JPH0472785B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は石膏の焼成方法に関する。

従来の技術 α型半水石膏は水和凝結後の強度が大きく、し
かも製品乾燥工程でのエネルギーが節約できる等
の利点を有するので、新しい建策基材として有望
視されたおり、このα型半水石膏は、二水石膏を
焼成することによつて得られる。この焼成方法と
して、湿式法と乾式法とあるが、湿式法による
と、半水石膏の水和反応及び脱水反応を抑える形
で付着水分のみを蒸発させる蒸発工程を余分に必
要とするため、乾式法の方が望ましい。ところ
で、これまでの乾式法によると、二水石膏をオー
トクレーブに入れて飽和水蒸気で加熱して焼成し
ていた。

発明が解決しようとする問題点 上記従来の乾式法によると、バツチ式のため作
業能率および熱効率が悪い。焼石膏の品質にバラ
ツキがある。装置の大型化の限界により処理量が
少ないという問題があつた。

そこで、本発明は上記問題を解消し得る石膏の
焼成方法を提供することを目的とする。

問題点を解決するための手段 上記問題を解消するための、本発明の石膏の焼
成方法は、回転キルン本体内に原料石膏を投入す
ると共に水蒸気を導入して加圧下で焼成する際
に、キルン本体の供給口に接続された２個の供給
槽内に原料石膏を大気圧下で供給した後、各供給
槽内をキルン本体内圧力と同一圧力に加圧した状
態で原料石膏を２個の供給槽から交互に排出して
キルン本体内に連続供給し、供給側では飽和水蒸
気圧とほぼ等しい温度に保ち、排出側では飽和水
蒸気圧の温度より高い過熱状態下にして一定時間
保持し、付着水分の蒸発と結晶水を脱水してα型
半水石膏を主成分とする石膏に焼成すると共に、
キルン本体の排出口に接続された２個の排出槽内
圧力をキルン本体内圧力（５Kg／cm²Ｇ以下）と同
一圧力に加圧した状態で焼成石膏を連続的に排出
槽内に排出した後、排出槽内圧力を大気圧しして
焼成石膏を両排出槽から交互に排出する方法であ
る。

作 用 上記の石膏の焼成方法によると、それぞれ２個
の供給槽及び排出槽内圧力をキルン本体内圧力と
同一圧力に加圧した状態で、原料石膏及び焼成石
膏の給排出を連続的に行なうようにしたので、従
来のバツチ式の場合に比べて作業能率及び熱効率
が良いと共に焼石膏の品質が均一であり、また処
理量（焼成量）を大幅に増加させることができる
等の利点がある。

実施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づき説明す
る。第１図において１は原料石膏（二水石膏を主
成分とする粉体状の石膏に添加剤を添加したも
の）を焼成して焼成石膏（α型半水石膏）を得る
ためのロータリキルン（回転乾燥機）、２は加圧
状態でロータリキルン１に原料石膏（以下、原料
という）を供給するための供給装置、３はロータ
リキルン１からの焼成石膏（以下、焼成物とい
う）を加圧状態で排出する排出装置である。上記
供給及び排出装置２，３は後で詳しく説明する。
上記ロータリキルン１は、円筒状のキルン本体１
１と、このキルン本体１１を回転させる回転駆動
装置（図示せず）と、キルン本体１１前端に接続
配置されると共に原料の供給口１２が形成された
原料供給用の前部スクリユウコンベア１３と、キ
ルン本体１１後端に接続配置されると共に、中間
部に水蒸気供給口１４及びドレン排出口１５を、
後端部に焼成物の排出口１６が形成された焼成物
排出用の後部スクリユウコンベア１７とから構成
されている。３１はロータリキルン１から出た排
ガスから粉塵を除去するための集塵装置で、集塵
機３２と、集塵機３２の下部に接続されたダスト
チヤンバー３３と、このダストチヤンバー３３の
下部に接続されて、ダストをダスト移送ライン３
４を介して後述する搬出コンベア１１３に移送す
るための移送用スクリユウコンベア３５とから構
成されている。

次に、原料供給装置１１を第２図に基づき詳し
く説明する。５１Ａ及び５１Ｂは原料を一時的に
貯える第２供給槽で、それぞれ原料供給口５２
Ａ，５２Ｂ、原料排出口５３Ａ，５３Ｂ、気体供
給口５４Ａ，５４Ｂ、フイルター５５Ａ，５５Ｂ
部分に対応して配置された気体排出口５６Ａ，５
６Ｂ及びガス抜き口５７Ａ，５７Ｂが形成された
円筒形の槽本体５８Ａ，５８Ｂと、この槽本体５
８Ａ，５８Ｂ内底部に配置された原料攪拌用の攪
拌羽根５９Ａ，５９Ｂと、槽本体５８Ａ，５８Ｂ
上面に配置されて上記攪拌羽根５９Ａ，５９Ｂを
回転させるモータ６０Ａ，６０Ｂとから構成され
ている。なお、上記各供給槽５１Ａ，５１Ｂの槽
本体５８Ａ，５８Ｂには保温用のジヤケツト（図
示せず）が設けられている。６１は投入コンベア
６２からの原料Ａを第１、第２供給槽５１Ａ，５
１Ｂに交互に供給するため第１スクリユウコンベ
アで、中央に一個の供給口６３、両端部に２個の
排出口６４Ａ，６４Ｂが形成されている。そし
て、上記各排出口６４Ａ，６４Ｂとそれに対応す
る各供給槽５１Ａ，５１Ｂの原料供給口５２Ａ，
５２Ｂとは、第１、第２開閉弁６５Ａ，６５Ｂを
有する第１、第２供給ライン６６Ａ，６６Ｂによ
つて接続されている。６７は各供給槽５１Ａ，５
１Ｂからの原料を連続的にロータリキルン１の前
部スクリユウコンベア１３に供給するための第２
スクリユウコンベアで、両端部に２個の供給口６
８Ａ，６８Ｂ、中央に１個の排出口６９が形成さ
れている。そして上記各供給口６８Ａ，６８Ｂと
各供給槽５１Ａ，５１Ｂの排出口５３Ａ，５３Ｂ
とは、上流から下流に向つて順に原料の供給を調
整する第１、第２調整弁（弁体７１Ａ，７１Ｂと
これを揺動させるシリンダー装置７２Ａ，７２Ｂ
とから構成されている）７０Ａ，７０Ｂと、第
１、第２中間スクリユウコンベア７３Ａ，７３Ｂ
と、第３、第４開閉弁７４Ａ，７４Ｂとを有する
第３及び第４供給ライン７５Ａ，７５Ｂによつて
接続されている。７７Ａ，７７Ｂは途中第５、第
６開閉弁７６Ａ，７６Ｂを有する第１、第２排ガ
スラインで、排ガスＢを各供給槽５１Ａ，５１Ｂ
の気体供給口５４Ａ，５４Ｂに供給するためのも
のである。７９Ａ，７９Ｂは途中に第７、第８開
閉弁７８Ａ，７８Ｂを有する第１、第２水蒸気ラ
インで、水蒸気Ｃを上記気体供給口５４Ａ，５４
Ｂに供給するためのものである。８３Ａ，８３Ｂ
は途中に第９、第10開閉弁８０Ａ，８０Ｂを有す
る第１、第２気体排出ラインで、上記気体排出口
５６Ａ，５６Ｂを介して供給槽５１Ａ，５１Ｂ内
の気体を煙突８１に連通された煙突ライン８２に
排出するためのものである。８５Ａ，８５Ｂは途
中に第11、第12開閉弁８４Ａ，８４Ｂを有する第
１、第２ガス抜きラインで、それぞれ一端が各ガ
ス抜き口５７Ａ，５７Ｂに接続されると共に他端
が上記第１、第２気体排出ライン８３Ａ，８３Ｂ
に接続されている。８７Ａ，８７Ｂは途中に第１
３，第１４開閉弁８６Ａ，８６Ｂを有する第１、
第２逆洗ラインで、第１又は第２水蒸気ライン７
９Ａ，７９Ｂライン中の水蒸気を、第１、第２気
体排出ライン８３Ａ，８３Ｂの一部を介して気体
排出口５６Ａ，５６Ｂに導くためのものである。
上記各供給槽５１Ａ，５１Ｂ内に配置された攪拌
羽根５９Ａ，５９Ｂは、槽内の原料を均一になら
して定量排出を目的とすると共に、槽内が昇圧さ
れた際、熱を内部まで均一に伝達するもので特殊
な形状にされている。また、各供給槽５１Ａ，５
１Ｂをジヤケツト構造としたのは、原料が槽壁に
固着するのを防止するためである。また、上記各
スクリユウコンベア６７，７３Ａ，７３Ｂ及び前
記スクリユウコンベア４も同様の目的でジヤケツ
ト構造とされると共に、第２スクリユウコンベア
６７は両方の供給槽５１Ａ，５１Ｂからの原料を
中央から排出するため、スクリユウ羽根自体は互
いに半分づつ逆方向に形成されている。なお、８
８は第２スクリユウコンベア６７と前部スクリユ
ウコンベア１３とを接続する接続ラインである。
また、上記各排ガスライン７７Ａ，７７Ｂは一本
にされ、集塵機３２の頂部に接続されている。

次に、焼成物の排出装置３を第３図に基づき詳
しく説明する。１００Ａ及び１００Ｂは焼成物Ｄ
を一時的に貯える第１及び第２排出槽で、それぞ
れ焼成物供給口１０１Ａ，１０１Ｂ、焼成物排出
口１０２Ａ，１０２Ｂ、気体供給口１０３Ａ，１
０３Ｂ及びフイルター１０４Ａ，１０４Ｂ部分に
対応して配置された気体排出口１０５Ａ，１０５
Ｂが形成された槽本体１０６Ａ，１０６Ｂと、こ
の槽本体１０６Ａ，１０６Ｂ内底部に配置された
焼成物取出用の第１、第２取出用スクリユウ羽根
１０７Ａ，１０７Ｂと、このスクリユウ羽根１０
７Ａ，１０７Ｂを回転させるモータ（図示せず）
とから構成されている。１０８は後部スクリユウ
コンベア１６からの焼成物を第１、第２排出槽１
００Ａ，１００Ｂに交互に供給するための第３ス
クリユウコンベアで、中央に一個の供給口１０
９、両端部に２個の排出口１１０Ａ，１１０Ｂが
形成されている。そして、上記各排出口１１０
Ａ，１１０Ｂとそれに対応する各排出槽１００
Ａ，１００Ｂの焼成物供給口１０１Ａ，１０１Ｂ
とは、第15、第16開閉弁１１１Ａ、１１１Ｂを有
する第１、第２排出ライン１１２Ａ，１１２Ｂに
よつて接続されている。１１３は各排出槽１００
Ａ，１００Ｂからの焼成物を連続的にホツパー１
１４を送るための搬出コンベアで、２個の供給口
１１５Ａ，１１５Ｂと１個の補助供給口１１５Ｃ
が設けられたケーシング本体１１６と、ケーシン
グ本体１１６内に配置されたスクリユウ羽根１１
６ａと、このスクリユウ羽根の駆動装置（図示し
ないが例えばモータ）とから構成されている。そ
して、上記各供給口１１５Ａ，１１５Ｂと各排出
槽１００Ａ，１００Ｂの排出口１０２Ａ，１０２
Ｂとは、第17、第18開閉弁１１７Ａ，１１７Ｂを
有する第３及び第４排出ライン１１８Ａ，１１８
Ｂによつて接続されている。１１９Ａ，１１９Ｂ
は途中に第19、第20開閉弁１２０Ａ，１２０Ｂを
有する第１、第２温風ラインで、温風Ｅを各排出
槽１００Ａ，１００Ｂの気体供給口１０３Ａ，１
０３Ｂに供給するためのものである。１２１Ａ，
１２１Ｂは途中に第21、第22開閉弁１２２Ａ，１
２２Ｂを有する第３、第４気体排出ラインで、上
記排出槽１００Ａ，１００Ｂの気体を煙突８１に
連通された煙突ライン８２に排出するためのもの
である。１２３Ａ，１２３Ｂは途中に第23、第24
開閉弁１２４Ａ，１２４Ｂを有する第３、第４ガ
ス抜きラインで、一端が各排出槽１００Ａ，１０
０Ｂの各気体供給口１０３Ａ，１０３Ｂに連通さ
れると共に他端が煙突ライン８２にそれぞれ接続
されている。１２５Ａ，１２５Ｂは途中に第25、
第26開閉弁１２６Ａ，１２６Ｂを有する第３、第
４逆洗ラインで、第１、第２温風ライン１１９
Ａ，１１９Ｂ内の温風を第３、第４気体排出ライ
ン１２１Ａ，１２１Ｂの一部を介して気体排出口
１０５Ａ，１０５Ｂに導くためのものである。な
お、焼成物（半水石膏）は水分を吸収すると、単
時間のうちに水和硬化して二水石膏に戻り固着す
る性質を持つている。従つて、加圧水蒸気の雰囲
気になる供給槽、スクリユウコンベア、排出槽内
面では水蒸気がドレン化して、焼成物が内面に固
着する虞れが生じる。このため各コンベア１６，
１０８，１１３及び各排出槽１００Ａ，１００Ｂ
は保温のための耐圧ジヤケツト構造にされてい
る。

次に、原料の供給手順を項目順に説明する。

第１供給槽５１Ａへの原料供給準備として、
第１開閉弁６５Ａが開かれる。（この時、第１
供給槽５１Ａ内は大気圧に降圧されている。） 第１スクリユウコンベア６１が正転されて原
料が第１供給槽５１Ａ内に供給される。

第１供給槽５１Ａ内に原料が所定量投入され
ると、第１開閉弁６５Ａが閉じられる。

第５開閉弁７６Ａが開かれて集塵機３２から
の排ガスが第１供給槽５１Ａ内に導かれて１次
昇圧がされる。１次昇圧完了後、第５開閉弁７
６Ａが閉じられる。

第13開閉弁８６Ａが開かれ水蒸気がフイルタ
ー５５Ａに供給されて２次昇圧がされると共に
逆洗浄が成される。これは前回の降圧作業時に
付着したダストを取除くためである。２次昇圧
完了後、第13開閉弁８６Ａが閉じられる。

第７開閉弁７８Ａが開かれ水蒸気が供給され
て３次昇圧が成される。この場合、昇圧時間を
短縮するために、フイルター５５Ａを通さずに
直接に槽内に供給される。３次昇圧完了後、第
７開閉弁７８Ａが閉じられる。この時、槽内の
圧力はロータリキルン１内の圧力と同圧又は少
し高い圧力になつている。

第３開閉弁７４Ａが開かれ、且つ第１中間ス
クリユウコンベア７３Ａが駆動されると共に第
１調整弁７０Ａが断続的に開閉される。従つ
て、攪拌羽根５９Ａによつて第３供給ライン７
５Ａに落下された原料は、第１中間スクリユウ
コンベア７３Ａを介して第２スクリユウコンベ
ア６７に導かれ、そして前部スクリユウコンベ
ア４よりキルン本体２内に供給される。

この後、第１供給槽５１Ａ内の降圧が行なわ
れるが、この降圧時に、上記と同じ手順で昇圧
された第２供給槽５１Ｂ内から原料が、第４供
給ライン７５Ｂ及び第２スクリユウコンベア６
７を介してキルン本体２内に供給される。従つ
て、キルン本体２内と同一又は少し高い圧力状
態で、２つの供給槽５１Ａ，５１Ｂから原料が
交互に連続的にキルン本体２内に供給される。

第１供給槽５１Ａからの原料の供給が済む
と、第１調整弁７０Ａを閉じ、第１中間スクリ
ユウコンベア７３Ａを停止する。そして、その
後第３開閉弁７４Ａを閉じる。このように、第
１中間スクリユウコンベア７３Ａを停止させた
後、第３開閉弁７４Ａを閉じるので、原料が弁
の摺動面に堆積していない状態の時に、弁が作
動するので、弁自体に摩耗が生じない。

続いて降圧手順について説明する。

第９開閉弁８０Ａを開き、第１供給槽５１Ａ
内の気体をフイルター５５Ａを通して排出し、
１次降圧を行なう。勿論、フイルター５５Ａを
通すのは、ダスト補修の目的である。１次降圧
完了後、第９開閉弁８０Ａを閉じる。

第11開閉弁８４Ａを開き、２次降圧を行な
う。この場合、フイルター５５Ａを通さないの
は、槽内の圧力が１次降圧によりダストが飛散
しない程度まで降下されていること及び降圧時
間短縮のためである。２次降圧が完了すると、
第11開閉弁８４Ａが閉じられる。以上の手順に
より降圧が完了する。この後、再び第１開閉弁
６５Ａが開かれると共に第１スクリユウコンベ
ア６１が逆転から正転にされて第２供給槽５１
Ｂに原料を供給していたのが第１供給槽５１Ａ
に供給され、以下上記手順が繰返される。

上記のように、前部スクリユウコンベア１３を
介してキルン本体１１内に供給された原料は、圧
力下で水蒸気により焼成され、後述する手順によ
り排出される。なお、キルン本体１１内の圧力は
ゲージ圧で５Kg／cm²以下とされ、α型半水石膏に
要求される品質に応じて選択される。通常の場合
は略３Kg／cm²以下で安定してα型半水石膏が得ら
れる。また、キルン本体１１内の温度及び圧力
は、２水石膏供給側で飽和蒸気圧温度に近く、α
型半水石膏となつた排出側では供給側の温度より
高い傾向を示すようにコントロールされる。ま
た、キルン本体１１内の圧力をコントロールする
ために、過剰の水蒸気を排出する位置は、原料石
膏供給側からの排出も可能であるが、操作上及び
α型半水石膏側の圧力をコントロールする方がよ
いため、排出側がよい。なお、圧力不足により、
水蒸気をキルン本体１１内に供給する位置は、逆
に２水石膏供給側がよい。

次に、焼成物の排出手順を項目順に説明する。

第１排出槽１００Ａへの焼成物排出準備とし
て、第15開閉弁１１１Ａが開かれる（この時、
第１排出槽１００Ａ内はキルン本体１１内圧力
と同一又は少し低い圧力に昇圧されている。）。

第３スクリユウコンベア１０８が正転されて
焼成物が第１排出槽１００Ａ内に排出される。

第１排出槽１００Ａ内に焼成物が所定量投入
されると、第15開閉弁１１１Ａが閉じられる。

第21開閉弁１２２Ａを開きフイルター１０４
Ａを通して第１排出槽１００Ａ内の気体を排出
して、１次降圧を行なう。勿論、フイルター１
０４Ａを通すのは、ダスト捕集の目的である。
１次降圧完了後、第21開閉弁１２２Ａを閉じ
る。

第23開閉弁１２４Ａを開き２次降圧を行な
う。この場合、フイルター１０４Ａを通さない
のは、槽内の圧力が１次降圧によりダストが飛
散しない程度まで降下されていること及び降圧
時間短縮のためである。２次降圧が完了する
と、第23開閉弁１２４Ａが閉じられる。以上の
手順により降圧が完了する。

次に、第17開閉弁１１７Ａを開いた後、第１
取出用スクリユウ羽根１０７Ａを回転させて、
槽内の焼成物を第３排出ライン１１８Ａを介し
て排出コンベア１１３に排出する。

この後、第１排出槽１００Ａ内の昇圧が行な
われるが、この昇圧時に、上記と同じ手順で降
圧された第２排出槽１００Ｂ内から焼成物が、
第４排出ライン１１８Ｂを介して搬出コンベア
１１３に排出される。従つて、キルン本体１１
内と同一圧力状態で、２つの排出槽１００Ａ，
１００Ｂから焼成物が交互に連続的に排出され
る。

続いて昇圧手順について説明する。

第17開閉弁１１７Ａを閉じた後、第25開閉弁
１２６Ａを開き、熱風をフイルター１０４Ａを
介して第１排出槽１００Ａ内に供給して１次昇
圧を行なう。この時、フイルター１０４Ａは逆
洗されて、１次降圧時に付着したダストが落と
される。１次昇圧完了後、第25開閉弁１２６Ａ
が閉じられる。

第23開閉弁１２４Ａを開き、２次降圧が行な
われる。この場合、昇圧時間を短縮するため
に、フイルター１０４Ａを通さずに直接に槽内
に供給される。２次昇圧完了後。第23開閉弁１
２４Ａが閉じられる。この時、槽内の圧力は、
キルン本体１１内の圧力と同一又は少し低い圧
力になつている。この後、再び第15開閉弁１１
１Ａが開かれると共に第３スクリユウコンベア
１０８が逆転から正転にされて第２排出槽１０
０Ｂに焼成物を排出していたのが第１排出槽１
００Ａに供給され、以下上記手順が繰返して行
なわれ、排出が行なわれる。また、ロータリキ
ルン１からの排ガスは集塵機３２に送られてこ
こでダストが除去された後、煙突８１及び各排
ガスライン７７Ａ，７７Ｂに送られる。更に集
塵機３２からのダストは、ダスト移送ライン３
４及び搬出コンベア１１３を介してホツパー１
１４に送られる。

なお、上記各コンベア、開閉弁等は、あらかじ
め電気的に設定されたシーケンスにより正確にコ
ントロールされている。

ところで、上記実施例において、投入される石
膏は、付着水分が25％以下の副産化学石膏及び天
然石膏の粉体状とする。付着水分が25％より多い
場合は予備乾燥により25％以下にして使用する。
また、石膏には媒晶剤が添加されるが、この媒晶
剤としては、クエン酸ナトリウム、コハク酸ナト
リウム等カルボキシル基を有する有機酸塩と、ア
スパラギン酸ナトリウム、グルタミン酸ナトリウ
ムアミノ基を有する有機酸塩と、ガスクトース、
マンノース等の炭水化物と、硫酸アルミニユウ
ム、硫酸第２鉄等の無機塩類等があり、これらは
α型半水石膏に要求される品質に応じて焼成石膏
の０〜５％の範囲内で選択できる。

発明の効果 上記本発明の石膏の焼成方法によると、それぞ
れ２個の供給槽及び排出槽内圧力をキルン本体内
圧力と同一圧力に加圧した状態で、原料石膏及び
焼成石膏の給排出を連続的に行なうようにしたの
で、作業能率および熱効率が良いと共に焼石膏の
品質が均一であり、また従来のバツチ式の場合に
比べて、処理量（焼成量）を大幅に増加させるこ
とができる等の利点がある。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示すもので、第１図
は全体構成図、第２図は供給装置の構成図、第３
図は排出装置の構成図である。 １……ロータリキルン（回転乾燥機）、２……
供給装置、３……排出装置、１１……キルン本
体、１２……供給口、１３……前部スクリユウコ
ンベア、１６……排出口、１７……後部スクリユ
ウコンベア、５１Ａ……第１供給槽、５１Ｂ……
第２供給槽、５２Ａ，５２Ｂ……原料供給口、５
３Ａ，５３Ｂ……原料排出口、５４Ａ，５４Ｂ…
…気体供給口、５６Ａ，５６Ｂ……気体排出口、
５９Ａ，５９Ｂ……攪拌羽根、６１……第１スク
リユウコンベア、６３……供給口、６４Ａ，６４
Ｂ……排出口、６５Ａ……第１開閉弁、６５Ｂ…
…第２開閉弁、６６Ａ……第１供給ライン、６６
Ｂ……第２供給ライン、６７……第２スクリユウ
コンベア、６９……排出口、７３Ａ……第１中間
スクリユウコンベア、７３Ｂ……第２スクリユウ
コンベア、７４Ａ……第３開閉弁、７４Ｂ……第
４開閉弁、７５Ａ……第３供給ライン、７５Ｂ…
…第４供給ライン、１００Ａ……第１排出槽、１
００Ｂ……第２排出槽、１０１Ａ，１０１Ｂ……
焼成物供給口、１０２Ａ，１０２Ｂ……焼成物排
出口、１０３Ａ，１０３Ｂ……気体供給口、１０
５Ａ，１０５Ｂ……気体排出口、１０７Ａ，１０
７Ｂ……スクリユウ羽根、１０８……第３スクリ
ユウコンベア、１１１Ａ……第15開閉弁、１１１
Ｂ……第１６開閉弁、１１２Ａ……第１排出ライ
ン、１１２Ｂ……第２排出ライン、１１３……搬
出コンベア、１１７Ａ……第17開閉弁、１１７Ｂ
……第18開閉弁、１１８Ａ……第３排出ライン、
１１８Ｂ……第４排出ライン。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 回転乾燥機のキルン本体内に原料石膏で投入
   すると共に水蒸気を導入して加圧下で焼成する際
   に、キルン本体の供給口に接続された２個の供給
   槽内に原料石膏を大気圧下で供給した後、各供給
   槽内をキルン本体内圧力を同一圧力に加圧した状
   態で原料石膏を２個の供給槽から交互に排出して
   キルン本体内に連続供給すると共に、キルン本体
   の排出口に接続された２個の排出槽内圧力をキル
   ン本体内圧力と同一圧力に加圧した状態で焼成石
   膏を連続的に排出槽内に排出した後、排出槽内圧
   力を大気圧にして焼成石膏を両排出槽から交互に
   排出することを特徴とする石膏の焼成方法。