JPH0469558B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0469558B2 JPH0469558B2 JP17323485A JP17323485A JPH0469558B2 JP H0469558 B2 JPH0469558 B2 JP H0469558B2 JP 17323485 A JP17323485 A JP 17323485A JP 17323485 A JP17323485 A JP 17323485A JP H0469558 B2 JPH0469558 B2 JP H0469558B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- precipitation
- sodium
- hedpo
- salts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
- G03F7/3071—Process control means, e.g. for replenishing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
＜産業上の利用分野＞
本発明は平版印刷版用処理液に関し、特に沈殿
を防止した平版印刷版用処理液に関するものであ
る。 ＜従来の技術＞ 従来、平版印刷においては、版材表面を種々の
不感脂化の方法でそれぞれの版材及び印刷方法に
応じて表面処理し、画線部と非画線部の表面の親
水性及び親油性の差を大きくして、水及びインキ
を適用したときに画線部にはインキを受けつけ、
非画線部は受けつけないようにせしめ、このイン
キによつて形成された画像を紙に転写させる方法
であることは周知の通りである。 平版印刷材としてはアルミニウム等金属を主体
としたPS版、酸化亜鉛のごとき光導電性粉末と
樹脂結着剤を感光層とする電子写真オフセツト原
版（マスターペーパー）、特公昭48−30562号の如
き銀塩印刷版、親油性筆記具又はタイプによつて
直接マスターに記入して、印刷原版とする直描マ
スターなどがあり、それぞれ専用の処理液として
種々のものが市販されている。 ＜発明が解決しようとする問題点＞ これら各種印刷版用処理液の共通しうる問題点
として、沈殿の発生がある。特にフエロシアン、
フエリシアン化合物を主成分とする処理液は光や
熱によつて著しく沈殿が発生する欠点がある。 従来このような沈殿防止剤としてはE.D.T.A及
びその塩等のキレート剤があるが、処理液組成の
違いや長期間の保存に於いては効果が小さく、満
足しうるものではない。 本発明の目的は長期間の保存に於いても沈殿の
発生や変色のない安定した処理液を提供すること
である。 ＜問題点を解決するための手段＞ 前記目的を達成するために、本発明は沈殿防止
剤としてヒドロキシエチリデンジフオスフオニツ
ク酸（H.E.D.P.O.）もしくはその塩を処理液中
に加えることにより構成される。その添加量は、
0.1〜50ｇ／好ましくは0.1〜20ｇ／である。
添加量が0.1ｇ／未満であると沈殿防止効果は
なく、50ｇ／を越すと沈殿防止効果には優れて
いるものの不感脂化が低下する。H.E.D.P.O又は
その塩は金属のマスキング剤、安定剤、防錆剤と
して知られている化合物である。特にH.E.D.P.
O.もしくはその塩をフエロシアン化化合物、フ
エリシアン化化合物と併用した場合、H.E.D.P.
O.が光や熱によつて液中で共存するFe+++、Fe++
が紺青を形成する結合を防ぎ、Fe（CN）4- 6及びFe
（CN）3- 6の各イオン間の平行状態を安定に保持す
る。このため変色、沈殿の発生が妨げられ、長期
の保存でも飛躍的に安定した処理液となり、これ
らのフエロシアン化又はフエリシアン化化合物を
用いている処理液へのH.E.D.P.O.の適用は特に
好ましいものである。 又、H.E.D.P.O.及びその塩を0.1〜50ｇ／の
範囲内添加することによつて処理液が本来具備し
ている特性を損なうことはまつたく無い。 本発明の処理液組成物は不感脂化剤としてはフ
エロシアン化ナトリウム、フエロシアン化カリウ
ム、フエリシアン化ナトリウム、フエリシアン化
カリウム等のフエロシアン化化合物、フエリシア
ン化化合物、リン酸第１アンモニウム、リン酸第
２アンモニウム等のリン酸化合物、特開昭53−
127002公報等に記載のフイチン酸、あるいはその
誘導体であるフイチン酸化合物、塩化第２鉄、塩
化第２銅等の多価金属塩、特公昭54−41923、特
公昭54−41924、特開昭54−146105、各公報等に
記載のヘキサアンミンコバルト塩、ヘキサアンミ
ンニツケル塩、E.D.T.A.等のキレート化合物、
又はポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウ
ム、ポリメタクリル酸、ポリメタアクリル酸ナト
リウム、アルギン酸、アルギン酸ナトリウム等が
挙げられ、２種以上混合使用してもかまわない。 又、PH調節剤、PH緩衝剤としては無機又は有機
の酸又はその塩があり、単独もしくは混合して用
いる。 例えば、無機酸としては燐酸、硫酸、塩酸、硝
酸など有機酸としては、ギ酸、酢酸、酪酸、吉草
酸、乳酸、酒石酸、プロピオン酸、シユウ酸、マ
ロン酸、コハク酸、グルタル酸、マレイン酸、フ
タル酸、シトラコン酸、イタコン酸、フマル酸、
トリカルバリル酸、グリコール酸、チオグリコー
ル酸、リンゴ酸、クエン酸、グリコン酸、ピルビ
ン酸、グルコール酸、サルチル酸、アジピン酸、
ヒドロアクリル酸、グリセリン酸、Ｐ−トルエン
スルホン酸、ポリアクリル酸などがある。 又、それらの塩としてはアルカリ金属塩、アン
モニウム塩、アミン塩等がある。酸解離定数が
10-2〜10-13の酸又は塩が好ましい。 又、湿潤剤及び濡れ剤としてはエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、グリセリン、
アラビアガム、カルボキシメチルセルロース、ア
クリルポリマー、メタノール、エタノール、イソ
及びノルマルプロピルアルコール、トリエタノー
ルアミンなどを加えることができる。 更に防腐剤としてサリチル酸、フエノール、フ
エノールパラ安息香酸ブチル、デヒドロ酢酸ナト
リウム、４−イソチアゾロン−３−オン化合物等
を加えることができる。 又、処理液のPH値は４〜６の範囲で使用するの
が好ましく、不感脂化処理液、あるいは希釈して
湿し水として使用することができる。 ＜実施例＞ 以下に本発明を実施例、比較例を挙げて具体的
に説明するが、これらは本発明を何ら限定するも
のではない。下記処方の処理液を作製し、平版印
刷機で印刷を行つた。 尚、沈殿防止効果についての試験方法は以下の
通りである。 沈殿発生試験：１自然経過６か月での沈殿発生状
況 ：２光経時促進での沈殿発生状況 ：３熱経時促進での沈殿発生状況 ＊光劣化促進…フエドメーター中に密閉し24時
間放置 ＊熱劣化促進…50℃オーブン内に密閉し２週間
放置 判定基準 〇 沈殿が全く発生しない △ 沈殿が発生する × 沈殿が著しく発生し、変色する 実施例 １ 蒸留水 890ｇ フエロシアン化ナトリウム 40ｇ リン酸１ナトリウム30ｇ グルコン酸ソーダ 10ｇ マロン酸 25ｇ H.E.D.P.O. ５ｇ リン酸でPH4.5に調整する。 実施例 ２ 蒸留水 810ｇ フイチン酸 50ｇ リン酸３アンモニウム 10ｇ グリコール酸 20ｇ グリセリン 10ｇ H.E.D.P.O. 10ｇ アンモニア水でPH4.5に調整する。 実施例 ３ 蒸留水 965ｇ クエン酸 ３ｇ リン酸 ３ｇ 水酸化カリウム ３ｇ アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム ６ｇ ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム ５ｇ ヘキサメタリン酸ナトリウム 10ｇ H.E.D.P.O.−2Na ５ｇ PH4.2である。 実施例 ４ 蒸留水 740ｇ ヘキサアミンコバルト 50ｇ リン酸２アンモン 50ｇ リン酸 40ｇ マロン酸 10ｇ エチレングリコール 100ｇ H.E.D.P.O. 10ｇ PH5.0である。 比較例 １ 蒸留水 830ｇ フイチン酸 50ｇ リン酸２アンモニウム 10ｇ グリコール酸 10ｇ グリセリン 100ｇ PH4.4である。 比較例 ２ 蒸留水 863ｇ フエロシアン化ナトリウム 20ｇ リン酸１アンモニウム 50ｇ リン酸２アンモニウム 10ｇ グリセリン 50ｇ アラビアガム ５ｇ EDTA−2Na ２ｇ PH4.4である。 結果を下記の表に示す。
を防止した平版印刷版用処理液に関するものであ
る。 ＜従来の技術＞ 従来、平版印刷においては、版材表面を種々の
不感脂化の方法でそれぞれの版材及び印刷方法に
応じて表面処理し、画線部と非画線部の表面の親
水性及び親油性の差を大きくして、水及びインキ
を適用したときに画線部にはインキを受けつけ、
非画線部は受けつけないようにせしめ、このイン
キによつて形成された画像を紙に転写させる方法
であることは周知の通りである。 平版印刷材としてはアルミニウム等金属を主体
としたPS版、酸化亜鉛のごとき光導電性粉末と
樹脂結着剤を感光層とする電子写真オフセツト原
版（マスターペーパー）、特公昭48−30562号の如
き銀塩印刷版、親油性筆記具又はタイプによつて
直接マスターに記入して、印刷原版とする直描マ
スターなどがあり、それぞれ専用の処理液として
種々のものが市販されている。 ＜発明が解決しようとする問題点＞ これら各種印刷版用処理液の共通しうる問題点
として、沈殿の発生がある。特にフエロシアン、
フエリシアン化合物を主成分とする処理液は光や
熱によつて著しく沈殿が発生する欠点がある。 従来このような沈殿防止剤としてはE.D.T.A及
びその塩等のキレート剤があるが、処理液組成の
違いや長期間の保存に於いては効果が小さく、満
足しうるものではない。 本発明の目的は長期間の保存に於いても沈殿の
発生や変色のない安定した処理液を提供すること
である。 ＜問題点を解決するための手段＞ 前記目的を達成するために、本発明は沈殿防止
剤としてヒドロキシエチリデンジフオスフオニツ
ク酸（H.E.D.P.O.）もしくはその塩を処理液中
に加えることにより構成される。その添加量は、
0.1〜50ｇ／好ましくは0.1〜20ｇ／である。
添加量が0.1ｇ／未満であると沈殿防止効果は
なく、50ｇ／を越すと沈殿防止効果には優れて
いるものの不感脂化が低下する。H.E.D.P.O又は
その塩は金属のマスキング剤、安定剤、防錆剤と
して知られている化合物である。特にH.E.D.P.
O.もしくはその塩をフエロシアン化化合物、フ
エリシアン化化合物と併用した場合、H.E.D.P.
O.が光や熱によつて液中で共存するFe+++、Fe++
が紺青を形成する結合を防ぎ、Fe（CN）4- 6及びFe
（CN）3- 6の各イオン間の平行状態を安定に保持す
る。このため変色、沈殿の発生が妨げられ、長期
の保存でも飛躍的に安定した処理液となり、これ
らのフエロシアン化又はフエリシアン化化合物を
用いている処理液へのH.E.D.P.O.の適用は特に
好ましいものである。 又、H.E.D.P.O.及びその塩を0.1〜50ｇ／の
範囲内添加することによつて処理液が本来具備し
ている特性を損なうことはまつたく無い。 本発明の処理液組成物は不感脂化剤としてはフ
エロシアン化ナトリウム、フエロシアン化カリウ
ム、フエリシアン化ナトリウム、フエリシアン化
カリウム等のフエロシアン化化合物、フエリシア
ン化化合物、リン酸第１アンモニウム、リン酸第
２アンモニウム等のリン酸化合物、特開昭53−
127002公報等に記載のフイチン酸、あるいはその
誘導体であるフイチン酸化合物、塩化第２鉄、塩
化第２銅等の多価金属塩、特公昭54−41923、特
公昭54−41924、特開昭54−146105、各公報等に
記載のヘキサアンミンコバルト塩、ヘキサアンミ
ンニツケル塩、E.D.T.A.等のキレート化合物、
又はポリアクリル酸、ポリアクリル酸ナトリウ
ム、ポリメタクリル酸、ポリメタアクリル酸ナト
リウム、アルギン酸、アルギン酸ナトリウム等が
挙げられ、２種以上混合使用してもかまわない。 又、PH調節剤、PH緩衝剤としては無機又は有機
の酸又はその塩があり、単独もしくは混合して用
いる。 例えば、無機酸としては燐酸、硫酸、塩酸、硝
酸など有機酸としては、ギ酸、酢酸、酪酸、吉草
酸、乳酸、酒石酸、プロピオン酸、シユウ酸、マ
ロン酸、コハク酸、グルタル酸、マレイン酸、フ
タル酸、シトラコン酸、イタコン酸、フマル酸、
トリカルバリル酸、グリコール酸、チオグリコー
ル酸、リンゴ酸、クエン酸、グリコン酸、ピルビ
ン酸、グルコール酸、サルチル酸、アジピン酸、
ヒドロアクリル酸、グリセリン酸、Ｐ−トルエン
スルホン酸、ポリアクリル酸などがある。 又、それらの塩としてはアルカリ金属塩、アン
モニウム塩、アミン塩等がある。酸解離定数が
10-2〜10-13の酸又は塩が好ましい。 又、湿潤剤及び濡れ剤としてはエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、グリセリン、
アラビアガム、カルボキシメチルセルロース、ア
クリルポリマー、メタノール、エタノール、イソ
及びノルマルプロピルアルコール、トリエタノー
ルアミンなどを加えることができる。 更に防腐剤としてサリチル酸、フエノール、フ
エノールパラ安息香酸ブチル、デヒドロ酢酸ナト
リウム、４−イソチアゾロン−３−オン化合物等
を加えることができる。 又、処理液のPH値は４〜６の範囲で使用するの
が好ましく、不感脂化処理液、あるいは希釈して
湿し水として使用することができる。 ＜実施例＞ 以下に本発明を実施例、比較例を挙げて具体的
に説明するが、これらは本発明を何ら限定するも
のではない。下記処方の処理液を作製し、平版印
刷機で印刷を行つた。 尚、沈殿防止効果についての試験方法は以下の
通りである。 沈殿発生試験：１自然経過６か月での沈殿発生状
況 ：２光経時促進での沈殿発生状況 ：３熱経時促進での沈殿発生状況 ＊光劣化促進…フエドメーター中に密閉し24時
間放置 ＊熱劣化促進…50℃オーブン内に密閉し２週間
放置 判定基準 〇 沈殿が全く発生しない △ 沈殿が発生する × 沈殿が著しく発生し、変色する 実施例 １ 蒸留水 890ｇ フエロシアン化ナトリウム 40ｇ リン酸１ナトリウム30ｇ グルコン酸ソーダ 10ｇ マロン酸 25ｇ H.E.D.P.O. ５ｇ リン酸でPH4.5に調整する。 実施例 ２ 蒸留水 810ｇ フイチン酸 50ｇ リン酸３アンモニウム 10ｇ グリコール酸 20ｇ グリセリン 10ｇ H.E.D.P.O. 10ｇ アンモニア水でPH4.5に調整する。 実施例 ３ 蒸留水 965ｇ クエン酸 ３ｇ リン酸 ３ｇ 水酸化カリウム ３ｇ アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム ６ｇ ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム ５ｇ ヘキサメタリン酸ナトリウム 10ｇ H.E.D.P.O.−2Na ５ｇ PH4.2である。 実施例 ４ 蒸留水 740ｇ ヘキサアミンコバルト 50ｇ リン酸２アンモン 50ｇ リン酸 40ｇ マロン酸 10ｇ エチレングリコール 100ｇ H.E.D.P.O. 10ｇ PH5.0である。 比較例 １ 蒸留水 830ｇ フイチン酸 50ｇ リン酸２アンモニウム 10ｇ グリコール酸 10ｇ グリセリン 100ｇ PH4.4である。 比較例 ２ 蒸留水 863ｇ フエロシアン化ナトリウム 20ｇ リン酸１アンモニウム 50ｇ リン酸２アンモニウム 10ｇ グリセリン 50ｇ アラビアガム ５ｇ EDTA−2Na ２ｇ PH4.4である。 結果を下記の表に示す。
【表】
＜発明の効果＞
本発明のヒドロキシエチリデンジフオスフオニ
ツク酸ないしはその塩を用いた平版印刷用処理液
は、自然の経時変化、光や熱による経時変化によ
つても沈殿が生じない、印刷物の汚れも発生しな
い処理液であり、さらにH.E.D.P.O.は防腐性も
あることから、通常では防腐剤を用いる必要がな
い利点を有する。
ツク酸ないしはその塩を用いた平版印刷用処理液
は、自然の経時変化、光や熱による経時変化によ
つても沈殿が生じない、印刷物の汚れも発生しな
い処理液であり、さらにH.E.D.P.O.は防腐性も
あることから、通常では防腐剤を用いる必要がな
い利点を有する。
Claims (1)
- １ ヒドロキシエチリデンジフオスフオニツク酸
もしくは、その塩を0.1〜50ｇ／含むことを特
徴とする平版印刷版用処理液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17323485A JPS6234166A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 平版印刷版用処理液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17323485A JPS6234166A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 平版印刷版用処理液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6234166A JPS6234166A (ja) | 1987-02-14 |
| JPH0469558B2 true JPH0469558B2 (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=15956634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17323485A Granted JPS6234166A (ja) | 1985-08-08 | 1985-08-08 | 平版印刷版用処理液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6234166A (ja) |
-
1985
- 1985-08-08 JP JP17323485A patent/JPS6234166A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6234166A (ja) | 1987-02-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3672885A (en) | Ferrocyanide-chelate conversion solution for electrophotographic offset masters | |
| US5523194A (en) | Fount solutions for planographic printing processes | |
| JPS62145257A (ja) | 平版印刷版不感脂化処理用組成物 | |
| JPH0469558B2 (ja) | ||
| JPH0256235B2 (ja) | ||
| JPS627596A (ja) | 印刷用湿し水 | |
| US2830536A (en) | Lithographic printing | |
| JPH0239397B2 (ja) | Ofusetsutoinsatsuhanyofukanshikashorieki | |
| JPS585799B2 (ja) | オフセット印刷用不感脂化処理液 | |
| JPS58215399A (ja) | オフセツトマスタ−用親水化処理液 | |
| KR20090010568A (ko) | 마스터 인쇄 에칭액 조성물 | |
| JPH0796344B2 (ja) | 平版印刷湿し水用添加剤およびその用途 | |
| JPS6225119B2 (ja) | ||
| JPH0517879B2 (ja) | ||
| JP2733497B2 (ja) | 平版印刷用不感脂化処理液 | |
| JP2740784B2 (ja) | オフセット印刷用不感脂化処理液 | |
| JPH01160692A (ja) | 色インキ印刷法 | |
| JPH01259995A (ja) | 平版印刷版用不感脂化処理組成物 | |
| JPH0256234B2 (ja) | ||
| JPH0256236B2 (ja) | ||
| JPS627598A (ja) | 湿し水の調製方法 | |
| JPH07257061A (ja) | オフセット印刷用不感脂化処理液 | |
| JPH08216545A (ja) | 直描型平版印刷版用不感脂化処理液 | |
| JPH01259994A (ja) | 平版印刷版用不感脂化処理組成物 | |
| JP2740785B2 (ja) | オフセット印刷用不感脂化処理液 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |