JPH0469822B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0469822B2 JPH0469822B2 JP62048880A JP4888087A JPH0469822B2 JP H0469822 B2 JPH0469822 B2 JP H0469822B2 JP 62048880 A JP62048880 A JP 62048880A JP 4888087 A JP4888087 A JP 4888087A JP H0469822 B2 JPH0469822 B2 JP H0469822B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- die pad
- resin
- lead
- lead frame
- leads
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/874—On different surfaces
- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Die Bonding (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関するもので、特にダイ
パツドを排除した特定の形状のリードフレーム
と、これに固定し半導体ペレツトを搭載するため
の特定の構造のダイパツドテープを用いた半導体
装置に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor device, and particularly relates to a lead frame having a specific shape that excludes a die pad, and a specific structure for fixing the lead frame to the lead frame and mounting a semiconductor pellet thereon. This invention relates to a semiconductor device using a die pad tape.
従来の半導体装置は第1図および第2図に示す
ようなダイパツド1、リード2およびサポートバ
ー3から構成されるリードフレームのダイパツド
の上に第2図に示すようにダイボンデイング接着
層5を介して半導体ペレツト4を載置し、該ペレ
ツト上に形成された電極7とリードとを接続した
ボンデイングワイヤー6と共に封止樹脂8により
一体化した構成を有する。
In a conventional semiconductor device, a die pad 1 of a lead frame, which is composed of a die pad 1, leads 2, and support bars 3 as shown in FIGS. It has a structure in which a semiconductor pellet 4 is placed on the pellet, and is integrated with a sealing resin 8 together with a bonding wire 6 that connects an electrode 7 formed on the pellet to a lead.
この場合、リードフレームを構成するダイパツ
ドは、多種多様をきわめる半導体ペレツトの大き
さ、形状に対応すべくその寸法、形状を変更する
必要があり、これに付随してリードの寸法、形状
にも変更を余儀なくされる。このように多種多様
の半導体ペレツトに合わせてリードフレームの設
計変更をすることは、リードフレームの金型を何
種類も作製しなければならず金型の費用、ひいて
はリードフレームの費用が高価となつて問題が多
い。 In this case, it is necessary to change the dimensions and shape of the die pad that makes up the lead frame to accommodate the wide variety of sizes and shapes of semiconductor pellets, and accordingly, the dimensions and shape of the leads must also be changed. be forced to. Changing the design of the lead frame to suit a wide variety of semiconductor pellets requires making many types of lead frame molds, which increases the cost of the molds and, by extension, the cost of the lead frame. There are many problems.
又、ダイパツドの背面は封止樹脂との接着封止
性が悪いために、リードと封止樹脂との界面から
侵入した外部からの水分が溜まり易く、半導体装
置をサーキツト板に面実装する際のハンダ付け工
程の加熱処理の際これがもとで水分の急激な膨張
により封止樹脂にクラツクを生じ易く、さらに
又、半導体ペレツトとダイパツドとの間の熱膨張
率の差が大きく、両者の熱膨張率の差によつて生
ずる応力により半導体ペレツトにクラツクが生ず
るなどの問題を有する。 In addition, because the back surface of the die pad has poor adhesive sealing properties with the encapsulating resin, moisture from the outside that enters through the interface between the leads and the encapsulating resin tends to accumulate, making it difficult to surface-mount semiconductor devices on circuit boards. During the heat treatment in the soldering process, cracks are likely to occur in the sealing resin due to the rapid expansion of moisture.Furthermore, there is a large difference in the coefficient of thermal expansion between the semiconductor pellet and the die pad, and the thermal expansion of both is large. There are problems such as cracks occurring in the semiconductor pellet due to stress caused by the difference in rate.
本発明は上記の実情に鑑みてなされたものであ
り、同一リード数へ半導体装置のリードフレーム
の統一化をはかり、各種の大きさ、形状を有する
半導体ペレツトに対応すべく半導体装置を組立て
る際の煩雑さを解消すると同時に信頼性に優れた
半導体装置を提供することを目的とするものであ
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and aims to standardize the lead frames of semiconductor devices to have the same number of leads, and to make it easier to assemble semiconductor devices in order to accommodate semiconductor pellets having various sizes and shapes. The purpose of this invention is to provide a semiconductor device that is not complicated and has excellent reliability.
本発明の概要はダイパツドの排除されたリード
フレームおよび該リードフレームのリード先端を
含んで覆う大きさのダイパツドテープに半導体ペ
レツトをダイボンデイング接着剤を介して搭載
し、封止してなる半導体装置であつて、前記リー
ドフレームを構成するリードのうち、所望の本数
のリードがダイパツド空隙部に向かつて突出し、
リードの先端部が他のリードに比べて広い面積に
て構成され、かつ前記ダイパツドテープがポリイ
ミド樹脂フイルムからなる耐熱性支持体と該支持
体をリードに固定するためのエポキシ樹脂、ポリ
イミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂
から選ばれた少なくとも一種の樹脂からなる接着
層とからなる半導体装置を第1の発明とし、前記
したダイパツドテープに改良を加えダイパツドテ
ープの支持体に対しダイボンデイング接着剤側に
熱硬化樹脂等の樹脂層を設けたものとした半導体
装置を第2の発明とし、ダイパツドテープの支持
体に対しダイボンデイング接着剤側にコロナ放電
加工または凹凸加工処理を施した表面処理層を設
けたものとした半導体装置を第3の発明とする。
The outline of the present invention is to provide a semiconductor device in which semiconductor pellets are mounted via a die bonding adhesive on a lead frame from which a die pad has been removed and a die pad tape having a size that includes and covers the lead tips of the lead frame, and the semiconductor pellets are sealed. A desired number of leads among the leads constituting the lead frame protrude toward the die pad cavity,
The tip of the lead is configured with a larger area than other leads, and the die pad tape is made of a heat-resistant support made of a polyimide resin film, and an epoxy resin or polyimide resin for fixing the support to the lead. The first invention is a semiconductor device comprising an adhesive layer made of at least one type of resin selected from polyurethane resins and polyamide resins, and the above die pad tape is improved and a die bonding adhesive is applied to the support of the die pad tape. A second invention provides a semiconductor device having a resin layer such as a thermosetting resin on the side thereof, and a surface treatment in which the die bonding adhesive side of the support of the die pad tape is subjected to corona discharge machining or roughening treatment. A third invention is a semiconductor device provided with layers.
次に本発明を図面により説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.
本発明の半導体装置の一例は第3図イ,ロに示
す断面図のとおりで、ダイパツドテープとしては
第5図イのように支持体10の下面に支持体をリ
ードに固定するための接着層12を設けたものを
用いた場合を第3図イに、又、第5図ロのように
支持体の上部側に樹脂層11−1を設けたもの、
又は同図ハのように支持体の上部側に表面処理層
11−2を設けた場合は第3図ロに示してある。
(第3図ロで11は前記11−1および11−2
を総合した表示である。)
第3図イは第1の発明に関し、ダイパツドテー
プの支持体10の下面の接着層12はリードフレ
ームのリード2の上に接着され、その表面側では
ダイボンデイング接着剤5により半導体ペレツト
4が固着され、電極7とリード2とを接続したボ
ンデイングワイヤー6と共に封止樹脂8により一
体化した構成をなしている。なお本発明の半導体
装置は樹脂による封止に限定されるものではな
く、例えばサーデイツプタイプあるいはサーパツ
クタイプによる封止であつてもよい。第3図ロは
第2の発明および第3の発明に関し、第3図イと
同一部分には同一符号を付してある。ここでは既
に述べべたようにダイパツドテープが第3図イと
異なるものを用い上部側に熱硬化性樹脂層を設け
る(第2の発明)か表面処理層を設ける(第3の
発明)ことにより前記第3図イよりも一層ダイパ
ツドテープの支持体と半導体ペレツト4との接合
力を高め、半導体装置の組立構造を安定化するこ
とにより信頼性を高めるものである。 An example of the semiconductor device of the present invention is as shown in the cross-sectional views shown in FIGS. 3A and 3B, and as a die pad tape, as shown in FIG. A case in which a layer 12 is provided is shown in FIG. 3A, and a case in which a resin layer 11-1 is provided on the upper side of the support as shown in FIG. 5B,
Alternatively, a case where a surface treatment layer 11-2 is provided on the upper side of the support as shown in FIG. 3C is shown in FIG. 3B.
(In Figure 3 B, 11 is 11-1 and 11-2 mentioned above.
This is a comprehensive display. ) FIG. 3A relates to the first invention, in which the adhesive layer 12 on the lower surface of the support 10 of the die pad tape is adhered onto the leads 2 of the lead frame, and the semiconductor pellet 4 is bonded on the surface side with a die bonding adhesive 5. is fixed, and is integrated with a bonding wire 6 that connects the electrode 7 and the lead 2 using a sealing resin 8. Note that the semiconductor device of the present invention is not limited to resin sealing, and may be sealed using, for example, a cerdip type or a cerpack type. FIG. 3B relates to the second invention and the third invention, and the same parts as in FIG. 3B are given the same reference numerals. As already mentioned, the die pad tape is different from that shown in Fig. 3A, and a thermosetting resin layer is provided on the upper side (second invention) or a surface treatment layer is provided (third invention). The bonding force between the support of the die pad tape and the semiconductor pellet 4 is further increased than that shown in FIG. 3A, and the reliability is improved by stabilizing the assembled structure of the semiconductor device.
なお本発明でいうダイパツドフイルムは第4図
イ〜ニに示す如く、従来のダイパツドを排除した
構成を有するリードフレームに適用するもので、
その空隙部9の位置においてリード2の上に半導
体ペレツトの形状、大きさに合わせて任意の寸法
に作成されて接着載置されるものである。この場
合ダイパツドテープの寸法はリードフレームのリ
ード13およびリード2の先端すべてを覆う大き
さにて設定される。すなわち本発明でいうダイパ
ツドテープは第4図イ〜ニにおける突出したリー
ド13およびその先端部14のみを覆うのではな
く、他のリード2の先端部全てを覆うように延出
して固着される。このようにダイパツドテープを
各リード先端にまで延出し接着することにより、
半導体ペレツトの電極とリードとをワイヤボンデ
イングする際に、リードが上下にばらついたり、
左右に位置ずれしたり、またはねじれたりせず的
確に安定したワヤボンデイングをすることができ
る。 Note that the die pad film in the present invention is applied to a lead frame having a structure that excludes a conventional die pad, as shown in FIG. 4A to D.
A semiconductor pellet is formed into an arbitrary size according to the shape and size of the semiconductor pellet and is adhesively mounted on the lead 2 at the position of the cavity 9. In this case, the dimensions of the die pad tape are set to be large enough to cover all the ends of the leads 13 and 2 of the lead frame. That is, the die pad tape according to the present invention does not cover only the protruding leads 13 and their tips 14 as shown in FIG. . In this way, by extending the die pad tape to the tip of each lead and gluing it,
When wire bonding the electrodes and leads of a semiconductor pellet, the leads may vary vertically or
Accurate and stable wire bonding can be performed without shifting from side to side or twisting.
次に本発明において用いられるダイパツドフイ
ルムを構成する材料について述べる。 Next, the materials constituting the die pad film used in the present invention will be described.
支持体は例えば厚さ10〜150μm、好ましくは25
〜75μmのポリイミド、が本発明において使用さ
れる。 The support has a thickness of e.g. 10 to 150 μm, preferably 25 μm.
~75 μm polyimide is used in the present invention.
本発明を構成するダイボンデイング接着剤5
は、ダイパツドテープを構成する支持体に十分接
着力のあるものを選択使用することが望ましく、
この接着剤を適当に選択することにより第1の発
明すなわちダイパツドテープに樹脂層もしくは表
面処理層を設けることなく目的とする半導体装置
を得られるが、更にダイパツドテープの支持体と
ダイボンデイング接着剤との接着性を保証するに
はダイパツドテープ表面が改良されていなければ
ならないことを見出した。即ち、この接着性向上
を達成のためにポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、
ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂もしくは約
300℃以上の融点を有する熱可塑性樹脂からなる
樹脂層11−1を設けたのが第2の発明であり、
通常1〜10μmとなるように塗布し、熱硬化され
る。 Die bonding adhesive 5 constituting the present invention
It is desirable to select and use a material that has sufficient adhesion to the support that makes up the die pad tape.
By appropriately selecting this adhesive, the first invention, that is, the intended semiconductor device can be obtained without providing a resin layer or a surface treatment layer on the die pad tape. It has been found that the die pad tape surface must be improved to ensure adhesion with the adhesive. That is, in order to achieve this improvement in adhesion, polyimide resin, epoxy resin,
Thermosetting resin such as polyester resin or approx.
The second invention provides a resin layer 11-1 made of a thermoplastic resin having a melting point of 300°C or higher,
It is usually applied to a thickness of 1 to 10 μm and cured by heat.
樹脂の種類は前記のダイボンデイング接着剤5
と親和性のあるものを選択することにより極めて
容易にかつ強力に接着し半導体ペレツトの信頼性
を高めることができる。又、更に、この樹脂層1
1−1に代えて砂目立てによるマツト加工、コロ
ナ放電処理、エンボス加工、マツト艶消し加工等
の表面処理11−2により、微細な凹凸、極性の
付与、酸化皮膜の破壊脆化等により接着性を向上
することができる(第3の発明)。これによれば
厚みや重量を増大させることなく、強固な接着を
実現した半導体装置を提供し得るものである。 The type of resin is the die bonding adhesive 5 mentioned above.
By selecting a material that is compatible with the semiconductor pellet, it is possible to bond extremely easily and strongly, thereby increasing the reliability of the semiconductor pellet. Furthermore, this resin layer 1
Instead of 1-1, surface treatment 11-2 such as pine graining, corona discharge treatment, embossing, and matte matte processing improves adhesion by creating fine irregularities, imparting polarity, and embrittling the oxide film. can be improved (third invention). According to this, it is possible to provide a semiconductor device that achieves strong adhesion without increasing the thickness or weight.
リードフレームのリードの表面に半導体ペレツ
トを載置したダイパツドテープの下面の接着層に
は耐熱性エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリアミド樹脂から選ばれた少なく
とも一種の樹脂を5〜50μm、好ましくは20〜
30μmの塗布厚となるように半硬化の状態で塗布
して形成される。 The adhesive layer on the bottom surface of the die pad tape with semiconductor pellets placed on the surface of the leads of the lead frame is coated with at least one type of resin selected from heat-resistant epoxy resin, polyimide resin, polyurethane resin, and polyamide resin to a thickness of 5 to 50 μm, preferably. is 20~
It is formed by applying it in a semi-cured state to a coating thickness of 30 μm.
このような層構成および材料よりなるダイパツ
ドテープは通常例えば原反を幅3〜10mm、長さ
200〜300mのテープ状に加工され、リールに巻回
されて供給することができ、その場合半導体ペレ
ツトの寸法に合わせて裁断した上で所定のリード
フレームに適用され接着される。このようにして
得られたダイパツドテープ/リードフレーム積層
体は前記第3図に示した構成に組み込まれ、本発
明の半導体装置を得ることができる。 A die pad tape made of such a layer structure and material is usually made into a material with a width of 3 to 10 mm and a length of 3 to 10 mm.
It can be processed into a tape of 200 to 300 m long and supplied wound on a reel. In this case, it is cut to match the dimensions of the semiconductor pellet, and then applied and bonded to a predetermined lead frame. The die pad tape/lead frame laminate thus obtained is incorporated into the structure shown in FIG. 3 to obtain the semiconductor device of the present invention.
本発明で用いられるリードフレームの形状は例
えば第4図イ,ロ,ハおよびニに示すようにダイ
パツド空隙部9に向つて延在する複数のリードの
うちダイパツドテープを裏面から保持するのに必
要な本数のリード13が他のリード2に比べて突
出し、かつ突出したリードの先端14が広い面積
を有することを特徴とする。この際突出するリー
ドはなるべく隣り合せにならないよう、例えば1
本おきとか、2本おき等に配置することが半導体
ペレツトを搭載したダイパツドテープのバランス
をとる上で好ましい。 The shape of the lead frame used in the present invention is, for example, as shown in FIGS. It is characterized in that a required number of leads 13 protrude compared to other leads 2, and the tips 14 of the protruding leads have a large area. At this time, the protruding leads should not be placed next to each other as much as possible, for example,
It is preferable to arrange the die pad tape every other book or every second tape in order to balance the die pad tape on which the semiconductor pellets are mounted.
このような特定の形状のリードフレームを使用
することによりダイパツドテープを載せるための
良好な平坦性が得られ、かつテープのたるみを防
止することができる。 By using a lead frame having such a specific shape, good flatness for mounting the die pad tape can be obtained, and sagging of the tape can be prevented.
実施例 1
厚さ50μmのポリイミド樹脂フイルム(「ユーピ
レツクス{S」宇部興産社製)からなる支持体の
片面に接着層として超耐熱性ポリイミド樹脂
(「(LARC−TPI」三井東圧化学社製)のN,N
−ジメチルアセトアミド20重量%溶液を半硬化
(Bステージ)になるように、かつ150℃3分間の
加熱条件で乾燥後の塗布厚が25μmとなるように
塗布し、ダイパツドテープを作成した。
Example 1 A super heat-resistant polyimide resin ("LARC-TPI" manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.) was applied as an adhesive layer on one side of a support made of a 50 μm thick polyimide resin film ("Iupilex {S" manufactured by Ube Industries, Ltd.). N,N
- A die pad tape was prepared by applying a 20% by weight solution of dimethylacetamide to semi-cure (B stage) and heating it at 150° C. for 3 minutes so that the coating thickness after drying was 25 μm.
得られたダイパツドテープを所望の大きさに切
断して第4図イに示す形状の、鉄系の金属板例え
ばコバール板を打抜き加工してなるリードフレー
ムの突出したリードおよびその先端部と、その他
のリードの先端部全てを覆うように接着層により
加熱接着した後、第3図イに示すような半導体装
置を組立てた。 The obtained die pad tape is cut to a desired size, and the protruding leads and their tips of a lead frame are formed by punching an iron-based metal plate, such as a Kovar plate, into the shape shown in FIG. 4A, After heating and adhering with an adhesive layer so as to cover all the tips of the other leads, a semiconductor device as shown in FIG. 3A was assembled.
得られた半導体装置について、実装試験による
信頼性を見たところ、接着層の電流のリークは見
られず、安定した接着性が確認された。又、ワイ
ヤーボンダビリテイーも良好で樹脂封止したとき
ワイヤー流れもなく信頼性のあ半導体装置を構成
することができ、又85℃、85%RHの雰囲気にて
24時間放置後260℃のはんだ浴に3秒間浸漬した
のちプレツシヤークツカーテスター(PCT)に
て250時間試験したが全く異常がなかつた。 When the reliability of the obtained semiconductor device was checked through a mounting test, no current leakage was observed in the adhesive layer, and stable adhesiveness was confirmed. In addition, wire bondability is good, and when resin-sealed there is no wire flow, allowing reliable semiconductor devices to be constructed.
After being left for 24 hours, it was immersed in a solder bath at 260°C for 3 seconds, and then tested for 250 hours using a pressure tester (PCT), but no abnormalities were found.
実施例 2
厚さ50μmのポリイミド樹脂フイルム「カプト
ン200V」東レデユポン社製)からなる支持体の
片面に、接着層としてポリウレタン系樹脂(「チ
ツソレツクス372」チツソ社製)のジメチルホル
ムアミド/メチルエチルケトン=2/1の43%溶
液70重量部とフエノール・ノボラツク・エポキシ
樹脂(「EPPN−201」、日本化薬社製)のメチル
エチルケトン20%溶液30重量部との混合液を半硬
化の状態になるよう120℃5分間の加熱条件で乾
燥後の塗布厚が40μmとなるように塗布し、ダイ
パツドテープを作成した。Example 2 On one side of a support made of a 50 μm thick polyimide resin film "Kapton 200V" (manufactured by Toray DuPont), a polyurethane resin ("Chitso Rex 372" manufactured by Chitso Corporation) was coated with dimethylformamide/methyl ethyl ketone = 2/ as an adhesive layer. A mixture of 70 parts by weight of a 43% solution of No. 1 and 30 parts by weight of a 20% solution of phenol novolac epoxy resin ("EPPN-201", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in methyl ethyl ketone was heated to a semi-cured state at 120°C. A die pad tape was prepared by coating under heating conditions for 5 minutes so that the coating thickness after drying was 40 μm.
得られたダイパツドテープを所望の大きさに切
断後第4図ロに示すリードフレームの突出したリ
ードおよびその先端部と、その他のリードの先端
部全てを覆うように接着層により加熱接着した
後、第3図イに示す半導体装置を組立てた。 After cutting the obtained die pad tape to a desired size, it was heated and bonded with an adhesive layer so as to cover the protruding leads and their tips of the lead frame shown in Figure 4 (b), as well as all the tips of the other leads. The semiconductor device shown in FIG. 3A was assembled.
得られた半導体装置について、実装試験による
信頼性を見たところ、接着層の電流のリークは見
られず、安定した接着性が確認された。又、ワイ
ヤーボンダビリテイーも良好で信頼性のある半導
体装置を構成することができた。又85℃、85%
RHの雰囲気にて24時間放置後260℃のはんだ浴
に3秒間浸漬したのちPCTにて250時間試験した
が全く異常がなかつた。 When the reliability of the obtained semiconductor device was checked through a mounting test, no current leakage was observed in the adhesive layer, and stable adhesiveness was confirmed. Furthermore, a reliable semiconductor device with good wire bondability could be constructed. Also 85℃, 85%
After being left in a RH atmosphere for 24 hours, it was immersed in a 260°C solder bath for 3 seconds and then tested using PCT for 250 hours, with no abnormalities at all.
実施例 3
実施例2における接着層としてポリアミドとエ
ポキシ樹脂との混合組成物(「OX−035」東レハ
イソール社製)のトリクレン/メタノール=1/
2の30重量%溶液を使用した以外は実施例2と同
様にして本発明の半導体装置を作成した。Example 3 As the adhesive layer in Example 2, a mixed composition of polyamide and epoxy resin ("OX-035" manufactured by Toray Hysole Co., Ltd.) was prepared using trichlene/methanol = 1/
A semiconductor device of the present invention was produced in the same manner as in Example 2 except that a 30% by weight solution of Example 2 was used.
得られた半導体装置について実装試験による信
頼性を見たところ、接着層の電流リークは見られ
ず、安定した接着が確認された。又、ワイヤーボ
ンダビリテイーも良好で信頼性のある半導体装置
を構成することができた。又85、85%RHの雰囲
気にて24時間放置後260℃のはんだ浴に3秒間浸
漬したのちPCTにて250時間試験したが、全く異
常がなかつた。 When the reliability of the obtained semiconductor device was checked through a mounting test, no current leakage was observed in the adhesive layer, and stable adhesion was confirmed. Furthermore, a reliable semiconductor device with good wire bondability could be constructed. Also, after being left in an atmosphere of 85% RH for 24 hours, it was immersed in a solder bath at 260°C for 3 seconds and then tested using PCT for 250 hours, and no abnormalities were found.
実施例 4
厚さ50μmポリイミド樹脂フイルム(「ユーピレ
ツクスS」宇部興産社製)からなる支持体の片面
に下記配合の熱硬化性樹脂層を設けた。Example 4 A thermosetting resin layer having the following composition was provided on one side of a support made of a 50 μm thick polyimide resin film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries, Ltd.).
エポキシ樹脂(「エピコート1001」油化シエル
エポキシ社製)
80%メチルエチルケトン溶液 100重量部
反応性アクリルニトリル共重合体
(「NIPOL1072」日本ゼオン社製)
20%メチルエチルケトン溶液 40重量部
硬化剤DICY/2−エチル4−メチルイミダゾ
ール(5/1) 12重量部
溶剤(メチルエチルケトン) 80重量部
この際塗布厚は3μmで、150℃3分間の乾燥の
後250℃、5分間の条件で完全硬化した。Epoxy resin ("Epicote 1001" manufactured by Yuka Ciel Epoxy Co., Ltd.) 80% methyl ethyl ketone solution 100 parts by weight Reactive acrylonitrile copolymer ("NIPOL1072" manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) 20% methyl ethyl ketone solution 40 parts by weight Hardening agent DICY/2- Ethyl 4-methylimidazole (5/1) 12 parts by weight Solvent (methyl ethyl ketone) 80 parts by weight The coating thickness was 3 μm, and after drying at 150°C for 3 minutes, it was completely cured at 250°C for 5 minutes.
次ぎに前記樹脂層の反対側の支持体面に接着剤
として超耐熱ポリイミド樹脂(「LARC−TPI」、
三井東圧化学社製)のN,N−ジメチルアセトア
ミド20重量%溶液を半硬化(Bステージ)になる
よう、かつ150℃、3分間の加熱条件で乾燥後の
塗布厚が25μmとなるように塗布し本発明のダイ
パツドテープを作成した。得られたダイパツドテ
ープを第4図ロに示したリードフレームの突出し
たリードおよびその先端部と、その他のリードの
先端部全てを覆うように接着層により加熱接着し
た後、第3図ロに示す半導体装置を作成した。 Next, super heat-resistant polyimide resin (“LARC-TPI”,
A 20% by weight solution of N,N-dimethylacetamide (manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.) was semi-cured (B stage) and heated at 150℃ for 3 minutes so that the coating thickness after drying was 25μm. A die pad tape of the present invention was prepared by coating. The obtained die pad tape was heat-bonded with an adhesive layer so as to cover the protruding leads and their tips of the lead frame shown in FIG. The semiconductor device shown was created.
得られた半導体装置について、実装試験による
信頼性を見たところ、接着層の電流のリークは見
られず、安定した接着が確認された。又、ワイヤ
ーボンダビリテイーも良好で信頼性のある半導体
装置を構成することができた。 When the reliability of the obtained semiconductor device was checked through a mounting test, no current leakage was observed in the adhesive layer, and stable adhesion was confirmed. Furthermore, a reliable semiconductor device with good wire bondability could be constructed.
実施例 5
実施例4の支持体の片面に下記配合の熱硬化性
樹脂層を設けた。この際の塗布厚は5μmで、150
℃、2分間の乾燥後、250℃、5分間の条件で完
全に硬化した。しかる後反対側面に実施例4に使
用した接着層を設けて本発明のダイパツドテープ
を作成した。Example 5 A thermosetting resin layer having the following composition was provided on one side of the support of Example 4. The coating thickness at this time was 5 μm, 150
After drying at 250°C for 2 minutes, it was completely cured at 250°C for 5 minutes. Thereafter, the adhesive layer used in Example 4 was provided on the opposite side to produce a die pad tape of the present invention.
ポリエステル樹脂(「バイロン200」東洋紡社
製)20%メチルエチルケトン溶液 100重量部
イソシアネート(「コロネートL」日本ポリウ
レタン社製) 2重量部
溶剤 トルエン 20重量部
得られたダイパツドテープを第4図ロに示した
リードフレームの突出したリードおよびその先端
部と、その他のリードの先端部全てを覆うように
接着層により加熱接着した後第3図ロに示す半導
体装置を作成した。Polyester resin ("Vylon 200" manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 20% methyl ethyl ketone solution 100 parts by weight Isocyanate ("Coronate L" manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) 2 parts by weight Solvent Toluene 20 parts by weight The obtained die pad tape is shown in Figure 4 (b). The protruding leads of the lead frame and their tips, as well as the tips of all other leads, were bonded together by heating with an adhesive layer, and then the semiconductor device shown in FIG. 3B was fabricated.
得られた半導体装置について、実装試験による
信頼性を見たところ、接着層の電流のリークは見
当らず、安定した接着が確認された。又、ワイヤ
ーボンダビリテイーも良好で信頼性のある半導体
装置を構成することができた。 When the reliability of the obtained semiconductor device was checked through a mounting test, no current leakage from the adhesive layer was found, and stable adhesion was confirmed. Furthermore, a reliable semiconductor device with good wire bondability could be constructed.
実施例 6
実施例4の支持体に表面粗さRaが0.2〜0.3μm、
Rmaxが1〜2μmとなるようにマツト処理を施
し、表面処理層を設けてダイパツドテープを作成
し得られたダイパツドテープを第4図ロに示した
リードフレームの突出したリードおよびその先端
部と、その他のリードの先端部全てを覆うように
接着層により加熱接着した後、第3図ロに示す半
導体装置を作成した。Example 6 The support of Example 4 had a surface roughness Ra of 0.2 to 0.3 μm,
A die pad tape is prepared by performing matte treatment so that Rmax is 1 to 2 μm and providing a surface treatment layer. After heating and adhering with an adhesive layer so as to cover all the tips of the other leads, the semiconductor device shown in FIG. 3B was fabricated.
得られた半導体装置について実装実験による信
頼性を見たところ、接着層の電流のリークは見ら
れず、安定した接着が確認された。又ワイヤーボ
ンダビリテイーも良好で信頼性のある半導体装置
を構成することができた。 When the reliability of the obtained semiconductor device was checked through mounting experiments, no current leakage was observed in the adhesive layer, and stable adhesion was confirmed. Furthermore, a reliable semiconductor device with good wire bondability could be constructed.
実施例 7
実施例1の支持体の表面にコロナ放電処理機
(「ピラーコロナトリーター12」、東洋ピラー社製)
を用いて電圧320Volt,速度50m/minの条件に
てコロナ放電加工を施し表面処理層を設けてダイ
パツドテープを作成した。Example 7 The surface of the support of Example 1 was treated with a corona discharge treatment machine (“Pillar Corona Treater 12”, manufactured by Toyo Pillar Co., Ltd.)
A die pad tape was created by applying corona discharge machining at a voltage of 320 Volt and a speed of 50 m/min to provide a surface treatment layer.
得られたダイパツトテープを第4図ロに示した
リードフレームの突出したリードおよびその先端
部と、その他のリードの先端部全てを覆うように
接着層により加熱接着した後、第3図ロに示す半
導体装置を作成した。得られた半導体装置につい
て、実装試験による信頼性を見たところ、接着層
の電流のリークは見当たらず、安定した接着が確
認された。又、ワイヤーボンダビリテイーも良好
で信頼性のある半導体装置を構成することができ
た。 The obtained die-pat tape was heat-bonded with an adhesive layer so as to cover the protruding leads and their tips of the lead frame shown in FIG. The semiconductor device shown was created. When the reliability of the obtained semiconductor device was checked through a mounting test, no current leakage from the adhesive layer was found, and stable adhesion was confirmed. Furthermore, a reliable semiconductor device with good wire bondability could be constructed.
本発明は上記の構成よりなるのでダイパツドテ
ープを半導体ペレツトの形状、寸法に合わせて任
意に裁断してリードフレームの半導体ペレツト搭
載部に供給することができ、リードフレームの設
計製作上効率化とコストダウンに有効である。
又、ダイパツドテープを構成する接着層と封止樹
脂との接着性が良好なので、水分の急激な膨張に
より封止樹脂にクラツクが発生する心配もなく、
かつ半導体ペレツトとダイパツドテープ間の熱膨
張率の差が小さいので半導体ペレツトのクラツク
の発生もなく、さらに又、従来のリードフレーム
にあるようなリードの先端とダイパツドとの間の
隙間に相当するものがないので、モールド加工時
にボンデイングワイヤーが流れたり、切れたりす
ることがない効果も期待でき極めて信頼性の高い
半導体装置を得ることができる。特に第2、第3
の発明では支持体の表面側に熱硬化性樹脂等の樹
脂層又は表面処理層を設けているので、ダイボン
デイング接着剤に特殊なものを用いなくても充分
強固な接着を達成することができるし、第3の発
明では第2の発明に比べ層厚が薄くて済むので半
導体素子の軽量小型化に有効である。
Since the present invention has the above configuration, the die pad tape can be arbitrarily cut according to the shape and size of the semiconductor pellet and supplied to the semiconductor pellet mounting part of the lead frame, which improves efficiency in designing and manufacturing the lead frame. Effective for cost reduction.
In addition, since the adhesive layer that makes up the die pad tape and the sealing resin have good adhesion, there is no need to worry about cracks occurring in the sealing resin due to rapid expansion of moisture.
In addition, since the difference in thermal expansion coefficient between the semiconductor pellet and the die pad tape is small, there is no cracking of the semiconductor pellet, and the gap between the lead tip and the die pad is similar to that in conventional lead frames. Since there is no bonding wire, it is expected that the bonding wire will not flow or break during mold processing, and an extremely reliable semiconductor device can be obtained. Especially the second and third
In the invention, since a resin layer such as a thermosetting resin or a surface treatment layer is provided on the surface side of the support, sufficiently strong adhesion can be achieved without using a special die bonding adhesive. However, since the third invention requires a thinner layer than the second invention, it is effective in reducing the weight and size of semiconductor devices.
第1図は従来の技術によるリードフレームの斜
視図、第2図は従来の半導体装置の断面図、第3
図は本発明の半導体装置の断面図、第4図イ〜ニ
は本発明を構成するリードフレームの平面図、第
5図イ,ロ,ハは本発明を構成するダイパツドテ
ープの層構成を示す断面図である。
2……リード、4……半導体ペレツト、5……
ダイボンデイング接着剤、6……ボンデイングワ
イヤー、7……電極、8……封止樹脂、9……空
隙部、10……支持体、11−1……樹脂層、1
1−2……表面処理層、12……接着層。
FIG. 1 is a perspective view of a lead frame according to the prior art, FIG. 2 is a sectional view of a conventional semiconductor device, and FIG. 3 is a sectional view of a conventional semiconductor device.
The figure is a cross-sectional view of the semiconductor device of the present invention, Figures 4A to 4D are plan views of the lead frame constituting the present invention, and Figures 5A, B, and C show the layer structure of the die pad tape constituting the present invention. FIG. 2...Lead, 4...Semiconductor pellet, 5...
Die bonding adhesive, 6... bonding wire, 7... electrode, 8... sealing resin, 9... void, 10... support, 11-1... resin layer, 1
1-2...Surface treatment layer, 12...Adhesive layer.
Claims (1)
び該リードフレームのリード先端を含んで覆う大
きさを有するダイパツドテープにダイボンデイン
グ接着剤を介して搭載された半導体ペレツトを封
止してなる半導体装置であつて、前記リードフレ
ームを構成するリードのうち所望の本数のリード
がダイパツド空隙部に向かつて突出し、又突出し
たリードの先端部が他のリードに比べて広い面積
にて構成され、かつ前記ダイパツドテープがポリ
イミド樹脂フイルムからなる耐熱性支持体と該支
持体をリードに固定するためのエポキシ樹脂、ポ
リイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂から選ばれた少なくとも一種の樹脂からなる接
着層とからなり、前記ダイパツドテープが前記他
のリードの先端部にまで延出して固着されている
ことを特徴とする半導体装置。 2 ダイパツドが排除されたリードフレームおよ
び該リードフレームのリード先端を含んで覆う大
きさを有するダイパツドテープにダイボンデイン
グ接着剤を介して搭載された半導体ペレツトを封
止してなる半導体装置であつて、前記リードフレ
ームを構成するリードのうち所望の本数のリード
がダイパツド空隙部に向かつて突出し、又突出し
たリードの先端部が他のリードに比べて広い面積
にて構成され、かつ前記ダイパツドテープがポリ
イミド樹脂フイルムからなる耐熱性支持体と該支
持体をリードに固定するためのエポキシ樹脂、ポ
リイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂から選ばれた少なくとも一種の樹脂からなる接
着層とダイボンデイング接着剤側の樹脂層とから
なり、前記ダイパツドテープが前記他のリードの
先端部にまで延出して固着されていることを特徴
とする半導体装置。 3 ダイパツドが排除されたリードフレームおよ
び該リードフレームのリード先端を含んで覆う大
きさを有するダイパツドテープにダイボンデイン
グ接着剤を介して搭載された半導体ペレツトを封
止してなる半導体装置であつて、前記リードフレ
ームを構成するリードのうち所望の本数のリード
がダイパツド空隙部に向かつて突出し、又突出し
たリードの先端部が他のリードに比べて広い面積
にて構成され、かつ前記ダイパツドテープがポリ
イミド樹脂フイルムからなる耐熱性支持体と該支
持体をリードに固定するためのエポキシ樹脂、ポ
リイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂から選ばれた少なくとも一種の樹脂からなる接
着層とダイボンデイング接着剤側のコロナ放電加
工または凹凸加工処理を施した表面処理層とから
なり、前記ダイパツドテープが前記他のリードの
先端部にまで延出して固着されていることを特徴
とする半導体装置。[Claims] 1. A semiconductor pellet mounted via a die bonding adhesive on a lead frame from which a die pad has been removed and a die pad tape having a size that includes and covers the lead tips of the lead frame. In the semiconductor device, a desired number of the leads constituting the lead frame protrude toward the die pad cavity, and the tips of the protruding leads have a larger area than the other leads. , and the die pad tape includes a heat-resistant support made of a polyimide resin film and an adhesive layer made of at least one resin selected from epoxy resin, polyimide resin, polyurethane resin, and polyamide resin for fixing the support to the lead. A semiconductor device comprising: the die pad tape extending to and being fixed to the tip of the other lead. 2. A semiconductor device comprising a lead frame from which a die pad has been removed and a semiconductor pellet mounted via a die bonding adhesive on a die pad tape having a size that includes and covers the lead tips of the lead frame. , a desired number of leads constituting the lead frame protrude toward the die pad cavity, and the tips of the protruding leads have a larger area than other leads, and the die pad tape is a heat-resistant support made of a polyimide resin film, an adhesive layer made of at least one resin selected from epoxy resin, polyimide resin, polyurethane resin, and polyamide resin for fixing the support to the lead, and a die bonding adhesive side. 2. A semiconductor device comprising a resin layer, wherein the die pad tape extends to and is fixed to the tip of the other lead. 3. A semiconductor device comprising a lead frame from which a die pad has been removed and a semiconductor pellet mounted via a die bonding adhesive on a die pad tape having a size that includes and covers the lead tips of the lead frame. , a desired number of leads constituting the lead frame protrude toward the die pad cavity, and the tips of the protruding leads have a larger area than other leads, and the die pad tape is a heat-resistant support made of a polyimide resin film, an adhesive layer made of at least one resin selected from epoxy resin, polyimide resin, polyurethane resin, and polyamide resin for fixing the support to the lead, and a die bonding adhesive side. a surface treatment layer subjected to corona discharge machining or roughening treatment, and the die pad tape extends to and is fixed to the tip of the other lead.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62048880A JPS63216365A (en) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62048880A JPS63216365A (en) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | Semiconductor device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63216365A JPS63216365A (en) | 1988-09-08 |
| JPH0469822B2 true JPH0469822B2 (en) | 1992-11-09 |
Family
ID=12815599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62048880A Granted JPS63216365A (en) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63216365A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR920020687A (en) * | 1991-04-16 | 1992-11-21 | 김광호 | Semiconductor package |
| JP3281994B2 (en) * | 1993-06-10 | 2002-05-13 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | Resin-sealed semiconductor device |
| EP0642160A1 (en) * | 1993-09-07 | 1995-03-08 | Motorola, Inc. | Semiconductor device with improved support means |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5453363U (en) * | 1977-09-22 | 1979-04-13 | ||
| JPS6068639A (en) * | 1983-08-31 | 1985-04-19 | Toshiba Corp | Resin-sealed semiconductor device |
-
1987
- 1987-03-05 JP JP62048880A patent/JPS63216365A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63216365A (en) | 1988-09-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5177032A (en) | Method for attaching a semiconductor die to a leadframe using a thermoplastic covered carrier tape | |
| US5140404A (en) | Semiconductor device manufactured by a method for attaching a semiconductor die to a leadframe using a thermoplastic covered carrier tape | |
| US6921682B2 (en) | Method for manufacturing encapsulated electronic components, particularly integrated circuits | |
| JP2000049171A (en) | Manufacturing method of electronic package by simultaneous curing of adhesive and encapsulant | |
| JP3550875B2 (en) | Lead frame and semiconductor device using the same | |
| JPH0469822B2 (en) | ||
| JPS63249341A (en) | Semiconductor device | |
| JP2956617B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device | |
| JP2000114319A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPH0817855A (en) | Method for manufacturing semiconductor device and laminated body used therefor | |
| JPH0442921Y2 (en) | ||
| JPS63249340A (en) | Semiconductor device | |
| JP3261987B2 (en) | LOC lead frame and semiconductor device using the same | |
| JPH05235246A (en) | Semiconductor device | |
| JP3215851B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| JP2518716B2 (en) | Adhesive sheet and semiconductor device | |
| KR940007545Y1 (en) | Heat-resistance bonding film for attaching semiconductor device | |
| JPS5940539A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPH05206208A (en) | Connection method of semiconductor chip | |
| JPS63254759A (en) | Semiconductor device | |
| JPS61125059A (en) | Lead frame and semiconductor device using the lead frame | |
| JPH0693238A (en) | Bonding sheet | |
| JPS63254758A (en) | Semiconductor device | |
| JPH01225328A (en) | Semiconductor device | |
| JPH10223682A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof |