JPH0554407B2 - - Google Patents
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- JPH0554407B2 JPH0554407B2 JP29699085A JP29699085A JPH0554407B2 JP H0554407 B2 JPH0554407 B2 JP H0554407B2 JP 29699085 A JP29699085 A JP 29699085A JP 29699085 A JP29699085 A JP 29699085A JP H0554407 B2 JPH0554407 B2 JP H0554407B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- supply
- powder
- screw conveyor
- valve
- port
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Preparation Of Clay, And Manufacture Of Mixtures Containing Clay Or Cement (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は例えば原料石膏を圧力下で回転乾燥機
に連続的に供給する供給装置に関する。
に連続的に供給する供給装置に関する。
従来の技術
α型半水石膏は水和凝結後の強度が大きく、し
かも製品乾燥工程でのエネルギーが節約できる等
の利点を有するので、新しい建築基材として有望
視されており、このα型半水石膏は二水石膏を焼
成することによつて得られる。この場合、湿式法
と乾式法とがあるが、湿式法によると、半水石膏
の水和反応及び脱水反応を抑える形で付着水分を
蒸発させる蒸発工程を余分に必要とするため、乾
式方の法が望ましい。しかし、乾式法の場合、二
水石膏を回転乾燥機のキルン本体内に投入し、飽
和水蒸気により加熱してしかも圧力下で焼成が成
されていた。ところで、従来、圧力下のキルン本
体内に石膏原料を投入する場合、粉体供給用の開
閉弁と圧力遮断弁とを複数個直列に配置し、キル
ン本体内の圧力が逃げないように上記各弁が順序
よく操作されていた。
かも製品乾燥工程でのエネルギーが節約できる等
の利点を有するので、新しい建築基材として有望
視されており、このα型半水石膏は二水石膏を焼
成することによつて得られる。この場合、湿式法
と乾式法とがあるが、湿式法によると、半水石膏
の水和反応及び脱水反応を抑える形で付着水分を
蒸発させる蒸発工程を余分に必要とするため、乾
式方の法が望ましい。しかし、乾式法の場合、二
水石膏を回転乾燥機のキルン本体内に投入し、飽
和水蒸気により加熱してしかも圧力下で焼成が成
されていた。ところで、従来、圧力下のキルン本
体内に石膏原料を投入する場合、粉体供給用の開
閉弁と圧力遮断弁とを複数個直列に配置し、キル
ン本体内の圧力が逃げないように上記各弁が順序
よく操作されていた。
発明が解決しようとする問題点
上記従来の原料石膏の投入の仕方によると、各
弁を順次切替えながら原料石膏を供給していくた
め、どうしてもバツチ式供給となり、多量の原料
石膏を処理し得ないという問題があつた。また原
料石膏の供給停止は直接開閉弁により行なわれる
ため、弁体の摺動面が短期間内に摩耗すると共に
原料石膏が固着して弁体自体の動きが悪くなると
いう問題があつた。
弁を順次切替えながら原料石膏を供給していくた
め、どうしてもバツチ式供給となり、多量の原料
石膏を処理し得ないという問題があつた。また原
料石膏の供給停止は直接開閉弁により行なわれる
ため、弁体の摺動面が短期間内に摩耗すると共に
原料石膏が固着して弁体自体の動きが悪くなると
いう問題があつた。
そこで、本発明は上記問題点を解消し得る粉体
供給装置を提供することを目的とする。
供給装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解消するため、本発明の粉体供給
装置は、粉体供給口、粉体排出口、気体供給口、
気体排出口及び内部に攪拌羽根を有する第1及び
第2供給槽と、粉体供給口及び2個の粉体排出口
を有して上記第1及び第2供給槽に粉体を交互に
供給する第1スクリユウコンベアと、2個の粉体
供給口及び1個の粉体排出口を有して上記第1及
び第2供給槽から交互に排出された粉体を、連続
的に回転乾燥機に供給する第2スクリユウコンベ
アと、第1スクリユウコンベアの各粉体排出口と
それに対応する各供給槽の粉体供給口とをそれぞ
れ接続すると共に途中に第1及び第2開閉弁を有
する第1及び第2供給ラインと、上記第1及び第
2供給槽の各粉体排出口と第2スクリユウコンベ
アの各粉体供給口とを接続すると共に途中に第1
及び第2中間スクリユウコンベア並びに第3及び
第4開閉弁を有する第3及び第4供給ラインとか
ら構成したものである。
装置は、粉体供給口、粉体排出口、気体供給口、
気体排出口及び内部に攪拌羽根を有する第1及び
第2供給槽と、粉体供給口及び2個の粉体排出口
を有して上記第1及び第2供給槽に粉体を交互に
供給する第1スクリユウコンベアと、2個の粉体
供給口及び1個の粉体排出口を有して上記第1及
び第2供給槽から交互に排出された粉体を、連続
的に回転乾燥機に供給する第2スクリユウコンベ
アと、第1スクリユウコンベアの各粉体排出口と
それに対応する各供給槽の粉体供給口とをそれぞ
れ接続すると共に途中に第1及び第2開閉弁を有
する第1及び第2供給ラインと、上記第1及び第
2供給槽の各粉体排出口と第2スクリユウコンベ
アの各粉体供給口とを接続すると共に途中に第1
及び第2中間スクリユウコンベア並びに第3及び
第4開閉弁を有する第3及び第4供給ラインとか
ら構成したものである。
作 用
上記構成において、粉体は2個の供給槽から圧
力下で交互に連続的に排出される。即ち、第1ス
クリユウコンベアにより、例えば第1供給ライン
を介して第1供給槽内に粉体が投入された後、気
体供給口より所定圧力の気体が導入されて槽内が
昇圧される。次に、第1供給ラインの第1開閉弁
を閉じた後、第3供給ラインの第3開閉弁を開く
と共に第1中間スクリユウコンベアを駆動して第
1供給槽内の粉体を、常時運転されている第2ス
クリユウコンベアに供給し、そしてこの第2スク
リユウコンベアより加圧水蒸気の雰囲気で運転さ
れている回転乾燥機に供給される。この第1供給
槽からの粉体供給が済むと、上記粉体供給時に第
2供給槽内に投入された粉体が、上記同様に、第
2、第4供給ライン及び第2スクリユウコンベア
を介して回転乾燥機に供給され、従つて圧力下に
おいて、粉体を両供給槽から交互に連続的に供給
することができる。
力下で交互に連続的に排出される。即ち、第1ス
クリユウコンベアにより、例えば第1供給ライン
を介して第1供給槽内に粉体が投入された後、気
体供給口より所定圧力の気体が導入されて槽内が
昇圧される。次に、第1供給ラインの第1開閉弁
を閉じた後、第3供給ラインの第3開閉弁を開く
と共に第1中間スクリユウコンベアを駆動して第
1供給槽内の粉体を、常時運転されている第2ス
クリユウコンベアに供給し、そしてこの第2スク
リユウコンベアより加圧水蒸気の雰囲気で運転さ
れている回転乾燥機に供給される。この第1供給
槽からの粉体供給が済むと、上記粉体供給時に第
2供給槽内に投入された粉体が、上記同様に、第
2、第4供給ライン及び第2スクリユウコンベア
を介して回転乾燥機に供給され、従つて圧力下に
おいて、粉体を両供給槽から交互に連続的に供給
することができる。
実施例
以下、本発明の一実施例を図面に基づき説明す
る。まず、本発明の供給装置が使用される石膏の
焼成設備全体を第2図に基づき概略的に説明す
る。1は粉体の一例である原料石膏(二水石膏)
を焼成して焼成石膏(α型半水石膏)を得るため
のロータリキルン(回転乾燥機)で、円筒状のキ
ルン本体2と、このキルン本体2を回転させる回
転駆動装置(図示せず)と、キルン本体2前端に
接続配置されると共に前端に原料石膏(以下、原
料という)供給口3が形成された原料供給用の前
部スクリユウコンベア4と、キルン本体2後端に
接続配置されると共に、中間部に水蒸気供給口5
及びドレン排出口6を、後端部に焼成石膏(以
下、焼成物という)排出口7が形成された焼成物
排出用の後部スクリユウコンベア8とから焼成さ
れている。11は上記ロータリキルン1側の前部
スクリユウコンベア4に原料を供給するための本
発明に係る粉体供給装置で、後で詳細に説明す
る。21は上記ロータリキルン1の後部スクリユ
ウコンベア8から排出された焼成物を所定のホツ
パー22に排出するための焼成物排出装置で、排
出スクリユウコンベア23と、この2個の排出口
24A,24Bから排出された焼成物を貯える2
個の排出槽25A,25Bと、これら排出槽25
A,25Bから交互に連続的に排出された焼成物
を上記ホツパー22に搬出する搬出コンベア26
とから構成されている。31はロータリキルン1
から出た排ガスから粉塵を除去するための集塵装
置で、集塵機32と、集塵機32の下部に接続さ
れたダストチヤンバー33と、このダストチヤン
バー33の下部に接続されて、ダストをダスト移
送ライン34を介して上記搬出コンベア26に移
送するための移送用スクリユウコンベア35とか
ら構成されている。
る。まず、本発明の供給装置が使用される石膏の
焼成設備全体を第2図に基づき概略的に説明す
る。1は粉体の一例である原料石膏(二水石膏)
を焼成して焼成石膏(α型半水石膏)を得るため
のロータリキルン(回転乾燥機)で、円筒状のキ
ルン本体2と、このキルン本体2を回転させる回
転駆動装置(図示せず)と、キルン本体2前端に
接続配置されると共に前端に原料石膏(以下、原
料という)供給口3が形成された原料供給用の前
部スクリユウコンベア4と、キルン本体2後端に
接続配置されると共に、中間部に水蒸気供給口5
及びドレン排出口6を、後端部に焼成石膏(以
下、焼成物という)排出口7が形成された焼成物
排出用の後部スクリユウコンベア8とから焼成さ
れている。11は上記ロータリキルン1側の前部
スクリユウコンベア4に原料を供給するための本
発明に係る粉体供給装置で、後で詳細に説明す
る。21は上記ロータリキルン1の後部スクリユ
ウコンベア8から排出された焼成物を所定のホツ
パー22に排出するための焼成物排出装置で、排
出スクリユウコンベア23と、この2個の排出口
24A,24Bから排出された焼成物を貯える2
個の排出槽25A,25Bと、これら排出槽25
A,25Bから交互に連続的に排出された焼成物
を上記ホツパー22に搬出する搬出コンベア26
とから構成されている。31はロータリキルン1
から出た排ガスから粉塵を除去するための集塵装
置で、集塵機32と、集塵機32の下部に接続さ
れたダストチヤンバー33と、このダストチヤン
バー33の下部に接続されて、ダストをダスト移
送ライン34を介して上記搬出コンベア26に移
送するための移送用スクリユウコンベア35とか
ら構成されている。
次に、原料(粉体)供給装置11を第1図に基
づき詳しく説明する。51A及び51Bは原料を
一時的に貯える第1及び第2供給槽で、それぞれ
原料供給口52A,52B、原料排出口53A,
53B、気体供給口54A,54B、フイルター
55A,55B部分に対応して配置された気体排
出口56A,56B及びガス抜き口57A,57
Bが形成された円筒形の槽本体58A,58B
と、この槽本体58A,58B内底部に配置され
た原料攪拌用の攪拌羽根59A,59Bと、槽本
体58A,58B上面に配置されて上記攪拌羽根
59A,59Bを回転させるモータ60A,60
Bとから構成されている。なお、上記各供給槽5
1A,51Bの槽本体58A,58Bには保温用
のジヤケツト(図示せず)が設けられている。6
1は投入コンベア62からの原料Aを第1、第2
供給槽51A,51Bに交互に供給するための第
1スクリユウコンベアで、中央に一個の供給口6
3、両端部に2個の排出口64A,64Bが形成
されている。そして、上記各排出口64A,64
Bとそれに対応する各供給槽51A,51Bの原
料供給口52A,52Bとは、第1、第2開閉弁
65A,65Bを有する第1、第2供給ライン6
6A,66Bによつて接続されている。67は各
供給槽51A,51Bからの原料を連続的にロー
タリキルン1の前部スクリユウコンベア4に供給
するための第2スクリユウコンベアで、両端部に
2個の供給口68A,68B、中央に1個の排出
口69が形成されている。そして、上記各供給口
68A,68Bと各供給槽51A,51Bの排出
口53A,53Bとは、上流から下流に向つて順
に原料の供給を調整する第1、第2調整弁(弁体
71A,71Bとこれを揺動させるシリンダー装
置72A,72Bとから構成されている)70
A,70Bと第1、第2中間スクリユウコンベア
73A,73Bと、第3、第4開閉弁74A,7
4Bとを有する第3及び第4供給ライン75A,
75Bによつて接続されている。77A,77B
は途中に第5、第6開閉弁76A,76Bを有す
る第1、第2排ガスラインで、排ガスBを各供給
槽51A,51Bの気体供給口54A,54Bに
供給するためのものである。79A,79Bは途
中に第7、第8開閉弁78A,78Bを有する第
1、第2水蒸気ラインで、水蒸気Cを上記気体供
給口54A,54Bに供給するためのものであ
る。83A,83Bは途中に第9、第10開閉弁8
0A,80Bを有する第1、第2気体排出ライン
で、上記気体排出口56A,56Bを介して供給
槽51A,51B内の気体を煙突81に連通され
た煙突ライン82に排出するためのものである。
85A,85Bは途中に第11、第12開閉弁84
A,84Bを有する第1、第2ガス抜きライン
で、それぞれ一端が各ガス抜き口57A,57B
に接続されると共に他端が上記第1、第2気体排
出ライン83A,83Bに接続されている。87
A,87Bは途中に第13、第14開閉弁86A,8
6Bを有する第1、第2逆洗ラインで、第1又は
第2水蒸気ライン79A,79Bライン中の水蒸
気を第1、第2気体排出ライン83A,83Bの
一部を介して気体排出口56A,56Bに導くた
めのものである。
づき詳しく説明する。51A及び51Bは原料を
一時的に貯える第1及び第2供給槽で、それぞれ
原料供給口52A,52B、原料排出口53A,
53B、気体供給口54A,54B、フイルター
55A,55B部分に対応して配置された気体排
出口56A,56B及びガス抜き口57A,57
Bが形成された円筒形の槽本体58A,58B
と、この槽本体58A,58B内底部に配置され
た原料攪拌用の攪拌羽根59A,59Bと、槽本
体58A,58B上面に配置されて上記攪拌羽根
59A,59Bを回転させるモータ60A,60
Bとから構成されている。なお、上記各供給槽5
1A,51Bの槽本体58A,58Bには保温用
のジヤケツト(図示せず)が設けられている。6
1は投入コンベア62からの原料Aを第1、第2
供給槽51A,51Bに交互に供給するための第
1スクリユウコンベアで、中央に一個の供給口6
3、両端部に2個の排出口64A,64Bが形成
されている。そして、上記各排出口64A,64
Bとそれに対応する各供給槽51A,51Bの原
料供給口52A,52Bとは、第1、第2開閉弁
65A,65Bを有する第1、第2供給ライン6
6A,66Bによつて接続されている。67は各
供給槽51A,51Bからの原料を連続的にロー
タリキルン1の前部スクリユウコンベア4に供給
するための第2スクリユウコンベアで、両端部に
2個の供給口68A,68B、中央に1個の排出
口69が形成されている。そして、上記各供給口
68A,68Bと各供給槽51A,51Bの排出
口53A,53Bとは、上流から下流に向つて順
に原料の供給を調整する第1、第2調整弁(弁体
71A,71Bとこれを揺動させるシリンダー装
置72A,72Bとから構成されている)70
A,70Bと第1、第2中間スクリユウコンベア
73A,73Bと、第3、第4開閉弁74A,7
4Bとを有する第3及び第4供給ライン75A,
75Bによつて接続されている。77A,77B
は途中に第5、第6開閉弁76A,76Bを有す
る第1、第2排ガスラインで、排ガスBを各供給
槽51A,51Bの気体供給口54A,54Bに
供給するためのものである。79A,79Bは途
中に第7、第8開閉弁78A,78Bを有する第
1、第2水蒸気ラインで、水蒸気Cを上記気体供
給口54A,54Bに供給するためのものであ
る。83A,83Bは途中に第9、第10開閉弁8
0A,80Bを有する第1、第2気体排出ライン
で、上記気体排出口56A,56Bを介して供給
槽51A,51B内の気体を煙突81に連通され
た煙突ライン82に排出するためのものである。
85A,85Bは途中に第11、第12開閉弁84
A,84Bを有する第1、第2ガス抜きライン
で、それぞれ一端が各ガス抜き口57A,57B
に接続されると共に他端が上記第1、第2気体排
出ライン83A,83Bに接続されている。87
A,87Bは途中に第13、第14開閉弁86A,8
6Bを有する第1、第2逆洗ラインで、第1又は
第2水蒸気ライン79A,79Bライン中の水蒸
気を第1、第2気体排出ライン83A,83Bの
一部を介して気体排出口56A,56Bに導くた
めのものである。
上記各供給槽51A,51B内に配置された攪
拌羽根59A,59Bは、槽内の原料を均一にな
らして定量排出を目的とすると共に、槽内が昇圧
された際、熱を内部まで均一に伝達するもので特
殊な形状にされている。また、各供給槽51A,
51Bをジヤケツト構造としたのは、原料が槽壁
に固着するのを防止するためである。また、上記
各スクリユウコンベア67,73A,73B及び
前部スクリユウコンベア4も同様の目的でジヤケ
ツト構造とされると共に、第2スクリユウコンベ
ア67は両方の供給槽51A,51Bからの原料
を中央から排出するため、スクリユウ羽根自体を
互いに半分づつ逆方向に形成されている。なお、
88は第2スクリユウコンベア67と前部スクリ
ユウコンベア4とを接続する接続ラインである。
また、上記各排ガスライン77A,77Bは一本
にされ、集塵機32の頂部に接続されている。
拌羽根59A,59Bは、槽内の原料を均一にな
らして定量排出を目的とすると共に、槽内が昇圧
された際、熱を内部まで均一に伝達するもので特
殊な形状にされている。また、各供給槽51A,
51Bをジヤケツト構造としたのは、原料が槽壁
に固着するのを防止するためである。また、上記
各スクリユウコンベア67,73A,73B及び
前部スクリユウコンベア4も同様の目的でジヤケ
ツト構造とされると共に、第2スクリユウコンベ
ア67は両方の供給槽51A,51Bからの原料
を中央から排出するため、スクリユウ羽根自体を
互いに半分づつ逆方向に形成されている。なお、
88は第2スクリユウコンベア67と前部スクリ
ユウコンベア4とを接続する接続ラインである。
また、上記各排ガスライン77A,77Bは一本
にされ、集塵機32の頂部に接続されている。
次に、原料の供給手順を項目順に説明する。
第1供給槽51Aへの原料供給準備として、
第1開閉弁65Aが開かれる。(この時、第1
供給槽51A内は大気圧に降圧されている。) 第1スクリユウコンベア61が正転されて原
料が第1供給槽51内に供給される。
第1開閉弁65Aが開かれる。(この時、第1
供給槽51A内は大気圧に降圧されている。) 第1スクリユウコンベア61が正転されて原
料が第1供給槽51内に供給される。
第1供給槽51A内に原料が所定量投入され
ると、第1開閉弁65Aが閉じられる。
ると、第1開閉弁65Aが閉じられる。
第5開閉弁76Aが開かれて集塵機32から
の排ガスが第1供給槽51A内に導かれて1次
昇圧がされる。1次昇圧完了後、第5開閉弁7
6Aが閉じられる。
の排ガスが第1供給槽51A内に導かれて1次
昇圧がされる。1次昇圧完了後、第5開閉弁7
6Aが閉じられる。
第13開閉弁86Aが開かれ水蒸気がフイルタ
ー55Aに供給されて2次昇圧がされると共に
逆洗浄が成される。これは、前回の降圧作業時
に付着したダストを取除くためである。2次昇
圧完了後、第13開閉弁86Aが閉じられる。
ー55Aに供給されて2次昇圧がされると共に
逆洗浄が成される。これは、前回の降圧作業時
に付着したダストを取除くためである。2次昇
圧完了後、第13開閉弁86Aが閉じられる。
第7開閉弁78Aが開かれ水蒸気が供給され
て3次昇圧が成される。この場合、昇圧時間を
短縮するために、フイルター55Aを通さずに
直接に槽内に供給される。3次昇圧完了後、第
7開閉弁78Aが閉じられる。この時、槽内の
圧力はロータリキルン1内の圧力と同圧又は少
し高い圧力になつている。
て3次昇圧が成される。この場合、昇圧時間を
短縮するために、フイルター55Aを通さずに
直接に槽内に供給される。3次昇圧完了後、第
7開閉弁78Aが閉じられる。この時、槽内の
圧力はロータリキルン1内の圧力と同圧又は少
し高い圧力になつている。
第3開閉弁74Aが開かれ、且つ第1中間ス
クリユウコンベア73Aが駆動されると共に第
1調整弁70Aが断続的に開閉される。従つ
て、攪拌羽根59Aによつて第3供給ライン7
5Aに落下された原料は、第1中間スクリユウ
コンベア73Aを介して第2スクリユウコンベ
ア67に導かれ、そして前部スクリユウコンベ
ア4よりキルン本体2内に供給される。
クリユウコンベア73Aが駆動されると共に第
1調整弁70Aが断続的に開閉される。従つ
て、攪拌羽根59Aによつて第3供給ライン7
5Aに落下された原料は、第1中間スクリユウ
コンベア73Aを介して第2スクリユウコンベ
ア67に導かれ、そして前部スクリユウコンベ
ア4よりキルン本体2内に供給される。
この後、第1供給槽51A内の降圧が行なわ
れるが、この降圧時に、上記と同じ手順で昇圧
された第2供給槽51B内から原料が、第4供
給ライン75B及び第2スクリユウコンベア6
7を介してキルン本体2内に供給される。従つ
て、キルン本体2内と同一又は少し高い圧力状
態で、2つの供給槽51A,51Bから原料が
交互に連続的にキルン本体2内に供給される。
れるが、この降圧時に、上記と同じ手順で昇圧
された第2供給槽51B内から原料が、第4供
給ライン75B及び第2スクリユウコンベア6
7を介してキルン本体2内に供給される。従つ
て、キルン本体2内と同一又は少し高い圧力状
態で、2つの供給槽51A,51Bから原料が
交互に連続的にキルン本体2内に供給される。
第1供給槽51からの原料の供給が済むと、
第1調整弁70Aを閉じ、第1中間スクリユウ
コンベア73Aを停止する。そして、その後第
3開閉弁74Aを閉じる。このように、第1中
間スクリユウコンベア73Aを停止させた後、
第3開閉弁74Aを閉じるので、原料が弁の摺
動面に堆積していない状態の時に弁が作動し、
従つて弁自体に摩耗が生じない。勿論、第4開
閉弁74Bについても同様である。
第1調整弁70Aを閉じ、第1中間スクリユウ
コンベア73Aを停止する。そして、その後第
3開閉弁74Aを閉じる。このように、第1中
間スクリユウコンベア73Aを停止させた後、
第3開閉弁74Aを閉じるので、原料が弁の摺
動面に堆積していない状態の時に弁が作動し、
従つて弁自体に摩耗が生じない。勿論、第4開
閉弁74Bについても同様である。
続いて降圧手順について説明する。
第9開閉弁80Aを開き、第1供給槽51A
内の気体をフイルター55Aを通して排出し、
1次降圧を行なう。勿論、フイルター55Aを
通すのは、ダスト捕集の目的である。1次降圧
完了後、第9開閉弁80Aを閉じる。
内の気体をフイルター55Aを通して排出し、
1次降圧を行なう。勿論、フイルター55Aを
通すのは、ダスト捕集の目的である。1次降圧
完了後、第9開閉弁80Aを閉じる。
第11開閉弁84Aを開き、2次降圧を行な
う。この場合、フイルター55Aを通さないの
は、槽内の圧力が1次降圧によりダストが飛散
しない程度まで降下されていること及び降圧時
間短縮のためである。2次降圧が完了すると、
第11開閉弁84Aが閉じられる。以上の手順に
より降圧が完了する。この後、再び第1開閉弁
65Aが開かれると共に第1スクリユウコンベ
ア61が逆転から正転にされて第2供給槽51
Bに原料を供給していたのが第1供給槽51A
に供給され、以下上記手順が繰返される。
う。この場合、フイルター55Aを通さないの
は、槽内の圧力が1次降圧によりダストが飛散
しない程度まで降下されていること及び降圧時
間短縮のためである。2次降圧が完了すると、
第11開閉弁84Aが閉じられる。以上の手順に
より降圧が完了する。この後、再び第1開閉弁
65Aが開かれると共に第1スクリユウコンベ
ア61が逆転から正転にされて第2供給槽51
Bに原料を供給していたのが第1供給槽51A
に供給され、以下上記手順が繰返される。
上記各スクリユウコンベア及び各開閉弁及び調
整弁は、あらかじめ電気的に設定されたシーケン
スにより正確にコントロールされる。
整弁は、あらかじめ電気的に設定されたシーケン
スにより正確にコントロールされる。
なお、ロータリキルン1内に供給された原料
は、圧力下で水蒸気により焼成された後、焼成物
排出装置21より排出される。この排出時におい
ては、上記供給装置11と同様に、2つの排出槽
25A,25Bから交互に焼成物が連続的に排出
される。また、ロータリキルン1からの排ガスは
集塵機32に送られて、ここでダストが除去され
た後、煙突81又は各排ガスライン77A,77
Bに送られる。更に、集塵機32からのダストは
ダスト移送ライン34および搬出コンベア26を
介してホツパー22に送られる。
は、圧力下で水蒸気により焼成された後、焼成物
排出装置21より排出される。この排出時におい
ては、上記供給装置11と同様に、2つの排出槽
25A,25Bから交互に焼成物が連続的に排出
される。また、ロータリキルン1からの排ガスは
集塵機32に送られて、ここでダストが除去され
た後、煙突81又は各排ガスライン77A,77
Bに送られる。更に、集塵機32からのダストは
ダスト移送ライン34および搬出コンベア26を
介してホツパー22に送られる。
発明の効果
上記本発明の構成によると、2個の粉体供給槽
から粉体をスクリユウコンベアを介して交互に取
出すようにしたので、圧力下で粉体を後続の回転
乾燥機に連続的に供給でき、従つて従来のバツチ
式に比べて多量の粉体を供給できる。また、第
3、第4供給ラインに設けられた第3、第4開閉
弁の上手側に第1、第2中間スクリユウコンベア
を設けたので、先に中間スクリユウコンベアを停
止させた後、各開閉弁を閉じるようにすれば、粉
体が残存しない状態で弁体が動くことになり、粉
体による摩耗、噛込み等は生じない。
から粉体をスクリユウコンベアを介して交互に取
出すようにしたので、圧力下で粉体を後続の回転
乾燥機に連続的に供給でき、従つて従来のバツチ
式に比べて多量の粉体を供給できる。また、第
3、第4供給ラインに設けられた第3、第4開閉
弁の上手側に第1、第2中間スクリユウコンベア
を設けたので、先に中間スクリユウコンベアを停
止させた後、各開閉弁を閉じるようにすれば、粉
体が残存しない状態で弁体が動くことになり、粉
体による摩耗、噛込み等は生じない。
図面は本発明の一実施例を示すもので、第1図
は要部の構成を示す図、第2図は全体の構成図で
ある。 1……ロータリキルン(回転乾燥機)、11…
…粉体供給装置、51A……第1供給槽、51B
……第2供給槽、52A,52B……原料供給
口、53A,53B……原料排出口、54A,5
4B……気体供給口、56A,56B……気体排
出口、59A,59B……攪拌羽根、61……第
1スクリユウコンベア、63……供給口、64
A,64B……排出口、65A……第1開閉弁、
65B……第2開閉弁、66A……第1供給ライ
ン、66B……第2供給ライン、67……第2ス
クリユウコンベア、69……排出口、73A……
第1中間スクリユウコンベア、73B……第2中
間スクリユウコンベア、74A……第3開閉弁、
74B……第4開閉弁、75A……第3供給ライ
ン、75B……第4供給ライン。
は要部の構成を示す図、第2図は全体の構成図で
ある。 1……ロータリキルン(回転乾燥機)、11…
…粉体供給装置、51A……第1供給槽、51B
……第2供給槽、52A,52B……原料供給
口、53A,53B……原料排出口、54A,5
4B……気体供給口、56A,56B……気体排
出口、59A,59B……攪拌羽根、61……第
1スクリユウコンベア、63……供給口、64
A,64B……排出口、65A……第1開閉弁、
65B……第2開閉弁、66A……第1供給ライ
ン、66B……第2供給ライン、67……第2ス
クリユウコンベア、69……排出口、73A……
第1中間スクリユウコンベア、73B……第2中
間スクリユウコンベア、74A……第3開閉弁、
74B……第4開閉弁、75A……第3供給ライ
ン、75B……第4供給ライン。
Claims (1)
- 1 粉体供給口、粉体排出口、気体供給口、気体
排出口及び内部に攪拌羽根を有する第1及び第2
供給槽と、粉体供給口及び2個の粉体排出口を有
して上記第1及び第2供給槽に粉体を交互に供給
する第1スクリユウコンベアと、2個の粉体供給
口及び1個の粉体排出口を有して上記第1及び第
2供給槽から交互に排出された粉体を、連続的に
回転乾燥機に供給する第2スクリユウコンベア
と、第1スクリユウコンベアの各粉体排出口とそ
れに対応する各供給槽の粉体供給口とをそれぞれ
接続すると共に途中に第1及び第2開閉弁を有す
る第1及び第2供給ラインと、上記第1及び第2
供給槽の各粉体排出口と第2スクリユウコンベア
の各粉体供給口とを接続すると共に途中に第1及
び第2中間スクリユウコンベア並びに第3及び第
4開閉弁を有する第3及び第4供給ラインとから
構成したことを特徴とする粉体供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29699085A JPS62152812A (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 粉体供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29699085A JPS62152812A (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 粉体供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62152812A JPS62152812A (ja) | 1987-07-07 |
| JPH0554407B2 true JPH0554407B2 (ja) | 1993-08-12 |
Family
ID=17840821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29699085A Granted JPS62152812A (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 粉体供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62152812A (ja) |
-
1985
- 1985-12-27 JP JP29699085A patent/JPS62152812A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62152812A (ja) | 1987-07-07 |
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