JPH047182Y2 - - Google Patents
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- JPH047182Y2 JPH047182Y2 JP1987186215U JP18621587U JPH047182Y2 JP H047182 Y2 JPH047182 Y2 JP H047182Y2 JP 1987186215 U JP1987186215 U JP 1987186215U JP 18621587 U JP18621587 U JP 18621587U JP H047182 Y2 JPH047182 Y2 JP H047182Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crucible
- crucibles
- support plate
- temperature
- evaporation source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は例えば真空中でフイルムや基板に金属
を蒸着させるのに用いて最適な蒸発源に関するも
のである。
を蒸着させるのに用いて最適な蒸発源に関するも
のである。
第2図及び第3図は従来例の蒸発源を示すもの
であるが、カーボンで成るるつぼ1,2,3,4
の4個のるつぼが並設されており、これらそれぞ
れの外周に断熱材5を充填させた上で、この周囲
に共通に高周波加熱用の誘導コイル6を巻装させ
ている。第3図において、7は各るつぼ1,2,
3,4を支持するための支持板である。
であるが、カーボンで成るるつぼ1,2,3,4
の4個のるつぼが並設されており、これらそれぞ
れの外周に断熱材5を充填させた上で、この周囲
に共通に高周波加熱用の誘導コイル6を巻装させ
ている。第3図において、7は各るつぼ1,2,
3,4を支持するための支持板である。
以上のような蒸発源において、高周波誘導加熱
コイル6に高周波の電流を通電させると、各るつ
ぼ1,2,3,4内に図示せずとも収容された金
属は誘導加熱され、今この蒸発源が真空中にあ
り、かつこの上方に第2図に示すように巾がな
る帯状の基板が、もしくはフイルムが第2図にお
いて上下方向に走行しているものとすれば、この
基板またはフイルムの表面に各るつぼ1,2,
3,4からの融解した金属の蒸発物が付着し、薄
膜が形成されるのであるが、るつぼ1,2,3,
4においては、加熱温度にはムラがあり、誘導加
熱コイル6を制御して全体としては所定の温度を
得るようにしているが、それぞれのるつぼ内にお
いてかなりの温度差が生じ、従つてこれから蒸発
する金属の蒸発速度にはあるいはその密度にはム
ラがあり、この上を走行する基板またはフイルム
は巾において膜厚は一様ではなく、ムラが生ず
ることになる。すなわち、その薄膜は良好な状態
で形成されることはできない。
コイル6に高周波の電流を通電させると、各るつ
ぼ1,2,3,4内に図示せずとも収容された金
属は誘導加熱され、今この蒸発源が真空中にあ
り、かつこの上方に第2図に示すように巾がな
る帯状の基板が、もしくはフイルムが第2図にお
いて上下方向に走行しているものとすれば、この
基板またはフイルムの表面に各るつぼ1,2,
3,4からの融解した金属の蒸発物が付着し、薄
膜が形成されるのであるが、るつぼ1,2,3,
4においては、加熱温度にはムラがあり、誘導加
熱コイル6を制御して全体としては所定の温度を
得るようにしているが、それぞれのるつぼ内にお
いてかなりの温度差が生じ、従つてこれから蒸発
する金属の蒸発速度にはあるいはその密度にはム
ラがあり、この上を走行する基板またはフイルム
は巾において膜厚は一様ではなく、ムラが生ず
ることになる。すなわち、その薄膜は良好な状態
で形成されることはできない。
本考案は以上の点に鑑みて成され、帯状の基板
またはフイルムの表面に一様な膜厚を形成させ
て、上質の製品を得ることのできる蒸発源を提供
することを目的とする。
またはフイルムの表面に一様な膜厚を形成させ
て、上質の製品を得ることのできる蒸発源を提供
することを目的とする。
以上の目的は、複数のるつぼと、これらるつぼ
全体の外周に巻装された共通の高周波誘導加熱用
コイルとを備え、前記コイルに高周波の電流を通
電させることにより各前記るつぼ内の金属を誘導
加熱により融解して蒸発させる蒸発源において、
各前記るつぼの外底壁面の直下方にそれぞれ補助
加熱源を配設し、各前記るつぼの温度を検出する
検出手段及び該検出手段の検出出力を受け、これ
と設定基準温度との差に応じて各前記補助加熱源
の発生熱量を独立して制御する制御器とを設け、
各前記るつぼの温度を独立して調節したことを特
徴とする蒸発源によつて達成される。
全体の外周に巻装された共通の高周波誘導加熱用
コイルとを備え、前記コイルに高周波の電流を通
電させることにより各前記るつぼ内の金属を誘導
加熱により融解して蒸発させる蒸発源において、
各前記るつぼの外底壁面の直下方にそれぞれ補助
加熱源を配設し、各前記るつぼの温度を検出する
検出手段及び該検出手段の検出出力を受け、これ
と設定基準温度との差に応じて各前記補助加熱源
の発生熱量を独立して制御する制御器とを設け、
各前記るつぼの温度を独立して調節したことを特
徴とする蒸発源によつて達成される。
複数のるつぼは各補助加熱源により同等に加熱
されるべく加熱温度が補償される。よつて各るつ
ぼからは金属が同等に蒸発し、被蒸着物に均一に
金属が蒸着される。
されるべく加熱温度が補償される。よつて各るつ
ぼからは金属が同等に蒸発し、被蒸着物に均一に
金属が蒸着される。
以下、本考案の実施例による蒸発源について第
1図を参照して説明する。なお従来例の第2図及
び第3図に対応する部分については同一の符号を
付すものとする。
1図を参照して説明する。なお従来例の第2図及
び第3図に対応する部分については同一の符号を
付すものとする。
本実施例でもるつぼ11は従来の第2図に示す
ように、これと同様なるつぼ11が4個並設され
ているものとし、またこの各るつぼ11,11,
11,11の周りには断熱材15が充てんされて
いて、この周囲に高周波加熱コイル6が巻装され
ている。そして本考案によれば、各るつぼ11の
下方にはコイル状に巻かれた線状の電気抵抗線1
9がヒーターとして配設されており、これはアル
ミナ焼結材で成るるつぼを支持するための支持板
17と電気抵抗体19を支持するための同じくア
ルミナ焼結体で成る支持板18の間に介在してお
り、また電気抵抗体19の径よりも大きい径を有
し、同じくアルミナ焼結材で成る保護管20によ
り電気抵抗体19にはるつぼ11の自重がかゝら
ないように保護されている。
ように、これと同様なるつぼ11が4個並設され
ているものとし、またこの各るつぼ11,11,
11,11の周りには断熱材15が充てんされて
いて、この周囲に高周波加熱コイル6が巻装され
ている。そして本考案によれば、各るつぼ11の
下方にはコイル状に巻かれた線状の電気抵抗線1
9がヒーターとして配設されており、これはアル
ミナ焼結材で成るるつぼを支持するための支持板
17と電気抵抗体19を支持するための同じくア
ルミナ焼結体で成る支持板18の間に介在してお
り、また電気抵抗体19の径よりも大きい径を有
し、同じくアルミナ焼結材で成る保護管20によ
り電気抵抗体19にはるつぼ11の自重がかゝら
ないように保護されている。
また、各るつぼ11の外底壁面には、この温度
を検出するための熱電対21aが止着されてお
り、この検出部21aの検出温度がワイヤ21を
介して取り出され、図示しない制御器に供給され
るようになつている。この制御器はこの検出温度
と設定基準温度との差に応じて電気抵抗体19に
通電する電流の強さ、すなわち発熱量を所定の温
度になるように調節するようにしている。
を検出するための熱電対21aが止着されてお
り、この検出部21aの検出温度がワイヤ21を
介して取り出され、図示しない制御器に供給され
るようになつている。この制御器はこの検出温度
と設定基準温度との差に応じて電気抵抗体19に
通電する電流の強さ、すなわち発熱量を所定の温
度になるように調節するようにしている。
すなわち、るつぼ11が従来例と同様に4つ並
列しているのであるが、これらるつぼ11の外周
に巻装された高周波誘導加熱コイル6により、所
定の温度にまで加熱すべく電流が通電されである
が、上述したように各るつぼ11において、加熱
温度にムラが生ずる。
列しているのであるが、これらるつぼ11の外周
に巻装された高周波誘導加熱コイル6により、所
定の温度にまで加熱すべく電流が通電されである
が、上述したように各るつぼ11において、加熱
温度にムラが生ずる。
本考案によれば各るつぼ11,11,11,1
1の下方には補助加熱源としての電気抵抗体1
9,19,19,19が設けられており、熱電対
21a,21a,21a,21aにより各るつぼ
11の温度を検出し、この検出に応じて各るつぼ
11,11,11,11の温度が等しくなるよう
に電気抵抗体19に電流が流されるので各るつぼ
11,11,11,11は均等に加熱される。従
つて、今この蒸発源は真空中におかれ、この上方
に従来例と同様に帯状の基板もしくはフイルムが
走行するものとすれば、本考案によれば各るつぼ
11,11,11,11からの金属の蒸発速度及
び密度は均一であるので、この上を走行するフイ
ルムまたは基板には一様な膜厚で蒸発金属の薄膜
が形成されるここになる。よつて良質の薄膜形成
フイルムまたは基板が得られることができる。
1の下方には補助加熱源としての電気抵抗体1
9,19,19,19が設けられており、熱電対
21a,21a,21a,21aにより各るつぼ
11の温度を検出し、この検出に応じて各るつぼ
11,11,11,11の温度が等しくなるよう
に電気抵抗体19に電流が流されるので各るつぼ
11,11,11,11は均等に加熱される。従
つて、今この蒸発源は真空中におかれ、この上方
に従来例と同様に帯状の基板もしくはフイルムが
走行するものとすれば、本考案によれば各るつぼ
11,11,11,11からの金属の蒸発速度及
び密度は均一であるので、この上を走行するフイ
ルムまたは基板には一様な膜厚で蒸発金属の薄膜
が形成されるここになる。よつて良質の薄膜形成
フイルムまたは基板が得られることができる。
また、本実施例によれば各るつぼ11の下方に
はアルミナ焼結材で成る支持板17で各るつぼ1
1が支持されているのであるが、各るつぼ11か
らの放熱がこのアルミナ焼結材に照射され、よつ
て、この支持板17の厚さを適当に設定しておけ
ば、各るつぼ11からの放熱量は各電気抵抗体1
9に流す電流の制御を安定なものとすることがで
きる。すなわち今、アルミナ焼結材で成る支持板
17の厚さが薄くて放熱量が小さいとすると、制
御精度は悪くなり、またこの厚さが大きすぎる
と、これに熱が食われることにより電気抵抗体1
9に流す電流を多くして容量を大きくしなければ
ならないので、電気抵抗体19の容量を適切な大
きさとすべく、かつ制御精度を良好なものとする
ような厚さに設定されている。また、アルミナ焼
結材で成る支持板18により電気抵抗体19を受
け、支持しかつ両支持板17,18間にはスペー
サ部材としてのアルミナ焼結材で成る保護管20
が設けられているので、これら組み合せで成る集
合体は同一のアルミナ焼結材で成るので、安定な
熱伝達体が得られ、よつて電気抵抗体19に流す
電流の制御を安定にすることができる。すなわ
ち、各るつぼ11,11,11,11の温度を理
想的に等しい温度にすることが可能となる。
はアルミナ焼結材で成る支持板17で各るつぼ1
1が支持されているのであるが、各るつぼ11か
らの放熱がこのアルミナ焼結材に照射され、よつ
て、この支持板17の厚さを適当に設定しておけ
ば、各るつぼ11からの放熱量は各電気抵抗体1
9に流す電流の制御を安定なものとすることがで
きる。すなわち今、アルミナ焼結材で成る支持板
17の厚さが薄くて放熱量が小さいとすると、制
御精度は悪くなり、またこの厚さが大きすぎる
と、これに熱が食われることにより電気抵抗体1
9に流す電流を多くして容量を大きくしなければ
ならないので、電気抵抗体19の容量を適切な大
きさとすべく、かつ制御精度を良好なものとする
ような厚さに設定されている。また、アルミナ焼
結材で成る支持板18により電気抵抗体19を受
け、支持しかつ両支持板17,18間にはスペー
サ部材としてのアルミナ焼結材で成る保護管20
が設けられているので、これら組み合せで成る集
合体は同一のアルミナ焼結材で成るので、安定な
熱伝達体が得られ、よつて電気抵抗体19に流す
電流の制御を安定にすることができる。すなわ
ち、各るつぼ11,11,11,11の温度を理
想的に等しい温度にすることが可能となる。
なお、第2図、第3図に示す従来例とはさらに
他の従来例として、各るつぼ1,2,3,4にそ
れぞれ高周波誘導加熱コイルを巻装し、これらに
それぞれ高周波電流を流し、各々のるつぼの温度
を検出して、これらるつぼの温度が等しくなるよ
うに各高周波加熱用コイルに流す電流を調節する
ことも考えられるが、この場合、各々電流の制御
をしなければならず、また負荷が誘導負荷であ
り、これらを制御するための回路が非常に複雑で
高価なものとなる。しかしながら、本実施例によ
れば、誘導加熱コイル16が複数のるつぼに対し
て共通で1つであり、これは第2、第3図の従来
例と同様であるが、この誘導加熱用コイル6によ
り高い所定の温度になるべく加熱した上で、各る
つぼ11において±2〜3度の小さな温度調節を
するだけの電気補助加熱源としての電気抵抗体1
9を設けて、これに流す電流を制御するのである
から、その制御は非常に簡単であり、上述の他の
従来例に比べると全体としてはコストをはるかに
低下させることができるものである。さらに第
2、第3図に示す従来例と比べ上述したように、
各るつぼ1,2,3,4の温度ムラを無くすので
より優れた薄膜を形成することができるという効
果を奏するものである。
他の従来例として、各るつぼ1,2,3,4にそ
れぞれ高周波誘導加熱コイルを巻装し、これらに
それぞれ高周波電流を流し、各々のるつぼの温度
を検出して、これらるつぼの温度が等しくなるよ
うに各高周波加熱用コイルに流す電流を調節する
ことも考えられるが、この場合、各々電流の制御
をしなければならず、また負荷が誘導負荷であ
り、これらを制御するための回路が非常に複雑で
高価なものとなる。しかしながら、本実施例によ
れば、誘導加熱コイル16が複数のるつぼに対し
て共通で1つであり、これは第2、第3図の従来
例と同様であるが、この誘導加熱用コイル6によ
り高い所定の温度になるべく加熱した上で、各る
つぼ11において±2〜3度の小さな温度調節を
するだけの電気補助加熱源としての電気抵抗体1
9を設けて、これに流す電流を制御するのである
から、その制御は非常に簡単であり、上述の他の
従来例に比べると全体としてはコストをはるかに
低下させることができるものである。さらに第
2、第3図に示す従来例と比べ上述したように、
各るつぼ1,2,3,4の温度ムラを無くすので
より優れた薄膜を形成することができるという効
果を奏するものである。
以上、本考案の実施例について説明したが、も
ちろん本考案はこれに限定されることなく、本考
案の技術的思想に基ずいて種々の変形が可能であ
る。
ちろん本考案はこれに限定されることなく、本考
案の技術的思想に基ずいて種々の変形が可能であ
る。
例えば、以上の実施例では、るつぼ11の数を
4個としたが、もちろんさらに多数のるつぼを、
あるいはこれより少数のるつぼを、例えば2個の
るつぼを用いたものにも適用可能である。また、
第2図に示すごとく、これを横方向に並設した場
合のみならず、金属薄膜を形成すべき対象物の形
状、その走行状態、あるいは停止しているという
ような状態に応じて、その配置は図示の並列のみ
ならず、例えば円周状に配設してもよいし、ちど
り状に配設したものでも本考案は場合によつて適
用可能である。
4個としたが、もちろんさらに多数のるつぼを、
あるいはこれより少数のるつぼを、例えば2個の
るつぼを用いたものにも適用可能である。また、
第2図に示すごとく、これを横方向に並設した場
合のみならず、金属薄膜を形成すべき対象物の形
状、その走行状態、あるいは停止しているという
ような状態に応じて、その配置は図示の並列のみ
ならず、例えば円周状に配設してもよいし、ちど
り状に配設したものでも本考案は場合によつて適
用可能である。
また、以上の実施例では補助加熱源として電気
抵抗体19を用いられたが、もちろんこれに限定
されることなく、その発生熱量をるつぼの温度の
検知出力に応じて制御可能であるものであれば何
でも適用可能である。
抵抗体19を用いられたが、もちろんこれに限定
されることなく、その発生熱量をるつぼの温度の
検知出力に応じて制御可能であるものであれば何
でも適用可能である。
また、以上の実施例では補助加熱電源としての
電気抵抗体19をるつぼ11の下方に支持板17
を介して配設するようにしたが、るつぼ11を他
の何らかの手段により、例えばその左右端部にお
いて実施例のスペーサのごときもので支持したり
し、直接この下方に補助加熱源、例えば電気抵抗
体19を配設するようにしてもよい。
電気抵抗体19をるつぼ11の下方に支持板17
を介して配設するようにしたが、るつぼ11を他
の何らかの手段により、例えばその左右端部にお
いて実施例のスペーサのごときもので支持したり
し、直接この下方に補助加熱源、例えば電気抵抗
体19を配設するようにしてもよい。
また、支持板17,18の材質もアルミナ焼結
材に限ることなく制御性やるつぼの放熱状態に応
じて適切な材料から成るもので形成してもよい。
また以上の実施例では、るつぼの温度を検知する
のに熱電対が用いられたが、これに代えて、他の
手段、例えば放射温度計が用いられてもよい。
材に限ることなく制御性やるつぼの放熱状態に応
じて適切な材料から成るもので形成してもよい。
また以上の実施例では、るつぼの温度を検知する
のに熱電対が用いられたが、これに代えて、他の
手段、例えば放射温度計が用いられてもよい。
本考案の蒸発源によれば、複数のるつぼからほ
ぼ等しい蒸発速度で金属を蒸発させることができ
る。従つて、例えば真空中において、その上を走
行するフイルム又は帯状の基板の表面に金属の薄
膜を全領域にわたつて一様な厚さで形成すること
ができる。
ぼ等しい蒸発速度で金属を蒸発させることができ
る。従つて、例えば真空中において、その上を走
行するフイルム又は帯状の基板の表面に金属の薄
膜を全領域にわたつて一様な厚さで形成すること
ができる。
第1図は本考案の実施例による蒸発源の断面
図、第2図は従来例の蒸発源の平面図及び第3図
は第2図における−線方向の断面図で第1図
と同様な図である。 なお図において、19……電気抵抗体。
図、第2図は従来例の蒸発源の平面図及び第3図
は第2図における−線方向の断面図で第1図
と同様な図である。 なお図において、19……電気抵抗体。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 複数のるつぼと、これらるつぼ全体の外周に
巻装された共通の高周波誘導加熱用コイルとを
備え、前記コイルに高周波の電流を通電させる
ことにより各前記るつぼ内の金属を誘導加熱に
より融解して蒸発させる蒸発源において、各前
記るつぼの外底壁面の直下方にそれぞれ補助加
熱源を配設し、各前記るつぼの温度を検出する
検出手段及び該検出手段の検出出力を受け、こ
れと設定基準温度との差に応じて各前記補助加
熱源の発生熱量を独立して制御する制御器とを
設け、各前記るつぼの温度を独立して調節した
ことを特徴とする蒸発源。 (2) 前記補助加熱源は電気抵抗体であつて、該抵
抗体は前記るつぼの直下方で前記るつぼを支持
するための第1支持板の下方に配設されている
前記第1項に記載の蒸発源。 (3) 前記第1支持板はアルミナ材でなる前記第2
項に記載の蒸発源。 (4) 前記電気抵抗体はアルミナ材でなる第2の支
持板で支持されている前記第3項に記載の蒸発
源。 (5) 前記電気抵抗体は線状又はコイル状であつ
て、この径より大きいアルミナ材でなるスペー
サ部材が前記第1と第2の支持板との間に介在
されている前記第4項に記載の蒸発源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987186215U JPH047182Y2 (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987186215U JPH047182Y2 (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0189953U JPH0189953U (ja) | 1989-06-13 |
| JPH047182Y2 true JPH047182Y2 (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=31477454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987186215U Expired JPH047182Y2 (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH047182Y2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5725734U (ja) * | 1980-07-18 | 1982-02-10 | ||
| JPS5943875A (ja) * | 1982-09-04 | 1984-03-12 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 蒸発源及びその使用方法 |
| JPS60255971A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-17 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形成装置 |
-
1987
- 1987-12-07 JP JP1987186215U patent/JPH047182Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0189953U (ja) | 1989-06-13 |
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