JPH0469371A - ジメチルホルムアミドの精製法 - Google Patents
ジメチルホルムアミドの精製法Info
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- JPH0469371A JPH0469371A JP18375090A JP18375090A JPH0469371A JP H0469371 A JPH0469371 A JP H0469371A JP 18375090 A JP18375090 A JP 18375090A JP 18375090 A JP18375090 A JP 18375090A JP H0469371 A JPH0469371 A JP H0469371A
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- dimethylformamide
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- alkyl ester
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）の精製法
に関するものである。さらに詳しくは、この発明は、不
純物としてモノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルを含
有するジメチルホルムアミドの高純度、高効率な精製方
法に関するものである。
に関するものである。さらに詳しくは、この発明は、不
純物としてモノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルを含
有するジメチルホルムアミドの高純度、高効率な精製方
法に関するものである。
（従来の技術とその課題）
ジメチルホルムアミド、すなわちＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）は、いわゆるＮ−ｆ換低級脂肪酸ア
ミドとして各種反応の溶媒に広く用いられているもので
ある。
ムアミド（ＤＭＦ）は、いわゆるＮ−ｆ換低級脂肪酸ア
ミドとして各種反応の溶媒に広く用いられているもので
ある。
このジメチルポルムアミドは、溶媒としての利用におい
て、反応系から回収した後に再利用されることか工業的
には広く行なわれている。
て、反応系から回収した後に再利用されることか工業的
には広く行なわれている。
しかしなから、これを使用する反え系によっては、未反
応原料や副生成物等の混入によって、そのままジメチル
ホルムアミドを再利用することが離しいことが少なくな
い。
応原料や副生成物等の混入によって、そのままジメチル
ホルムアミドを再利用することが離しいことが少なくな
い。
たとえばこのような反応系として特開昭６１−２１８５
５７号公報記載の方法がある。この方法は次式（１） （Ｒ，はアルキル基） の化合物にプレニルハライド化合物もしくはポリダレニ
ルハライド化合物を反応させ、得られた次式（２） （ｎはＯまたは１〜１９の数） の化合物に、次式（３） ％式％（３） （Ｘはハロゲン原子、Ｒ２は低級アルキル基）のモノハ
ロゲノ酢酸低級アルキルエステルを反応させて次式（４
） のフェノキシ酢酸低級アルキルエステルを製造する際に
、式（１）のフェノール誘導体とプレニルハライド化合
物またはポリプレニルハライド化合物との反応には、溶
媒としてジメチルホルムアミドを塩基性化合物とともに
使用し、また次の反応過程における式（２）の化合物と
式（３）のモノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルとの
反応にも溶媒としてジメチルホルムアミドを使用してい
る。
５７号公報記載の方法がある。この方法は次式（１） （Ｒ，はアルキル基） の化合物にプレニルハライド化合物もしくはポリダレニ
ルハライド化合物を反応させ、得られた次式（２） （ｎはＯまたは１〜１９の数） の化合物に、次式（３） ％式％（３） （Ｘはハロゲン原子、Ｒ２は低級アルキル基）のモノハ
ロゲノ酢酸低級アルキルエステルを反応させて次式（４
） のフェノキシ酢酸低級アルキルエステルを製造する際に
、式（１）のフェノール誘導体とプレニルハライド化合
物またはポリプレニルハライド化合物との反応には、溶
媒としてジメチルホルムアミドを塩基性化合物とともに
使用し、また次の反応過程における式（２）の化合物と
式（３）のモノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルとの
反応にも溶媒としてジメチルホルムアミドを使用してい
る。
この反応系においては、式（４）のフェノキシ酢酸低級
アルキルエステルの生成後、溶媒のジメチルホルムアミ
ドを反応系より回収して再使用することが望ましい。
アルキルエステルの生成後、溶媒のジメチルホルムアミ
ドを反応系より回収して再使用することが望ましい。
しかしながら、かかる反え系においては式（４）のフェ
ノキシ酢酸低級アルキルエステルの収率を上げる為に式
（２）の化合物に対して式（３）のモノハロゲノ酢酸低
級アルキルエステルを過剰量用いるので、反応系からの
ジメチルホルムアミドの回収においては、未反応のモノ
ハロゲノ酢酸低級アルキルエステルの微量混入が避けら
れない。
ノキシ酢酸低級アルキルエステルの収率を上げる為に式
（２）の化合物に対して式（３）のモノハロゲノ酢酸低
級アルキルエステルを過剰量用いるので、反応系からの
ジメチルホルムアミドの回収においては、未反応のモノ
ハロゲノ酢酸低級アルキルエステルの微量混入が避けら
れない。
この混入したままの状態で、回収した粗ジメチルホルム
アミドを式（１）の化合物とプレニルハライド化合物と
の反応に再使用すると、モノハロゲノ酢酸低級アルキル
エステルのＷｉ量存在に帰因して副生物が生成し、式（
４）のフェノキシ酢酸低級アルキルエステルの品質に悪
影響を及ぼすことになる。
アミドを式（１）の化合物とプレニルハライド化合物と
の反応に再使用すると、モノハロゲノ酢酸低級アルキル
エステルのＷｉ量存在に帰因して副生物が生成し、式（
４）のフェノキシ酢酸低級アルキルエステルの品質に悪
影響を及ぼすことになる。
そこで、このような未反応モノハロゲノ酢酸低級アルキ
ルエステルをＲ１，混入する粗ジメチルホルムアミドを
精製することが必要になるが、このモノハロゲノ酢酸低
級アルキルエステルを完全に除去することはそれほど簡
単ではない。たとえば蒸留によって除去しようとしても
、モノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルは、ジメチル
ホルムアミドと沸点が近接しているなめに、蒸留除去は
極めて圏難で、ジメチルホルムアミドの回収率そのもの
の低下をきたしてしまうという問題があった。
ルエステルをＲ１，混入する粗ジメチルホルムアミドを
精製することが必要になるが、このモノハロゲノ酢酸低
級アルキルエステルを完全に除去することはそれほど簡
単ではない。たとえば蒸留によって除去しようとしても
、モノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルは、ジメチル
ホルムアミドと沸点が近接しているなめに、蒸留除去は
極めて圏難で、ジメチルホルムアミドの回収率そのもの
の低下をきたしてしまうという問題があった。
この発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたもので
あり、モノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルを不純物
として含有する粗ジメチルホルムアミドを再利用するに
あたり、副生物生成の原因となるモノハロゲノ＃酸低級
アルキルエステルの悪影響を排除し、簡便に、かつ高純
度、高回収率でのジメチルホルムアミドの精製取得を可
能とする新しい精製方法を提供することを目的としてい
る。
あり、モノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルを不純物
として含有する粗ジメチルホルムアミドを再利用するに
あたり、副生物生成の原因となるモノハロゲノ＃酸低級
アルキルエステルの悪影響を排除し、簡便に、かつ高純
度、高回収率でのジメチルホルムアミドの精製取得を可
能とする新しい精製方法を提供することを目的としてい
る。
（諏訪を解決するための手段）
この発明は、上記の課題を解決するものとして、不純物
としてモノハロゲノ酢ＰＡ低級アルキルエステルを含有
する粗ジメチルホルムアミドをアルカリ金属またはアル
カリ土類金属の塩基性化合物の存在下に加熱し、次いで
及留することを特徴とするジメチルホルムアミドの精製
法を提供する。
としてモノハロゲノ酢ＰＡ低級アルキルエステルを含有
する粗ジメチルホルムアミドをアルカリ金属またはアル
カリ土類金属の塩基性化合物の存在下に加熱し、次いで
及留することを特徴とするジメチルホルムアミドの精製
法を提供する。
すなわち、この発明は、アルカリ金属またはアルカリ土
類金属の塩基性化合物の存在下に加熱することにより、
粗ジメチルホルムアミド中に混入しているモノハロゲノ
酢酸低級アルキルエステルを分解して消失させ、このモ
ノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルの混入による悪影
響を除去し、次いで墓留してジメチルホルムアミドの高
純度品を高効率で回収することからなっている。この方
法により、沸点が近似しているモノハロゲノ酢酸低級ア
ルキルエステルであっても、蒸留によって、ジメチルホ
ルムアミドを１００％の純度で、しかも９５％以上の回
収率で取得することも可能となる。
類金属の塩基性化合物の存在下に加熱することにより、
粗ジメチルホルムアミド中に混入しているモノハロゲノ
酢酸低級アルキルエステルを分解して消失させ、このモ
ノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルの混入による悪影
響を除去し、次いで墓留してジメチルホルムアミドの高
純度品を高効率で回収することからなっている。この方
法により、沸点が近似しているモノハロゲノ酢酸低級ア
ルキルエステルであっても、蒸留によって、ジメチルホ
ルムアミドを１００％の純度で、しかも９５％以上の回
収率で取得することも可能となる。
この発明におけるモノハロゲノ酢酸低級アルキルエステ
ルは前記式（３）で表わされる。式中、Ｘはクロル、ブ
ロム、ヨードなどのハロゲン原子をＲ２はメチル基、エ
チル基どの低級アルキル基を示す。
ルは前記式（３）で表わされる。式中、Ｘはクロル、ブ
ロム、ヨードなどのハロゲン原子をＲ２はメチル基、エ
チル基どの低級アルキル基を示す。
添加するアルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩基性
化合物としては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属
の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等の適宜なものを使用す
ることができる。具体例としては水酸化リチウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、
水酸化カルシウム、水酸化バリウムなどの水酸化物；炭
酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグ
ネシウム、炭酸カルシウムなどの炭酸塩；炭酸水素リチ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの重
炭酸塩などが挙げられる。これらの塩基性化合物は、そ
のまま粗ジメチルホルムアミドに添加して存在させても
よいし、あるいは少量の水に溶かして添加してもよい。
化合物としては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属
の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩等の適宜なものを使用す
ることができる。具体例としては水酸化リチウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、
水酸化カルシウム、水酸化バリウムなどの水酸化物；炭
酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグ
ネシウム、炭酸カルシウムなどの炭酸塩；炭酸水素リチ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの重
炭酸塩などが挙げられる。これらの塩基性化合物は、そ
のまま粗ジメチルホルムアミドに添加して存在させても
よいし、あるいは少量の水に溶かして添加してもよい。
これら塩基性化合物の存在での加熱に際しての加熱温度
については、含有されているモノハロゲノ酢酸低級アル
キルエステルの種類や量、さらには塩基性化合物の添加
存在量によっても相違するが、１００〜２００℃程度の
温度とすることができる。
については、含有されているモノハロゲノ酢酸低級アル
キルエステルの種類や量、さらには塩基性化合物の添加
存在量によっても相違するが、１００〜２００℃程度の
温度とすることができる。
加熱時間も３０分〜４時間程度とすることができる。
塩基性化合物の存在量はモノハロゲノ酢酸低級アルキル
エステルの種類や量、さらには塩基性化合物の種類など
により相違するため一概には決められないが、通常は、
モノハロゲノ酢酸低級アルキルエステル当り１〜４当量
である。
エステルの種類や量、さらには塩基性化合物の種類など
により相違するため一概には決められないが、通常は、
モノハロゲノ酢酸低級アルキルエステル当り１〜４当量
である。
もちろんこれらの数値は臨界的なものではない。
加熱処理したジメチルホルムアミドは、続いて単蒸留す
ることで純度１００％という高純度品として回収するこ
とかできる。
ることで純度１００％という高純度品として回収するこ
とかできる。
なお、この発明の精製法が対象とする粗ジメチルホルム
アミドは、モノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルを不
純物として含有するいかなる反応系からのものであって
もその適用対象となることはいうまでもない。
アミドは、モノハロゲノ酢酸低級アルキルエステルを不
純物として含有するいかなる反応系からのものであって
もその適用対象となることはいうまでもない。
以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発明について説
明する。
明する。
実施例１
クロロ酢酸メチルを１．５３重量％含有する回収粗ジメ
チルホルムアミド１００ｇに、無水炭酸カリウム２．０
ｇを添加し、１２０°Ｃの温度で３時間加熱撹拌した。
チルホルムアミド１００ｇに、無水炭酸カリウム２．０
ｇを添加し、１２０°Ｃの温度で３時間加熱撹拌した。
クロロ酢酸メチルが完全に分解して消失していることが
カスクロマトグラフィー分析で確認された。
カスクロマトグラフィー分析で確認された。
次いで単蒸留し、ジメチルホルムアミドを回収した。ク
ロロ酢酸メチルを含まない純度１００％のジメチルホル
ムアミド留分を９５％の回収率により取得した。
ロロ酢酸メチルを含まない純度１００％のジメチルホル
ムアミド留分を９５％の回収率により取得した。
実施例２
実施例１において、無水炭酸カリウムの代わりにベレッ
ト状８５％水酸化カリウム１．１ｇを添加し、１２０℃
の温度において３時間撹拌した。クロロ酢酸メチルは完
全に分解して消失した。
ト状８５％水酸化カリウム１．１ｇを添加し、１２０℃
の温度において３時間撹拌した。クロロ酢酸メチルは完
全に分解して消失した。
単蒸留により、純度１００％のジメチルホルムアミド留
分を９６％の回収率で取得した。
分を９６％の回収率で取得した。
実施例３
実施例１において、無水炭酸カリウムの代わりに水酸化
カルシウム２．０ｇを添加して１２０℃の温度で４時間
撹拌した。クロロ酢酸メチルは完全に分解して消失した
。
カルシウム２．０ｇを添加して１２０℃の温度で４時間
撹拌した。クロロ酢酸メチルは完全に分解して消失した
。
単蒸留により、純度１００％のジメチルホルムアミド留
分を回収率９ヲ？ａ″Ｃ′取得した。
分を回収率９ヲ？ａ″Ｃ′取得した。
実施例４
実施例１において無水炭酸カリウムの代わりに４８重ｊ
Ｌ０乙の水酸化ナトリウム水溶液４ｆを添加して１２０
°Ｃ，７）温度で２時間撹拌した。クロロ酢酸メチルは
完全に分解して消失しな。単蒸留により、純度１００％
のジメチルホルムアミド留分を回収率９５％で取得した
。
Ｌ０乙の水酸化ナトリウム水溶液４ｆを添加して１２０
°Ｃ，７）温度で２時間撹拌した。クロロ酢酸メチルは
完全に分解して消失しな。単蒸留により、純度１００％
のジメチルホルムアミド留分を回収率９５％で取得した
。
実施例５
クロロ＃酸エチルを１．４２重量％含有する回収粗ジメ
チルホルムアミドを実施例１と同様に処理し、純度１０
０％のジメチルホルムアミド留分を回収率９６％で取得
した。
チルホルムアミドを実施例１と同様に処理し、純度１０
０％のジメチルホルムアミド留分を回収率９６％で取得
した。
比較例１
クロロ酢酸メチルを１．５３重量％含有する実施例１と
同一の粗ジメチルホルムアミドを、理論段数８段相当（
酢酸エチル−ベンゼン系）のマクマホンパツキン充填カ
ラムを備えた蒸留塔で、還流比Ｒ，／Ｄ＝ １５．、、
’ １ 、減圧度４０粗Ｈｇ１″減圧蒸留した。
同一の粗ジメチルホルムアミドを、理論段数８段相当（
酢酸エチル−ベンゼン系）のマクマホンパツキン充填カ
ラムを備えた蒸留塔で、還流比Ｒ，／Ｄ＝ １５．、、
’ １ 、減圧度４０粗Ｈｇ１″減圧蒸留した。
仕込量の２０重Ｉｔ ”ｏの留分か流出した段階でも缶
内のジメチルホルムアミド中には、０６６重量％のクロ
ロ酢酸メチルが残留しており、実質的に、クロロ酢酸メ
チルを含有しないジメチルホルムアミドを高収率で得る
ことはできなかった。
内のジメチルホルムアミド中には、０６６重量％のクロ
ロ酢酸メチルが残留しており、実質的に、クロロ酢酸メ
チルを含有しないジメチルホルムアミドを高収率で得る
ことはできなかった。
（発明の効果）
この発明により、以上詳しく説明した通り、不純物とし
て含有するモノハロゲノ＃酸低級アルキルエステルの悪
影響を排除し、溶媒として再利用することのできる高純
度ジメチルホルムアミドの高効率精製が可能となる。
て含有するモノハロゲノ＃酸低級アルキルエステルの悪
影響を排除し、溶媒として再利用することのできる高純
度ジメチルホルムアミドの高効率精製が可能となる。
Claims (1)
- （１）不純物としてモノハロゲノ酢酸低級アルキルエス
テルを含有する粗ジメチルホルムアミドをアルカリ金属
またはアルカリ土類金属の塩基性化合物の存在下に加熱
し、次いで蒸留することを特徴とするジメチルホルムア
ミドの精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2183750A JPH0791246B2 (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | ジメチルホルムアミドの精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2183750A JPH0791246B2 (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | ジメチルホルムアミドの精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0469371A true JPH0469371A (ja) | 1992-03-04 |
| JPH0791246B2 JPH0791246B2 (ja) | 1995-10-04 |
Family
ID=16141324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2183750A Expired - Lifetime JPH0791246B2 (ja) | 1990-07-10 | 1990-07-10 | ジメチルホルムアミドの精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0791246B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112961068A (zh) * | 2019-12-13 | 2021-06-15 | 四川熔增环保科技有限公司 | 一种高纯n,n-二甲基甲酰胺的制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS541684A (en) * | 1977-06-06 | 1979-01-08 | Omron Tateisi Electronics Co | Operation checking device of defect inspecting apparatus |
-
1990
- 1990-07-10 JP JP2183750A patent/JPH0791246B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS541684A (en) * | 1977-06-06 | 1979-01-08 | Omron Tateisi Electronics Co | Operation checking device of defect inspecting apparatus |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112961068A (zh) * | 2019-12-13 | 2021-06-15 | 四川熔增环保科技有限公司 | 一种高纯n,n-二甲基甲酰胺的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0791246B2 (ja) | 1995-10-04 |
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