを金線30μmφを使用して、それぞれワ
イヤポンディングで接続する。更に、センサ基板11の
下部電極12の引き出し部分の共通の配gA18とスイ
ッチングICチップ33の共通電極である絶縁板32上
の共通電極37とをワイヤポンディングで接続する。こ
のように、光電変換素子列側の共通の配線18とスイッ
チングICチップ33側のワイヤボンディングを行う場
所は、スイッチングICチップ33間の共通電極37と
した。なお、接続数は26である。41は接続導体パタ
ーンである。
以上のように、光電変換素子列の共通電極(下部電極)
12とスイッチングICの共通電極37とは26箇所で
接続される。
次に、第4図は本発明と従来の密着型イメージセンサに
よるノイズ出力特性図である。
即ち、第4図(a)及び(b)はスイッチングICの信
号出力を30倍に増幅した後のノイズ出力波形であり、
第4図(a)は本発明によるもの、第4図(b)は従来
の方法によるものである。
これらの図に示すように、本発明によるノイズ出力は従
来法に比べて、全体にノイズレベルが低い(約115)
、また、突発的に発生するノイズが掻めて低い。
次に、第5図は本発明と従来の密着型イメージセンサ信
号出力分布を示す特性図である。
即ち、この図はイメージセンサに均一な光を照射し、ス
イッチングICの出力を30倍に増幅した後の信号出力
(光出力)を示している。イメージセンサ基板に設けら
れた光電変換列のすべてが読み出される周期と記録に要
する時間とを同期されることで、第5図のグラフの横軸
は充電変換素子列の位置とl対lで対応させることがで
きる(即ち、1次元イメージセンサの位置に対応する)
第5図の曲線のうち、実線aは本発明によるもの、点線
すは従来法によるものであり、本発明の光出力はイメー
ジセンサ全体に渡って均一であることがわかる。このた
め、センサ出力信号を階調性の判別をする際に有効であ
る。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づき種々の変形が可能であり、それら
を本発明の範囲から排除するものではない。
(発明の効果) 以上、詳細に説明したように、本発明によれば、次のよ
うな効果を奏することができる。
互いに離れた位置にある光電変換素子列とスイッチング
ICとの共通電極間に生じるインピーダンスを低下し、
両者の電極間の電位を同一化することができる。
従って、時系列的に得られるイメージセンサ信号の賞の
向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す密着型イメージセンサの
構成図、第2図は本発明の実施例を示す密着イメージセ
ンサの組立図、第3図は従来の密着型イメージセンサの
構成図、第4図は本発明と従来の密着型イメージセンサ
によるノイズ出力特性図、第5図は本発明と従来の密着
型イメージセンサ信号出力分布を示す図である。 11・・・ガラス基板、12・・・下部電極、13・・
・水素化アモルファスシリコン膜(半導体膜)、14・
・・上部電極、15・・・金属配線、16・・・透明絶
縁膜、18・・・共通の配線、30・・・マウント、3
2・・・絶縁板、33・・・スイッチングICチッブ、
37・・・共通電極。 特許出願人 沖電気工業株式会社 代理人 弁理士  清 水  守(外1名)30 マウ
ント 、37共涌電詩 本発明のを石型イメージセンサのξ且証固第2図 従采の名港型イメージとンサの構ガに口筒 図 時間− (Psec) オイと明と参〇才fバピ(i駅伝ジ七シカ:よろノイズ
出力オトト佳図(僧巾晶荊1)第 4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  光電変換素子の個々に接続される配線と、共通の配線
    とが互いに同一面で交差することがないように形成する
    と共に、同一方向に引き出される構造を有し、原稿を等
    倍で読み取る1次元密着型イメージセンサにおいて、 (a)光電変換素子の個々に接続される配線の間に引き
    出される共通の配線と、 (b)前記光電変換素子と近接して配置されるスイッチ
    ングICチップの間に形成される共通電極とを具備し、 (c)前記共通の配線と前記共通電極とを対向させ互い
    に接続することを特徴とする密着型イメージセンサ。
JP2180624A 1990-07-10 1990-07-10 密着型イメージセンサ Pending JPH0468571A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2180624A JPH0468571A (ja) 1990-07-10 1990-07-10 密着型イメージセンサ

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JPH0468571A true JPH0468571A (ja) 1992-03-04

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ID=16086463

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JP2180624A Pending JPH0468571A (ja) 1990-07-10 1990-07-10 密着型イメージセンサ

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6756617B2 (en) 2001-10-05 2004-06-29 Canon Kabushiki Kaisha Image sensing apparatus and reading apparatus

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