JPH0472001A - Manufacture of fine metallic balls - Google Patents

Manufacture of fine metallic balls

Info

Publication number
JPH0472001A
JPH0472001A JP2183644A JP18364490A JPH0472001A JP H0472001 A JPH0472001 A JP H0472001A JP 2183644 A JP2183644 A JP 2183644A JP 18364490 A JP18364490 A JP 18364490A JP H0472001 A JPH0472001 A JP H0472001A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine metal
substrate
base plate
metal wire
fine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2183644A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0717921B2 (en
Inventor
Hisao Kuribayashi
栗林 久雄
Tadakatsu Maruyama
忠克 丸山
Takahide Ono
恭秀 大野
Yasuhiro Suzuki
康弘 鈴木
Tomohiro Uno
智裕 宇野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp filed Critical Nippon Steel Corp
Priority to JP2183644A priority Critical patent/JPH0717921B2/en
Priority to KR1019910700856A priority patent/KR960000332B1/en
Priority to DE69032249T priority patent/DE69032249T2/en
Priority to PCT/JP1990/001591 priority patent/WO1991008850A1/en
Priority to EP91900363A priority patent/EP0457920B1/en
Publication of JPH0472001A publication Critical patent/JPH0472001A/en
Publication of JPH0717921B2 publication Critical patent/JPH0717921B2/en
Priority to US08/596,694 priority patent/US5761779A/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • B23K2101/40Semiconductor devices

Landscapes

  • Wire Processing (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

PURPOSE:To easily obtain fine metallic balls by heating and melting a stretched fine metallic wire after stretching the fine metallic wire on upper surface of a heat resistant base plate forming recessed parts on the upper surface. CONSTITUTION:At first, the fine metallic wire 2 is stretched so as to become orthogonal to the grooves 12 on the upper surface of base plate 10 and hung to pins 16 arranged to both end parts in the base plate 10 in order, to stretch the fine metallic wire 2 over on the upper surface of base plate 10. Successively, a pressing cover 20 is laid on the base plate 10 and fixed with holding tools 30, such as clamp, hing. Under this condition, the base plate is charged into a high temp. furnace, e.g., electric furnace, to melt the metallic wire at infinity about 1070 deg.C. At the same time of melting the metallic wire, this is cut with projecting parts 14 among the grooves 12 and dropped into the grooves 12. Therefore, by stilly cooling and only solidifying it, the fine metallic balls can be manufactured, and working efficiency and productivity are improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ICチップのt8iとTABテープのリード
等との間を接合する際に接合部材として利用される微細
金属球を製造するための方法に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is a method for manufacturing fine metal balls used as a bonding member when bonding between the t8i of an IC chip and the lead of a TAB tape. It is about the method.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ICチップの電極と外部リードとの接続には多様な方法
が採用されている。
Various methods are used to connect the electrodes of the IC chip and external leads.

配線用の極細ワイヤー(ポンディングワイヤー)を用い
て接続する方法もあるが、チップの電極とリードとの間
にバンブと呼ばれる金属突起を挟んで熱圧着する方法も
広く行われるようになっている。
There is a method of connecting using ultra-thin wire for wiring (ponding wire), but a method of thermocompression bonding by sandwiching a metal protrusion called a bump between the chip electrode and the lead is also becoming widely used. .

T A B (Tape Automated Bon
ding)法は後者の代表として注目されている技術で
ある。この方法は、予めICチップの電極部か、もしく
はTABテープ上のリード先端部のいずれかにバンブを
形成しておき、次にICチップ電極部とリードを存する
TABテープとをバンブを介して重ね合わせて両者を接
合するものである。またTAB法以外にフリフプチフブ
法においても、バンブが使用されている。
T A B (Tape Automated Bon
ding) method is a technique that is attracting attention as a representative of the latter. In this method, a bump is formed in advance either on the electrode section of the IC chip or on the lead tip section on the TAB tape, and then the IC chip electrode section and the TAB tape containing the leads are stacked via the bump. The two are then joined together. In addition to the TAB method, bumps are also used in the flip-flop method.

このような用途に提供されるバンブのこれまでの作り方
は、メツキによる方法が主であった。すなわち、ICチ
ップの電極部にバンブとなる金属(主に高純度の金)を
直接メンキして形成する力\または一旦ガーラス基盤上
等にメツキによって形成したバンブをTABテープ側の
リード先端部に転写する方法が主流となっている。
Up until now, the method of making bamboo provided for such uses has mainly been the method of making bamboo sticks. In other words, the force is applied by directly plating the metal (mainly high-purity gold) that will become the bump on the electrode part of the IC chip, or by applying the force to form the bump once formed by plating on a glass substrate etc. to the lead tip on the TAB tape side. The mainstream method is to transfer.

しかしながら、メツキによる方法は設備が大きくなる上
に、バンプとして使用する金属の組成にも制約を受ける
という欠点がある。また特にICチップの電極部に直接
メンキしてバンプを形成しようとすれば、ICチップそ
のものがメツキ工程を通過することになって、ICチッ
プの歩留まりが悪化するということも間脛とされていた
However, the method using plating has disadvantages in that it requires large equipment and is also subject to restrictions on the composition of the metal used as the bump. It was also feared that if bumps were to be formed by directly plating the electrodes of IC chips, the IC chips themselves would have to go through the plating process, which would worsen the yield of IC chips. .

これらの欠点を解消する方法として、メツキによらない
バンブ形成方法も考えられるようになってきた0本出願
人は先に、バンプ用の素材となる金属を微細線に加工し
た後、この金属線を定尺切断した後、互いの間隔を隔て
た状態で溶融・凝固させ、表面張力を利用して球形状の
バンプを得る方法について出願した(特願平1−320
296号)。この方法で作られた球形状のバンブは、リ
ード先端部等に熱圧着して使用される(特願平1−23
4917号)。
As a way to overcome these drawbacks, bump forming methods that do not involve plating have come to be considered. An application was filed for a method for obtaining spherical bumps by cutting the bumps to a specified length and then melting and solidifying the bumps at intervals using surface tension (Japanese Patent Application No. 1-320).
No. 296). The spherical bump made by this method is used by thermocompression bonding to the tip of the lead, etc. (Patent application No. 1-23
No. 4917).

任意の金属線片を溶融してハンプとする新しい方法によ
れば、接合用部材としてふされしい特性を持った任意の
金属をハンプとして使用する可能性が大きく広がったこ
とになる。すなわち、金の他に銅や銀、並びにそれらを
ヘースとする各種の合金を、容易にハンプとして成形す
ることができるようになったわけである。
The new method of melting any piece of metal wire to make a hump greatly expands the possibility of using any metal that has properties suitable for a joining member as a hump. In other words, in addition to gold, copper, silver, and various alloys based on these materials can now be easily formed into humps.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

従来の微細金属球の製造方法では、微細金属線を所定の
長さに切断した後、手作業で金属線片を溶解用受皿等に
1本ずつ一定の間隔をおいて並べてから溶融していた。
In the conventional manufacturing method for fine metal balls, after cutting fine metal wires to a predetermined length, the metal wire pieces were manually arranged one by one at regular intervals in a melting tray, etc., and then melted. .

この方法では、微細金属線を一定の長さに切断しさえす
れば、均一なサイズの微細金属球を形成することができ
る。しかしながら、この金属線片は長くても2〜3mm
という微小なものなので、金属線片を1本づつ配列する
ための作業に手間がかかり、作業能率が悪く、量産性に
欠けるという問題があった。
With this method, fine metal spheres of uniform size can be formed by cutting the fine metal wire to a certain length. However, this metal wire piece is 2 to 3 mm long at most.
Since the metal wires are so small, it takes time and effort to arrange the metal wire pieces one by one, resulting in poor work efficiency and a lack of mass productivity.

本発明は上記事情に基づいてなされたものであり、作業
能率の向上を図るとともに、量産の容易な微細金属球の
製造方法を提供することを目的とするものである。
The present invention has been made based on the above circumstances, and aims to improve work efficiency and provide a method for manufacturing fine metal balls that can be easily mass-produced.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記の目的を達成するための本発明に係る微細金属球の
製造方法は、上面に凹部が形成された耐熱性の基板の上
面に、微細金属線を張設した後、張設した微細金属線を
加熱して溶融することにより微細金属球を得ることを特
徴とするものである。
In order to achieve the above object, the method for manufacturing a fine metal ball according to the present invention is to stretch a fine metal wire on the upper surface of a heat-resistant substrate having a concave portion formed on the upper surface, and then stretch the fine metal wire It is characterized by obtaining fine metal spheres by heating and melting.

そして、前記基板には、少なくとも微細金属線が張設さ
れる部分の開口部の大きさが同じである多数の凹部が形
成されていることが望ましい。
Preferably, the substrate is formed with a large number of recesses having the same opening size at least in the portion where the fine metal wire is stretched.

また、微細金属線が張設された前記基板の上面に耐熱性
の押さえ蓋を載置した後に微細金属線を加熱して溶融す
ることが望ましい。
Further, it is desirable to heat and melt the fine metal wires after placing a heat-resistant presser lid on the upper surface of the substrate on which the fine metal wires are stretched.

〔作用〕[Effect]

本発明は前記の構成によって、基板の上面に張設された
微細金属線を加熱することにより、微細金属線を凹部の
開口部の大きさの金属線片に溶断すると共に、溶断した
金属線片を凹部の底部により保持して溶融することによ
り、溶融金属の表面張力を利用して金属線片を球状化す
る。その後、静かに冷却して凝固させることにより微細
金属球を形成する。
With the above-described configuration, the present invention heats the fine metal wire stretched over the upper surface of the substrate to cut the fine metal wire into metal wire pieces having the size of the opening of the recess, and the cut metal wire pieces. By holding and melting the metal wire by the bottom of the recess, the metal wire piece is spheroidized using the surface tension of the molten metal. Thereafter, it is gently cooled and solidified to form fine metal spheres.

そして、前記基板に、少なくとも微細金属線が張設され
る部分の開口部の大きさが同じである多数の凹部を形成
することにより、溶断された多数の金属線片は全て同じ
長さを持つことになるので、サイズの均一な微細金属球
を容易に量産することができる。
By forming a large number of recesses in the substrate, at least the portions where the fine metal wires are stretched, the openings have the same size, so that the large number of melted metal wire pieces all have the same length. Therefore, fine metal spheres of uniform size can be easily mass-produced.

また、微細金属線が張設された前記基板の上面に耐熱性
の押さえ蓋を載置した後に微細金属線を加熱して溶融す
ることにより、微細金属線を加熱する際の熱膨張による
金属線片の変形によって溶断する位置がずれるのを防止
したり、また基板に多数の凹部を形成した場合において
各凹部における微細金属線の溶断時期に相違が生しても
、確実に各凹部毎に微細金属線を溶断することができる
In addition, by placing a heat-resistant presser lid on the top surface of the substrate on which the fine metal wires are stretched, and then heating and melting the fine metal wires, the metal wires are generated by thermal expansion when heating the fine metal wires. This prevents the melting point from shifting due to the deformation of the piece, and also ensures that the fine metal wires are cut in each recess precisely, even if there are differences in the timing of fusing the fine metal wire in each recess when a large number of recesses are formed on the board. Can cut metal wires.

(実施例〕 以下に本発明の一実施例を第1図乃至第4図を参照して
説明するや第1図(a)は本発明の一実施例に用いる基
板と押さえ蓋の概略図、第1図(b)はその基板と押さ
え蓋を合わせたときの概略側面図、第2図、第3図はそ
の基板に微細金属線を張る方法を説明するための図、第
4図はその微細金属線を張った基板と押さえ蓋とを固定
したときの概略図である。本実施例においては、線径が
20μmの金線(微細金属線)を使用しており、直径が
80μmの金球(微細金属球)を製造する場合について
説明する。
(Embodiment) An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4. FIG. 1(a) is a schematic diagram of a substrate and a holding lid used in an embodiment of the present invention; Fig. 1 (b) is a schematic side view of the substrate and the presser lid together, Figs. 2 and 3 are diagrams for explaining the method of applying fine metal wires to the substrate, and Fig. 4 is a diagram showing the method. It is a schematic diagram when a substrate covered with a fine metal wire and a presser lid are fixed. In this example, a gold wire (fine metal wire) with a wire diameter of 20 μm is used, and a gold wire with a diameter of 80 μm is used. A case of manufacturing a sphere (fine metal sphere) will be explained.

第1図(a)及び同図(b)に示す耐熱性の基板10に
は一定幅の溝(凹部)12が多数形成されている。基板
10はカーボンやセラミックス等の耐熱性材料により形
成することが望ましい。基板10の寸法は、特に制限は
ないが、縦A−30mm、横B−50mmとしている。
A large number of grooves (concave portions) 12 having a constant width are formed in a heat-resistant substrate 10 shown in FIGS. 1(a) and 1(b). The substrate 10 is desirably made of a heat-resistant material such as carbon or ceramics. Although the dimensions of the substrate 10 are not particularly limited, they are length A-30 mm and width B-50 mm.

また、溝12の断面は半円形に形成し、溝12の開口部
の幅D= Q、  8 mm、 ill 12間の突部
14の幅E=0゜1mm、溝12の深さH=0.35m
mとしティる。実際には、溝12の形状には制限はない
。溝12の断面は半円形に限らず、矩形又はV字形でも
よい、ただし、断面形状をV字形に形成した場合には、
最底部は半径o、35mm以上の丸みをつける必要があ
る。また、溝間の突部14の幅Eはできるだけ狭いほう
が望ましい。
Further, the cross section of the groove 12 is formed in a semicircular shape, the width of the opening of the groove 12 D=Q, 8 mm, the width E of the protrusion 14 between the ills 12=0°1 mm, and the depth of the groove 12 H=0. .35m
Let's start with m. In practice, there are no restrictions on the shape of the grooves 12. The cross section of the groove 12 is not limited to a semicircular shape, but may be rectangular or V-shaped. However, if the cross-sectional shape is V-shaped,
The bottom part must be rounded to a radius o of 35 mm or more. Further, it is desirable that the width E of the protrusion 14 between the grooves is as narrow as possible.

溝の開口部の幅りは、微細金属線の線径及び製造しよう
とする微細金属球の大きさによって決定される。また、
本実施例の場合、溝の開口部の輻りの寸法は±0.1m
mの精度で製作すれば、溶断された金属線片の長さのば
らつきが約10%以内となり、金属球に形成したときに
は、その半径の誤差は約5%程度になり、高い精度で均
一な微細金属球を製造することができる。したがって、
後述する微細金属線を溶断する際に、溝間の突部14上
の金線は突部14の何方の溝に落ちでも得られる金属球
の精度に大きな影響を及ぼさない。
The width of the opening of the groove is determined by the wire diameter of the fine metal wire and the size of the fine metal sphere to be manufactured. Also,
In the case of this example, the diameter of the groove opening is ±0.1 m.
If manufactured with an accuracy of m, the variation in the length of the cut metal wire piece will be within about 10%, and when formed into a metal sphere, the error in the radius will be about 5%, making it possible to achieve uniformity with high precision. Fine metal spheres can be manufactured. therefore,
When cutting a fine metal wire, which will be described later, the gold wire on the protrusion 14 between the grooves does not have a large effect on the accuracy of the obtained metal ball, regardless of which groove of the protrusion 14 the gold wire falls into.

また、基板10の両端部には多数のピン16が略ビンの
直径と等しい間隔をおいて、且つ一方の端部のビン16
が他方の端部のピン16の間に位置するように設けられ
ている。これにより基板lOの上面に微細金属線をぼぼ
平行に張設することができる。
Further, a large number of pins 16 are provided at both ends of the substrate 10 at intervals approximately equal to the diameter of the bottle, and the pins 16 at one end are arranged at intervals approximately equal to the diameter of the bottle.
is located between the pins 16 at the other end. This allows the fine metal wires to be stretched almost parallel to the upper surface of the substrate IO.

押さえM2Cもセラミックス製であり、これは基板10
に重ねて、溝12の上に張り巡らせた微細金属vA2を
固定する役割を果たす。押さえM2Cの基板10に相対
する面は平坦に加工されている。また、押さえ蓋20に
はビン16に対応する穴22が形成されている。尚、基
板lOと押さえ蓋20を重ね合わせたときにできる隙間
はできるだけ小さい方が望ましい、その隙間はせいぜい
O〜10μm程度になるように基板10及び押さえ蓋2
0を仕上げる。このようにして加工した基板10と押さ
えM2Cとによって微細金属vA2を間に挟むことによ
り、微細金属線を固定する。
The presser M2C is also made of ceramics, and this
It plays the role of fixing the fine metal vA2 stretched over the groove 12. The surface of the presser M2C facing the substrate 10 is processed to be flat. Further, a hole 22 corresponding to the bottle 16 is formed in the holding lid 20. Note that it is desirable that the gap created when the substrate 1O and the presser lid 20 are overlapped is as small as possible.
Finish 0. By sandwiching the fine metal vA2 between the thus processed substrate 10 and the presser M2C, the fine metal wire is fixed.

微細金属球を製造するためには、先ず基板10の上面に
溝12に垂直になるように微細金属線2を張設する。本
実施例においては第2図に示すように基板10の両端部
に設けられたビン16に、微細金属線2を順次引っ掛け
ることにより、基板10の上面に微細金属線を張り巡ら
す。また、第3図に示すように基板10にピンを設けず
、複数の微細金属vA2を基板10上に平行に配列して
もよい。このように複数の微細金属線2を配列した場合
には、特に、微細金i線2を固定するための押さえ蓋2
0を用いる意義が大きい。
In order to manufacture fine metal balls, first, a fine metal wire 2 is stretched on the upper surface of a substrate 10 so as to be perpendicular to the groove 12. In this embodiment, as shown in FIG. 2, the fine metal wires 2 are successively hooked onto bins 16 provided at both ends of the substrate 10, thereby stretching the fine metal wires over the upper surface of the substrate 10. Alternatively, as shown in FIG. 3, the pins may not be provided on the substrate 10, and a plurality of fine metals vA2 may be arranged in parallel on the substrate 10. When a plurality of fine metal wires 2 are arranged in this way, in particular, a presser lid 2 for fixing the fine gold i-wires 2 is used.
There is great significance in using 0.

基板10に微細金属線(金線)2を張った後、押さえM
2Cを基板10に載せ、第4図に示すようにクランプ又
は蝶番等の止め具30で固定する。
After stretching the fine metal wire (gold wire) 2 on the substrate 10, presser M
2C is placed on the substrate 10 and fixed with a stopper 30 such as a clamp or a hinge as shown in FIG.

この状態で基板を高温の炉、たとえば誘導加熱炉に入れ
、1060℃で金線を溶融する。金線は溶融すると同時
に溝12の間の突部14で溶断さ江溝12の中に落ちる
0本実施例においては、溝12の幅りを0.8mmに形
成しているので、金線も0.8mmの長さに切断される
。こうして、溶断された金線片は溝の中で適当な間隔(
約ピン16の直径と同等)をもって配列される。
In this state, the substrate is placed in a high temperature furnace, such as an induction heating furnace, and the gold wire is melted at 1060°C. At the same time as the gold wire melts, it is fused and cut at the protrusion 14 between the grooves 12 and falls into the groove 12. In this embodiment, the width of the groove 12 is formed to be 0.8 mm, so that the gold wire also melts. Cut into lengths of 0.8 mm. In this way, the fused gold wire pieces are placed at appropriate intervals (
(approximately equivalent to the diameter of the pins 16).

一般に、溶融金属は表面張力が大きく適当な形状の微細
な固体素材を溶融温度以上に加熱してやると、溶融状態
では、自ら球形状に変化する傾向がある。したがって、
予め得ようとする金属球と同じ質量をもった金属を溶解
した後、静かに冷却して凝固するだけで微細金属球を製
造することができる。
Generally, molten metal has a large surface tension, and when a fine solid material of an appropriate shape is heated above the melting temperature, it tends to change into a spherical shape by itself in the molten state. therefore,
Fine metal spheres can be produced simply by melting a metal having the same mass as the metal sphere and then gently cooling and solidifying it.

したがって、溝12の中で一定の間隔で配列された金属
線片は炉の中で溶融し、同じ大きさの微細金属球に形成
される。最後に、基板10を炉から出してゆっくりと冷
却することにより望まれた寸法の微細金属球が得られる
Therefore, the metal wire pieces arranged at regular intervals in the grooves 12 are melted in the furnace and formed into fine metal spheres of the same size. Finally, the substrate 10 is removed from the furnace and slowly cooled to obtain fine metal spheres of the desired dimensions.

以上のように本実施例の微細金属球の製造方法において
は、微細金属線の切断工程と金属線片の溶融工程とを一
工程で行うことができるので、切断後の金属線片の配列
作業が不要となり、微細金属の製造工程における作業効
率の向上を図ることができる。また、溝12を多数形成
するか又は溝12を長く形成することにより、量産性の
向上を図ることができる。
As described above, in the method for manufacturing fine metal balls of this embodiment, the cutting process of fine metal wires and the process of melting metal wire pieces can be performed in one step, so that the process of arranging metal wire pieces after cutting can be performed in one step. is no longer necessary, and it is possible to improve work efficiency in the manufacturing process of fine metals. Moreover, by forming a large number of grooves 12 or by forming the grooves 12 to be long, mass productivity can be improved.

また、本実施例においては基板10と押さえ蓋20とに
耐熱性材料を用いているので、これらは−度製作すれば
半永久的に使用することができる。
Further, in this embodiment, heat-resistant materials are used for the substrate 10 and the presser cover 20, so that they can be used semi-permanently if they are manufactured several times.

第5図及び第6図は本実施例に用いられる押さえ蓋の他
の例を示す図である。第5図に示す押さえ蓋20aは基
板10の溝12の突部14に対応する部分に幅F”0.
2mm、深さG=O,1mmの窪み部24が形成されて
いる。押さえ蓋20aをこのように形成することにより
、押さえ蓋20aの窪み部24と窪み部24との間は仕
上げが不要となり、押さえ蓋20aの加工が容易となる
FIGS. 5 and 6 are views showing other examples of the presser lid used in this embodiment. The holding lid 20a shown in FIG. 5 has a width F"0 at the portion corresponding to the protrusion 14 of the groove 12 of the substrate 10.
A recessed portion 24 of 2 mm, depth G=O, and 1 mm is formed. By forming the presser lid 20a in this manner, there is no need for finishing between the recessed portions 24 of the presser lid 20a, and processing of the presser lid 20a becomes easy.

第6図に示す押さえ蓋20bは基板10に合わさる面の
断面が波形に形成されている。波形の各凸部26は基板
10の善導12に対応するように形成されている。第6
図に示す押さえ蓋20bを使用することにより、溶断時
には押さえ蓋20bによって微細金属線を善導12の中
央部分において同図の下側に押圧するようになるので、
微細金属線の溶断時において確実に各突部14で微細金
r/X線を切断することができ、したがって溶断後の金
属線片の寸法が均一なものとなる。
The holding lid 20b shown in FIG. 6 has a corrugated cross-section on the surface that meets the substrate 10. Each wave-shaped convex portion 26 is formed to correspond to the guide 12 of the substrate 10. 6th
By using the holding lid 20b shown in the figure, the holding lid 20b presses the fine metal wire at the center of the good conductor 12 toward the lower side of the figure during fusing.
When fusing a fine metal wire, the fine gold r/X-ray can be reliably cut at each protrusion 14, so that the size of the metal wire piece after fusing becomes uniform.

第7図及び第8図は本実施例に用いられる基板の他の例
を示す図である。第7図に示す基板10aの特徴は、第
1図及び第2図に示す基板10の溝12に仕切り壁18
を設けることにより、a12を、長さJ=4mmの小部
屋12aに区切ったことにある。尚、仕切り壁18の厚
さはL=1mmである。また、第8図に示す基板10b
の特徴は、溝の代わりに直径M=約4mmの穴部19を
設けたことにある。第7図又は第8図に示す基板を使用
することにより、微細金属線を溶断したときに、各金属
線片は各小部M12a又は穴部19に一つずつ落ちるた
め、複数の金属線片が重なって溶融され、サイズの大き
な不良品が形成されることを防止することができる。し
たがって、第7図又は第8図の基板を用いることにより
、歩留まりの向上を図ることができる。
FIGS. 7 and 8 are diagrams showing other examples of the substrate used in this embodiment. The feature of the substrate 10a shown in FIG. 7 is that a partition wall 18 is provided in the groove 12 of the substrate 10 shown in FIGS. 1 and 2.
By providing this, a12 is divided into small rooms 12a each having a length J=4 mm. Note that the thickness of the partition wall 18 is L=1 mm. Further, the substrate 10b shown in FIG.
The feature is that a hole 19 with a diameter M of about 4 mm is provided instead of a groove. By using the substrate shown in FIG. 7 or 8, when the fine metal wire is fused, each metal wire piece falls into each small part M12a or hole part 19 one by one, so a plurality of metal wire pieces It is possible to prevent large-sized defective products from being formed due to overlapping melting. Therefore, by using the substrate shown in FIG. 7 or 8, it is possible to improve the yield.

尚、上記の実施例では、基板を1つ使用する場合につい
て説明したが、基板は複数枚を積み重ねて使用してもよ
い。たとえば、第9図に示すように3個の基板lOを積
み重ねて加熱炉に入れてもよい、但し、この場合、上段
と中段の基板10の底面は押さえ蓋と同様の精度で仕上
げる必要がある。このように基板10に押さえ蓋の機能
を持たせることにより、押さえM2Oは最上段の基板】
0にのみ被せればよいので、押さえ蓋2oの数を少なく
することができ、また−工程で多量の微細金属球を容易
に製造することができる。
Incidentally, in the above embodiment, the case where one substrate is used has been described, but a plurality of substrates may be stacked and used. For example, as shown in FIG. 9, three substrates 10 may be stacked and placed in a heating furnace. However, in this case, the bottom surfaces of the upper and middle substrates 10 must be finished with the same precision as the presser lid. . By giving the substrate 10 the function of a presser lid in this way, the presser M2O is the topmost substrate]
Since it is only necessary to cover the metal balls 2o, the number of presser lids 2o can be reduced, and a large amount of fine metal balls can be easily manufactured in the step.

また、上記の実施例では、微細金属vA2が直線である
場合について説明したが、微細金属線は直線に限らず、
たとえば第10図に示すように波形に形成し、且つ波形
の各底部2a+が善導12に合わさるように形成しても
よい。かがる微細金属線2aを使用することにより、溶
断時には、微細金属線2aは各頂部2azで溶断される
ので、突部14の精密な仕上げは不要となり、基板の製
作が容易になる。但し、この場合には、金属線片の長さ
は各波形の円弧の長さになる。
In addition, in the above embodiment, the case where the fine metal vA2 is a straight line has been described, but the fine metal wire is not limited to a straight line.
For example, it may be formed into a waveform as shown in FIG. By using the bendable fine metal wires 2a, the fine metal wires 2a are cut at each top 2az at the time of fusing, so precise finishing of the protrusions 14 is not required, and the manufacture of the board becomes easy. However, in this case, the length of the metal wire piece is the length of the circular arc of each waveform.

また、上記の実施例では溶断時には、押さえ蓋を使用す
る場合について説明したが、微細金属線を第10図に示
すように形成することにより、押さえ蓋を省略すること
も可能である。尚、微細金属球の精度が要求されない場
合には、押さえ蓋を省略することが可能であることは言
うまでもない。
Further, in the above embodiment, a case was explained in which a holding lid is used during fusing, but it is also possible to omit the holding lid by forming fine metal wires as shown in FIG. 10. It goes without saying that if the precision of the fine metal balls is not required, the holding lid can be omitted.

更に、上記の実施例においては、基板の溝や穴部等が一
定のサイズを持つように形成された場合について説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、一つの
基板においてサイズの異なる数種類の溝や穴部等を形成
して使用することにより、−工程で異なるサイズの微細
金属球を製造することも可能である。
Furthermore, in the above embodiments, the case where the grooves, holes, etc. of the substrate are formed to have a constant size has been described, but the present invention is not limited to this, and the size can be changed in one substrate. By forming and using several types of grooves, holes, etc. with different sizes, it is also possible to manufacture fine metal spheres of different sizes in a step.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、微細金属線を基板
の上面に張り、その基板を高温に加熱することにより、
微細金属線の切断と切断された金属線片の溶融とを一工
程で行うことができるので、微細金属球の製造工程にお
ける作業能率と量産性の向上を図ることができる微細金
属球の製造方法を提供することができる。
As explained above, according to the present invention, by placing fine metal wires on the upper surface of a substrate and heating the substrate to a high temperature,
A method for manufacturing fine metal balls that can improve work efficiency and mass productivity in the manufacturing process of fine metal balls, since cutting the fine metal wire and melting the cut metal wire pieces can be performed in one step. can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)は本発明の一実施例に用いる基板と押さえ
蓋の概略図、第1図(b)はその基板と押さえ蓋を合わ
せたときの概略側面図、第2図、第3図はその基板に微
細金属線を張る方法を説明するだめの図、第4図はその
微細金属線を張った基板と押さえ蓋とを固定したときの
概略図、第5図及び第6図は本実施例に用いられる押さ
え蓋の他の例を示す図、第7図及び第8図は本実施例に
用いられる基板の他の例を示す図、第9図は3個の基板
を積み重ねて加熱する場合の説明図、第10図は微細金
属線の一例を示す図である。 2.2a・・・微細金属線・ 10.10a、10b−−一基板、12 =−溝、14
・・・突部、16・・・ビン、 18・・・仕切り壁、19・・・穴部、20.20a、
20b−−−押さえ蓋、30・・・止め具・
FIG. 1(a) is a schematic diagram of a substrate and a presser lid used in an embodiment of the present invention, FIG. 1(b) is a schematic side view of the substrate and presser lid combined, FIGS. The figure is a diagram for explaining the method of stretching fine metal wires on the substrate, Figure 4 is a schematic diagram of the substrate on which the fine metal wires are stretched and the holding lid is fixed, and Figures 5 and 6 are Figures 7 and 8 are diagrams showing other examples of the holding lid used in this embodiment, Figures 7 and 8 are diagrams showing other examples of the substrate used in this embodiment, and Figure 9 is a diagram showing another example of the substrate used in this embodiment. FIG. 10, which is an explanatory diagram in the case of heating, is a diagram showing an example of a fine metal wire. 2.2a...Fine metal wire 10.10a, 10b--one substrate, 12 =-groove, 14
... Protrusion, 16... Bin, 18... Partition wall, 19... Hole, 20.20a,
20b---Pressure lid, 30...stopper

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)上面に凹部が形成された耐熱性の基板の上面に、
微細金属線を張設した後、張設した微細金属線を加熱し
て溶融することにより微細金属球を得ることを特徴とす
る微細金属球の製造方法。
(1) On the top surface of a heat-resistant substrate with a recess formed on the top surface,
A method for producing a fine metal sphere, which comprises stretching a fine metal wire and then heating and melting the stretched fine metal wire to obtain a fine metal sphere.
(2)前記基板には、少なくとも微細金属線が張設され
る部分の開口部の大きさが同じである多数の凹部が形成
されている請求項1記載の微細金属球の製造方法。
(2) The method for manufacturing a fine metal ball according to claim 1, wherein the substrate has a large number of recesses having the same opening size at least in the portion where the fine metal wire is stretched.
(3)微細金属線が張設された前記基板の上面に耐熱性
の押さえ蓋を載置した後に微細金属線を加熱して溶融す
る請求項1又は2記載の微細金属球の製造方法。
(3) The method for manufacturing fine metal balls according to claim 1 or 2, wherein the fine metal wire is heated and melted after a heat-resistant presser lid is placed on the upper surface of the substrate on which the fine metal wire is stretched.
JP2183644A 1989-12-07 1990-07-10 Method for manufacturing fine metal balls Expired - Fee Related JPH0717921B2 (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2183644A JPH0717921B2 (en) 1990-07-10 1990-07-10 Method for manufacturing fine metal balls
KR1019910700856A KR960000332B1 (en) 1989-12-07 1990-12-06 Method of manufacturing minute metallic balls or minute alloy balls
DE69032249T DE69032249T2 (en) 1989-12-07 1990-12-06 METHOD FOR PRODUCING TINY METALLIC BALLS OF EVEN SIZE
PCT/JP1990/001591 WO1991008850A1 (en) 1989-12-07 1990-12-06 Method of manufacturing minute metallic balls uniform in size
EP91900363A EP0457920B1 (en) 1989-12-07 1990-12-06 Method of manufacturing minute metallic balls uniform in size
US08/596,694 US5761779A (en) 1989-12-07 1996-02-05 Method of producing fine metal spheres of uniform size

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2183644A JPH0717921B2 (en) 1990-07-10 1990-07-10 Method for manufacturing fine metal balls

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0472001A true JPH0472001A (en) 1992-03-06
JPH0717921B2 JPH0717921B2 (en) 1995-03-01

Family

ID=16139401

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2183644A Expired - Fee Related JPH0717921B2 (en) 1989-12-07 1990-07-10 Method for manufacturing fine metal balls

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0717921B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012170998A (en) * 2011-02-23 2012-09-10 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology Jig for forming metal ball, method of forming metal ball using the same, and metal ball produced by the method

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63130701A (en) * 1986-11-20 1988-06-02 Aisin Seiki Co Ltd Production of metallic grain
JPS644402A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Tanaka Precious Metal Ind Production of metallic ball

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63130701A (en) * 1986-11-20 1988-06-02 Aisin Seiki Co Ltd Production of metallic grain
JPS644402A (en) * 1987-06-26 1989-01-09 Tanaka Precious Metal Ind Production of metallic ball

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012170998A (en) * 2011-02-23 2012-09-10 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology Jig for forming metal ball, method of forming metal ball using the same, and metal ball produced by the method

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0717921B2 (en) 1995-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5894984A (en) Structure of electronic parts and method of soldering electronic parts to substrate
JPH06326141A (en) Base material for semiconductor-chip bonding and solder material for semiconductor-chip bonding as well as manufacture of solder material for semiconductor-chip bonding
JPS63166774A (en) Manufacture of joined body of copper plate and alumina substrate
JPS62128533A (en) Solder preform and its application
JPH0472001A (en) Manufacture of fine metallic balls
JPS5863142A (en) Bonding wire and bonding process
US5080279A (en) Method for tape automated bonding
JPH0713273B2 (en) Bonding wire for semiconductor device and manufacturing method thereof
JPH0340460A (en) Heat sink and manufacture thereof
JP3462392B2 (en) Manufacturing method of sealing cap for electronic component protection package
JPH04262895A (en) Manufacture of metallic ultra fine ball
JPH0466601A (en) Manufacture of fine metal balls
JPS5941860A (en) Manufacture of case for semiconductor device
JPH11289146A (en) Composite wiring material and method of manufacturing the same
JPH0212611A (en) Manufacture of magnetic head
JP2592252B2 (en) Manufacturing method of brush assembly
SU1362954A1 (en) Method of manufacturing thermocouple hot junction
JPS62166548A (en) Formation of solder bump
JPH01278757A (en) Lead frame
JPS62174932A (en) Manufacture of semiconductor device
JP2625973B2 (en) Solder supply method
JP2680232B2 (en) Wire bonding method with solder wire
JPH0323615A (en) How to join capacitor lead wires
CN118919436A (en) Sintering method and mold for vehicle-mounted power module
JP3366932B2 (en) Contact bump and its manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees