JPH0473164A - 絶縁基板表面への抵抗体層形成方法および金属有機物抵抗体フィルム - Google Patents
絶縁基板表面への抵抗体層形成方法および金属有機物抵抗体フィルムInfo
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- JPH0473164A JPH0473164A JP2187731A JP18773190A JPH0473164A JP H0473164 A JPH0473164 A JP H0473164A JP 2187731 A JP2187731 A JP 2187731A JP 18773190 A JP18773190 A JP 18773190A JP H0473164 A JPH0473164 A JP H0473164A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 57
- 238000002788 crimping Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 73
- 239000000463 material Substances 0.000 description 21
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000013212 metal-organic material Substances 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010011732 Cyst Diseases 0.000 description 1
- DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N Iodine aqueous Chemical compound [K+].I[I-]I DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical class O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N alpha-terpineol Chemical compound CC1=CCC(C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 208000031513 cyst Diseases 0.000 description 1
- SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N delta-terpineol Natural products CC(C)(O)C1CCC(=C)CC1 SQIFACVGCPWBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229940116411 terpineol Drugs 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
A0発明の目的
■)産業上の利用分野
本発明は、絶縁基板表面に抵抗体層を形成する技術に関
する。
する。
従来、ハイブリッドIC、サーマルヘッド等の各種電子
部品においては、表面に抵抗体が形成された絶縁基板を
使用している。前記絶縁基板表面に抵抗体を形成する工
程の途中では、絶縁基板表面に抵抗体層が形成されてい
る。したがって、本発明の技術は、前記各種電子部品に
用いられる絶縁基板表面に抵抗体を形成する工程の途中
で使用される。
部品においては、表面に抵抗体が形成された絶縁基板を
使用している。前記絶縁基板表面に抵抗体を形成する工
程の途中では、絶縁基板表面に抵抗体層が形成されてい
る。したがって、本発明の技術は、前記各種電子部品に
用いられる絶縁基板表面に抵抗体を形成する工程の途中
で使用される。
2) 従来の技術
従来、ハイブリッドIC、サーマルヘッド等の電子部品
の高性能化を図るためには、抵抗値のバラツキが小さく
しかもドツト密度の高い抵抗体を絶縁基板表面に形成す
る必要がある。そして、前記絶縁基板表面の抵抗体は、
普通、絶縁基板表面に形成された抵抗体層から形成され
ているので、前記抵抗体の特性(抵抗値の均−性等)は
、前記抵抗体層の特性によって決定される。
の高性能化を図るためには、抵抗値のバラツキが小さく
しかもドツト密度の高い抵抗体を絶縁基板表面に形成す
る必要がある。そして、前記絶縁基板表面の抵抗体は、
普通、絶縁基板表面に形成された抵抗体層から形成され
ているので、前記抵抗体の特性(抵抗値の均−性等)は
、前記抵抗体層の特性によって決定される。
前記絶縁基板上に抵抗体層を形成する方法としては、ス
クリーン印刷等の厚膜技術を用いる方式と、スパッタリ
ング等の薄膜技術を用いる方法とが知られている。前記
厚膜技術は薄膜技術に比べて製造設備が安価で生産性も
高いので、厚膜技術で形成した抵抗体層から所望の特性
を有する抵抗体を形成することができれば好都合である
。したがって、低コストで特性のすぐれた抵抗体を得る
ためには、絶縁基板表面に特性のすぐれた抵抗体層を厚
膜技術により形成する必要がある。
クリーン印刷等の厚膜技術を用いる方式と、スパッタリ
ング等の薄膜技術を用いる方法とが知られている。前記
厚膜技術は薄膜技術に比べて製造設備が安価で生産性も
高いので、厚膜技術で形成した抵抗体層から所望の特性
を有する抵抗体を形成することができれば好都合である
。したがって、低コストで特性のすぐれた抵抗体を得る
ためには、絶縁基板表面に特性のすぐれた抵抗体層を厚
膜技術により形成する必要がある。
そこで、絶縁基板表面に特性のすぐれた抵抗体層を、厚
膜技術により形成するため、従来MOD(Metalo
−Organic Deposition)法(たと
えば、特開平1−220402号公報参照)が提案され
ている。
膜技術により形成するため、従来MOD(Metalo
−Organic Deposition)法(たと
えば、特開平1−220402号公報参照)が提案され
ている。
3)発明が解決しようとする課題
前記従来のMOD法においては、スクリーン印刷などの
厚膜技術により、抵抗体層形成用の金属有機物抵抗体材
料を絶縁基板上に直接塗布している。このような方法で
は、A4サイズ以上の長尺基板に金属有機物抵抗体材料
を均一に塗布することが困難であり、前記絶縁基板表面
に直接塗布した金属有機物抵抗体材料の厚さにムラが生
じる(すなわち、絶縁基板の反り等により抵抗体層の厚
さが不均一となる)場合があった。このような、厚さに
ムラのある金属有機物抵抗体材料層が形成された絶縁基
板を用いると、それから形成された抵抗体の抵抗値のバ
ラツキが大きくなってしまう。
厚膜技術により、抵抗体層形成用の金属有機物抵抗体材
料を絶縁基板上に直接塗布している。このような方法で
は、A4サイズ以上の長尺基板に金属有機物抵抗体材料
を均一に塗布することが困難であり、前記絶縁基板表面
に直接塗布した金属有機物抵抗体材料の厚さにムラが生
じる(すなわち、絶縁基板の反り等により抵抗体層の厚
さが不均一となる)場合があった。このような、厚さに
ムラのある金属有機物抵抗体材料層が形成された絶縁基
板を用いると、それから形成された抵抗体の抵抗値のバ
ラツキが大きくなってしまう。
そして、表面に形成された抵抗体の抵抗値のバラツキが
大きな絶縁基板は、その絶縁基板に電極等を形成した後
の製品の検査段階で取り除く必要がある。このように絶
縁基板表面に電極等を形成してからその絶縁基板を除去
するのでは、それまでに行った作業が無駄となってしま
うので生産効率が悪くなるという問題点があった。
大きな絶縁基板は、その絶縁基板に電極等を形成した後
の製品の検査段階で取り除く必要がある。このように絶
縁基板表面に電極等を形成してからその絶縁基板を除去
するのでは、それまでに行った作業が無駄となってしま
うので生産効率が悪くなるという問題点があった。
本発明は、前述の事情に鑑み、安価な生産性の高い厚膜
技術を用いて、絶縁基板表面に厚さの均一な抵抗体層を
形成できるようにすることを課題とする。
技術を用いて、絶縁基板表面に厚さの均一な抵抗体層を
形成できるようにすることを課題とする。
B1発明の構成
l)課題を解決するための手段
前記課題を解決するために本出願の第1発明の絶縁基板
への抵抗体層形成方法は、 フィルム本体およびこのフィルム本体の表面に形成され
た金属有機物抵抗体層から構成される金属有機物抵抗体
フィルムを製作し、この金属有機物抵抗体フィルムの前
記金属有機物抵抗体層を絶縁基板表面に圧着することを
特徴とする。
への抵抗体層形成方法は、 フィルム本体およびこのフィルム本体の表面に形成され
た金属有機物抵抗体層から構成される金属有機物抵抗体
フィルムを製作し、この金属有機物抵抗体フィルムの前
記金属有機物抵抗体層を絶縁基板表面に圧着することを
特徴とする。
また、本出願の第2発明の金属有機物抵抗体フィルムは
、フィルム本体とこのフィルム本体の表面に形成された
金属有機物抵抗体層とから構成されたことを特徴とする
。
、フィルム本体とこのフィルム本体の表面に形成された
金属有機物抵抗体層とから構成されたことを特徴とする
。
2)作 用
本出願の第1発明の抵抗体形成方法は、フィルム本体お
よびこのフィルム本体の表面に形成された金属有機物抵
抗体層から構成される金属有機物抵抗体フィルムを製作
している。このような金属有機物抵抗体フィルムは、フ
ィルム本体表面に液状またはペースト状の均一な金属有
機物抵抗体層を塗布して乾燥させることにより容易に製
作することができる。すなわち、たとえば搬送されるフ
ィルム本体の片面に、金属有機物材料が表面に塗布され
たローラを一定圧力で押し付けることにより、前記フィ
ルム本体の片面に均一な金属有機物抵抗体材料を比較的
容易に塗布することができ。
よびこのフィルム本体の表面に形成された金属有機物抵
抗体層から構成される金属有機物抵抗体フィルムを製作
している。このような金属有機物抵抗体フィルムは、フ
ィルム本体表面に液状またはペースト状の均一な金属有
機物抵抗体層を塗布して乾燥させることにより容易に製
作することができる。すなわち、たとえば搬送されるフ
ィルム本体の片面に、金属有機物材料が表面に塗布され
たローラを一定圧力で押し付けることにより、前記フィ
ルム本体の片面に均一な金属有機物抵抗体材料を比較的
容易に塗布することができ。
る、そして前記フィルム本体片面に塗布された金属有機
物抵抗体材料を乾燥させることにより前記金属有機物抵
抗体層が均一な前記金属有機物抵抗体フィルムを容易に
製作することができる。さらに、前記フィルム本体表面
に液状またはペースト状の均一な金属有機物抵抗体材料
を塗布する際に、長尺の大面積のフィルム本体を使用す
れば、1回の塗布作業で多量の金属有機物抵抗体層が得
られる。また、前記製作された金属有機物抵抗体フィル
ムの金属有機物抵抗体層の厚さまたは表面粗さ等を検査
して厚さが均一でないものを取り除くことにより、金属
有機物抵抗体層の厚さが均一な金属有機物抵抗体フィル
ムのみを選別して使用することができる、このようにし
て得られた金属有機物抵抗体フィルムの均一な金属有l
!l物抵抗体層と絶縁基板表面に圧着すれば、前記絶縁
基板表面に厚さの均一な抵抗体層が形成される。
物抵抗体材料を乾燥させることにより前記金属有機物抵
抗体層が均一な前記金属有機物抵抗体フィルムを容易に
製作することができる。さらに、前記フィルム本体表面
に液状またはペースト状の均一な金属有機物抵抗体材料
を塗布する際に、長尺の大面積のフィルム本体を使用す
れば、1回の塗布作業で多量の金属有機物抵抗体層が得
られる。また、前記製作された金属有機物抵抗体フィル
ムの金属有機物抵抗体層の厚さまたは表面粗さ等を検査
して厚さが均一でないものを取り除くことにより、金属
有機物抵抗体層の厚さが均一な金属有機物抵抗体フィル
ムのみを選別して使用することができる、このようにし
て得られた金属有機物抵抗体フィルムの均一な金属有l
!l物抵抗体層と絶縁基板表面に圧着すれば、前記絶縁
基板表面に厚さの均一な抵抗体層が形成される。
また、本出願の第2発明の金属有機物抵抗体フィルムは
、前記第1発明の金属有機物抵抗体形成方法を実施する
際に使用される。
、前記第1発明の金属有機物抵抗体形成方法を実施する
際に使用される。
3)実施例
以下、図面により本発明の絶縁基板への抵抗体形成方法
の一実施例をサーマルヘッドに適用した場合について説
明する。
の一実施例をサーマルヘッドに適用した場合について説
明する。
第1図は前記本発明を適用して得られるサーマルヘッド
の全体説明図、第2区はその要部の斜視図、第3図は第
2図の矢視■部分の拡大図、第4A図は同サーマルヘッ
ドの要部の平面図、第4B図および第4C図は第4A図
のrVB−rVB線およびfVc−fVc線断面図であ
り、第5〜第12C図は同サーマルヘッドの製造方法に
適用された本発明の金属有機物抵抗体層形成方法の一実
施例の説明図である。
の全体説明図、第2区はその要部の斜視図、第3図は第
2図の矢視■部分の拡大図、第4A図は同サーマルヘッ
ドの要部の平面図、第4B図および第4C図は第4A図
のrVB−rVB線およびfVc−fVc線断面図であ
り、第5〜第12C図は同サーマルヘッドの製造方法に
適用された本発明の金属有機物抵抗体層形成方法の一実
施例の説明図である。
第1図に示すように、プラテンロールRの外周に沿って
搬送される感熱記録紙Pに熱記録を行うためのサーマル
ヘッドHは、支持板1を備えている。この支持板1の表
面には、第1図中、右側部分に絶縁基板2が接着剤によ
って張付けられており、この絶縁基板2は、アルミナ製
本体2aとその表面に形成された約60μmの厚さのア
ンダーグレーズ層2bとから構成されている。そして、
第3図に示すように前記絶縁基板2の表面には、複数の
発熱抵抗体3が主走査方向Xに沿って島状に設けられて
いる。
搬送される感熱記録紙Pに熱記録を行うためのサーマル
ヘッドHは、支持板1を備えている。この支持板1の表
面には、第1図中、右側部分に絶縁基板2が接着剤によ
って張付けられており、この絶縁基板2は、アルミナ製
本体2aとその表面に形成された約60μmの厚さのア
ンダーグレーズ層2bとから構成されている。そして、
第3図に示すように前記絶縁基板2の表面には、複数の
発熱抵抗体3が主走査方向Xに沿って島状に設けられて
いる。
また、前記絶縁基板2表面上には、第3図に示すような
帯状の共通電極本体部4aとこの共通電極本体部4aか
ら櫛歯状に副走査方向Yに突出する多数の共通電極接続
部4bとから成る共通電極4と、前記多数の共通電極接
続部4bに対向する位置に所定の距離を置いてそれぞれ
個別電極5が形成されている。前記各共通電極接続部4
bおよび個別電極5は前記絶縁基板2表面上に主走査方
向Xに沿って配設された前記発熱抵抗体3に接続されて
いる。また、前記個別電極5の基端部(第1図中、左端
部)は後述の駆動用ICと接続するためのIC接続端子
5aとして形成されている。
帯状の共通電極本体部4aとこの共通電極本体部4aか
ら櫛歯状に副走査方向Yに突出する多数の共通電極接続
部4bとから成る共通電極4と、前記多数の共通電極接
続部4bに対向する位置に所定の距離を置いてそれぞれ
個別電極5が形成されている。前記各共通電極接続部4
bおよび個別電極5は前記絶縁基板2表面上に主走査方
向Xに沿って配設された前記発熱抵抗体3に接続されて
いる。また、前記個別電極5の基端部(第1図中、左端
部)は後述の駆動用ICと接続するためのIC接続端子
5aとして形成されている。
前記支持板1の表面には、第1図中、左側部分にプリン
ト配線板6が接着剤によって張付けられており、このプ
リント配線板6表面には外部接続用配[7が形成されて
いる。この外部接続用配線7はその入力端fil!(第
1図中、左側)において前記プリント配線板6を貫通す
るコネクタビン8を介して、駆動信号入力端子としての
ソケット9に接続されている。プリント配線板6の前記
絶縁基板2に近い部分には駆動用ICが配設されており
、この駆動用ICはボンディングワイヤ10および11
によって前記個別電極5のIC接続端子5aおよび外部
接続用配線7と接続されている。
ト配線板6が接着剤によって張付けられており、このプ
リント配線板6表面には外部接続用配[7が形成されて
いる。この外部接続用配線7はその入力端fil!(第
1図中、左側)において前記プリント配線板6を貫通す
るコネクタビン8を介して、駆動信号入力端子としての
ソケット9に接続されている。プリント配線板6の前記
絶縁基板2に近い部分には駆動用ICが配設されており
、この駆動用ICはボンディングワイヤ10および11
によって前記個別電極5のIC接続端子5aおよび外部
接続用配線7と接続されている。
前記ICおよびボンディングワイヤ10.11は、保護
樹脂12によって被覆されており、前記発熱抵抗体3.
共通電極4、および個別電極5等は耐摩耗層13(第1
.3,4A、4B、4C図参照)によって被覆されてい
る。さらに、前記保!1tIl脂12はアルミ製のカバ
ー14によって保護されている。
樹脂12によって被覆されており、前記発熱抵抗体3.
共通電極4、および個別電極5等は耐摩耗層13(第1
.3,4A、4B、4C図参照)によって被覆されてい
る。さらに、前記保!1tIl脂12はアルミ製のカバ
ー14によって保護されている。
そして、前記サーマルヘッドHは、前記符号1〜14で
示された構成要素および前記駆動用ICから構成されて
いる。
示された構成要素および前記駆動用ICから構成されて
いる。
次に、第5〜12C図により、前記第4A〜4C図に示
される構成を備えたサーマルヘッドHの製造方法を説明
する。
される構成を備えたサーマルヘッドHの製造方法を説明
する。
(イ) 金属有機物抵抗体フィルム製作工程(第5図
参照) 第5図に示すようにデツプコータ20を用いて、フィル
ム本体21の片面に金属有機物抵抗体材料22を塗布す
る。
参照) 第5図に示すようにデツプコータ20を用いて、フィル
ム本体21の片面に金属有機物抵抗体材料22を塗布す
る。
なお、前記金属有機物抵抗体材料22としては、たとえ
ば、エンゲルハード社のメタルレジネート(商品名)の
下記の番号の各溶液を混合して使用する。
ば、エンゲルハード社のメタルレジネート(商品名)の
下記の番号の各溶液を混合して使用する。
A−1123(Ir有機物材料)
#28−FC(St有機物材料)
#8365 (Bi有機物材料)
#207−A (Pb有機物材料〉
#118B (Sn有機物材料)
A3808(Allj機物材料)
#1l−A(B有機物材料)
#9428 (Ti有機物材料)
#5437 (Zr有機物材料)
40B(Ca有機物材料)
#137−C(Ba有機物材料)
すなわち、上記各溶液を焼成後の原子数比が、Ir:
Bi: 5i=1 : 1 : 1となるような割合で
混合し、さらに、トルエン、メチルクロロフォルム、α
−ターピネオール、ブチルカルピトールアセテート等の
溶剤を使用して粘度を数10 cpsに調整する。
Bi: 5i=1 : 1 : 1となるような割合で
混合し、さらに、トルエン、メチルクロロフォルム、α
−ターピネオール、ブチルカルピトールアセテート等の
溶剤を使用して粘度を数10 cpsに調整する。
また、前記フィルム本体21としてはたとえばポリエチ
レンテレフタレート(PET)フィルム等のポリマーフ
ィルムを使用する。そして、前記混合溶液との接着性が
良くなるように、前記フィルム本体21の表面に、コー
ティング技術として従来から知られている物理的(機械
的)または化学的処理を施す、さらに、前記フィルム本
体21の表面に、コーティング材料によって耐溶剤性の
処理を行う。
レンテレフタレート(PET)フィルム等のポリマーフ
ィルムを使用する。そして、前記混合溶液との接着性が
良くなるように、前記フィルム本体21の表面に、コー
ティング技術として従来から知られている物理的(機械
的)または化学的処理を施す、さらに、前記フィルム本
体21の表面に、コーティング材料によって耐溶剤性の
処理を行う。
前記第5図に示すデイツプコータ20により、前記フィ
ルム本体21に前記金属有機物抵抗体材料22を塗布す
る際、その塗布膜の厚さは、前記金属有機物抵抗体材料
22の粘度、デイツプコータの20ロール20a、20
bの回転数によって調整される。なお、フィルム本体2
1のエツジ部において前記塗布膜の膜厚がばらついてそ
の部分は使用できないので、その部分を後で除去して使
用しなければならない、そこで、前記エツジ部の除去す
る部分も含めて、前記フィルム本体21には巾が20臘
園以上のものを使用する。
ルム本体21に前記金属有機物抵抗体材料22を塗布す
る際、その塗布膜の厚さは、前記金属有機物抵抗体材料
22の粘度、デイツプコータの20ロール20a、20
bの回転数によって調整される。なお、フィルム本体2
1のエツジ部において前記塗布膜の膜厚がばらついてそ
の部分は使用できないので、その部分を後で除去して使
用しなければならない、そこで、前記エツジ部の除去す
る部分も含めて、前記フィルム本体21には巾が20臘
園以上のものを使用する。
前記金属有機物抵抗体材料22が塗布された前記フィル
ム本体21はそのまま、第5図に示す70℃に保たれた
乾燥機23中で約15分間乾燥される。このとき、前記
金属有機物抵抗体材料22は固化されてフィルム本体2
1表面に金属有機物抵抗体層22′が形成される。この
ようにして製作される金属有機物抵抗体フィルムFは、
前記フィルム本体21とその表面に形成された前記金属
有機物抵抗体層22′とから構成されている。
ム本体21はそのまま、第5図に示す70℃に保たれた
乾燥機23中で約15分間乾燥される。このとき、前記
金属有機物抵抗体材料22は固化されてフィルム本体2
1表面に金属有機物抵抗体層22′が形成される。この
ようにして製作される金属有機物抵抗体フィルムFは、
前記フィルム本体21とその表面に形成された前記金属
有機物抵抗体層22′とから構成されている。
前記金属有機物抵抗体フィルムFは前記絶縁基板2の大
きさに合わせてパンチングまたはナイフ等で適当な大き
さに切断される。
きさに合わせてパンチングまたはナイフ等で適当な大き
さに切断される。
(ロ)絶縁基板2表面に抵抗体層を形成する工程(第6
.7A、7B図参照) 第6図において、前記適当な大きさに切断された金属有
機物抵抗体フィルムFをその金属有機物抵抗体層22′
が前記絶縁基板2表面に接するように配!する。そして
、約120℃に温められたヒータヘッド24により、前
記金属有機物抵抗体フィルムFを絶縁基板2表面に押圧
する。このとき、前記金属有機物抵抗体フィルムFの前
記金属有機物抵抗体層22′は少し軟化し、絶縁基板2
表面に圧着される。この金属有機物抵抗体フィルムFが
接着された絶縁基板2を図示しない赤外線焼成炉で、8
00℃のピーク温度で約10分間焼成する。そうすると
、前記金属有機物抵抗体フィルムFの前記フィルム本体
21は焼成炉中でバーンオフして、絶縁基板2表面に第
7A、B、C図に示す抵抗体層3Lが形成される。
.7A、7B図参照) 第6図において、前記適当な大きさに切断された金属有
機物抵抗体フィルムFをその金属有機物抵抗体層22′
が前記絶縁基板2表面に接するように配!する。そして
、約120℃に温められたヒータヘッド24により、前
記金属有機物抵抗体フィルムFを絶縁基板2表面に押圧
する。このとき、前記金属有機物抵抗体フィルムFの前
記金属有機物抵抗体層22′は少し軟化し、絶縁基板2
表面に圧着される。この金属有機物抵抗体フィルムFが
接着された絶縁基板2を図示しない赤外線焼成炉で、8
00℃のピーク温度で約10分間焼成する。そうすると
、前記金属有機物抵抗体フィルムFの前記フィルム本体
21は焼成炉中でバーンオフして、絶縁基板2表面に第
7A、B、C図に示す抵抗体層3Lが形成される。
(ハ)個別抵抗体形成工程〈第8A、8B図参照)次に
、前記抵抗体層3L上にレジスト層R1を形成してから
その上に露光用のマスクM1を重ねて露光、現像を行う
、そうすると、第9A、9B図に示すような発熱抵抗体
形成用のレジストパターンRpが得られる。
、前記抵抗体層3L上にレジスト層R1を形成してから
その上に露光用のマスクM1を重ねて露光、現像を行う
、そうすると、第9A、9B図に示すような発熱抵抗体
形成用のレジストパターンRpが得られる。
次に、エツチング液(フッ硝酸)を用いて工/チングを
行うと、第10A、IOB図に示す多数の発熱抵抗体3
が得られる。
行うと、第10A、IOB図に示す多数の発熱抵抗体3
が得られる。
(ニ)電極形成工程(第11A〜12C図参照)次に、
前記発熱抵抗体3が形成された絶縁基板2表面にノリタ
ケ株式会社製のメタロオーガニック金ペーストD27を
ベタ印刷して焼成し、金膜4Lを形成する。
前記発熱抵抗体3が形成された絶縁基板2表面にノリタ
ケ株式会社製のメタロオーガニック金ペーストD27を
ベタ印刷して焼成し、金膜4Lを形成する。
次に第11A、11B図に示すように、前記金膜4L上
にレジスト層R2を形成してから、マスクM2を重ね、
露光、現像を行って電極形成用のしシストパターンを得
る0次に、エツチング液(ヨウ素−ヨウ化カリウム溶液
)を用いてエツチングを行い、前記金膜4Lから第12
A、12B、100図に示すような共通電極4および個
別電極5を形成する。
にレジスト層R2を形成してから、マスクM2を重ね、
露光、現像を行って電極形成用のしシストパターンを得
る0次に、エツチング液(ヨウ素−ヨウ化カリウム溶液
)を用いてエツチングを行い、前記金膜4Lから第12
A、12B、100図に示すような共通電極4および個
別電極5を形成する。
(ネ)耐摩耗層形成工程
次に、前述の発熱抵抗体3.共通電極4および個別電極
5が形成された絶縁基板2表面上に、耐摩耗層形成用の
金属有機物材料をスクリーン印刷によりベタ印刷する。
5が形成された絶縁基板2表面上に、耐摩耗層形成用の
金属有機物材料をスクリーン印刷によりベタ印刷する。
このスクリーン印刷された絶縁基板2を、乾燥させてか
ら赤外線ベルト焼成炉において800℃程度で焼成して
オーバコート層を形成する。このオーバコート層は必要
に応じて多層に形成する。
ら赤外線ベルト焼成炉において800℃程度で焼成して
オーバコート層を形成する。このオーバコート層は必要
に応じて多層に形成する。
このようにして、前記第4A〜40図に示した構成要素
3.4,5.13等を表面に形成された絶縁基板2が得
られる。
3.4,5.13等を表面に形成された絶縁基板2が得
られる。
以上、本発明による絶縁基板への抵抗体層形成方法の実
施例を詳述したが、本発明は、前記実施例に限定される
ものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要
旨の範囲内で、種々の小設計変更を行うことが可能であ
る。
施例を詳述したが、本発明は、前記実施例に限定される
ものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要
旨の範囲内で、種々の小設計変更を行うことが可能であ
る。
例えば、前記金属有機物抵抗体フィルムFに使用するフ
ィルム本体21としては、ポリマーフィルム以外の適当
な材質のフィルムを使用することが可能であり、焼成時
にバーンオフしないフィルム本体を使用する場合には、
フィルム本体表面にワックス層を形成してから金属有機
物抵抗体層を形成し、ヒータヘッドの加熱時にフィルム
本体が剥がれるようにすることも可能である。また、フ
ィルム本体に金属有機物抵抗体材料を塗布する方法とし
ては、デイツプコート法の代わりに、エアドクタコート
、ロールコータ、ロッドコータ等の塗布手段を採用する
ことが可能であり、さらに、粘度が高い金属有機物抵抗
体材料を使用する際には、ホットメルトコータを採用す
ることが可能である。さらにまた、種々の成分の混合溶
液によって構成される金属有機物抵抗体材料22の成分
も実施例で示した以外の種々成分とすることが可能であ
る。そしてさらに、絶縁基板2表面に抵抗体層を形成し
た後で電極を形成する代わりに、電極を形成した絶縁基
板2表面に抵抗体層を形成することも可能である9 C発明の効果 前述の本出願の第1発明の抵抗体層形成方法は、フィル
ム本体およびこのフィルム本体の表面に形成された金属
有機物抵抗体層から構成される金属有機物抵抗体フィル
ムを製作し、この金属有機物抵抗体フィルムの前記金属
有機物抵抗体層を絶縁基板表面に圧着している。したが
って、前記金属有機物材料体フィルムは、その金属有機
物抵抗体層を絶縁基板に圧着する前に、その厚さムラま
たはピンホールの有無等を検査して不良品を取り除くこ
とができる。したがって、多数の絶縁基板表面に個別に
直接金属有機物抵抗体層を形成してから不良品を取り除
く場合に比較して作業性が良い。
ィルム本体21としては、ポリマーフィルム以外の適当
な材質のフィルムを使用することが可能であり、焼成時
にバーンオフしないフィルム本体を使用する場合には、
フィルム本体表面にワックス層を形成してから金属有機
物抵抗体層を形成し、ヒータヘッドの加熱時にフィルム
本体が剥がれるようにすることも可能である。また、フ
ィルム本体に金属有機物抵抗体材料を塗布する方法とし
ては、デイツプコート法の代わりに、エアドクタコート
、ロールコータ、ロッドコータ等の塗布手段を採用する
ことが可能であり、さらに、粘度が高い金属有機物抵抗
体材料を使用する際には、ホットメルトコータを採用す
ることが可能である。さらにまた、種々の成分の混合溶
液によって構成される金属有機物抵抗体材料22の成分
も実施例で示した以外の種々成分とすることが可能であ
る。そしてさらに、絶縁基板2表面に抵抗体層を形成し
た後で電極を形成する代わりに、電極を形成した絶縁基
板2表面に抵抗体層を形成することも可能である9 C発明の効果 前述の本出願の第1発明の抵抗体層形成方法は、フィル
ム本体およびこのフィルム本体の表面に形成された金属
有機物抵抗体層から構成される金属有機物抵抗体フィル
ムを製作し、この金属有機物抵抗体フィルムの前記金属
有機物抵抗体層を絶縁基板表面に圧着している。したが
って、前記金属有機物材料体フィルムは、その金属有機
物抵抗体層を絶縁基板に圧着する前に、その厚さムラま
たはピンホールの有無等を検査して不良品を取り除くこ
とができる。したがって、多数の絶縁基板表面に個別に
直接金属有機物抵抗体層を形成してから不良品を取り除
く場合に比較して作業性が良い。
また、不良品は再び溶剤に溶かして再利用することも可
能であり、材料の無駄を少なくするすることも可能であ
る。
能であり、材料の無駄を少なくするすることも可能であ
る。
さらに、フィルム本体に金属有機物抵抗体材料を塗布し
て金属有機物抵抗体フィルムを製作する作業は、長尺で
大面積のフィルム本体を使用することにより一度に多量
の金属有機物抵抗体層が得られる。そして、金属有機物
抵抗体フィルムを適当な大きさに切断して絶縁基板表面
に圧着する作業は簡単で自動化も容易である。したがっ
て、絶縁基板表面に均一な抵抗体層を製作する際の作業
性も良好である。さらにまた、金属有機物抵抗体フィル
ムを適当な大きさに切断して絶縁基板表面に圧着する本
発明は、水平でない平面や曲面を有する絶縁基板表面に
容易に均一な抵抗体層を形成することができる。
て金属有機物抵抗体フィルムを製作する作業は、長尺で
大面積のフィルム本体を使用することにより一度に多量
の金属有機物抵抗体層が得られる。そして、金属有機物
抵抗体フィルムを適当な大きさに切断して絶縁基板表面
に圧着する作業は簡単で自動化も容易である。したがっ
て、絶縁基板表面に均一な抵抗体層を製作する際の作業
性も良好である。さらにまた、金属有機物抵抗体フィル
ムを適当な大きさに切断して絶縁基板表面に圧着する本
発明は、水平でない平面や曲面を有する絶縁基板表面に
容易に均一な抵抗体層を形成することができる。
また、前述の本出願の第2発明の金属有機物抵抗体フィ
ルムは前記第1発明を実施する際に使用することができ
る。
ルムは前記第1発明を実施する際に使用することができ
る。
第1図は本発明の抵抗体層形成方法の一実施例を適用し
たサーマルヘッドの全体説明図、第2図は同サーマルヘ
ッドの要部の斜視図、第3図は第2図の矢視3部分の拡
大図、第4A図は同サーマルヘッドの要部の平面図、第
4B図は第4A図のIVB−IVB線断面区、第4C図
は第4A図のIVC−IVC線断面図、第5図は金属有
機物抵抗体フィルムの製作方法の説明図、第6図は前記
金属有機物抵抗体フィルムを用いて絶縁基板表面に抵抗
体層を形成する方法の説明図、第7A〜12C図は前記
第4A〜40図に示した部分の製造方法の説明図、であ
る。 2・・・絶縁基板、3・・・発熱抵抗体、4・・・共通
電極、4a・・・共通電極本体部、4b・・・共通電極
接続部、5・・・個別電極、13・・・オーバコート層
特許出願人 富士ゼロックス株式会社代理人 弁理士
1) 中 隆 秀外2名 第4A図 1+IVc 第4B図 第4C図 第3図 IVA 第2図 甘
たサーマルヘッドの全体説明図、第2図は同サーマルヘ
ッドの要部の斜視図、第3図は第2図の矢視3部分の拡
大図、第4A図は同サーマルヘッドの要部の平面図、第
4B図は第4A図のIVB−IVB線断面区、第4C図
は第4A図のIVC−IVC線断面図、第5図は金属有
機物抵抗体フィルムの製作方法の説明図、第6図は前記
金属有機物抵抗体フィルムを用いて絶縁基板表面に抵抗
体層を形成する方法の説明図、第7A〜12C図は前記
第4A〜40図に示した部分の製造方法の説明図、であ
る。 2・・・絶縁基板、3・・・発熱抵抗体、4・・・共通
電極、4a・・・共通電極本体部、4b・・・共通電極
接続部、5・・・個別電極、13・・・オーバコート層
特許出願人 富士ゼロックス株式会社代理人 弁理士
1) 中 隆 秀外2名 第4A図 1+IVc 第4B図 第4C図 第3図 IVA 第2図 甘
Claims (2)
- (1)フィルム本体およびこのフィルム本体の表面に形
成された金属有機物抵抗体層から構成される金属有機物
抵抗体フィルムを製作し、この金属有機物抵抗体フィル
ムの前記金属有機物抵抗体層を絶縁基板表面に圧着する
ことを特徴とする絶縁基板表面への抵抗体層形成方法。 - (2)フィルム本体とこのフィルム本体の表面に形成さ
れた金属有機物抵抗体層とから構成された金属有機物抵
抗体フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2187731A JP2606416B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 絶縁基板表面への抵抗体層形成方法および金属有機物抵抗体フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2187731A JP2606416B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 絶縁基板表面への抵抗体層形成方法および金属有機物抵抗体フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0473164A true JPH0473164A (ja) | 1992-03-09 |
| JP2606416B2 JP2606416B2 (ja) | 1997-05-07 |
Family
ID=16211199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2187731A Expired - Fee Related JP2606416B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 絶縁基板表面への抵抗体層形成方法および金属有機物抵抗体フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2606416B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2776657C1 (ru) * | 2021-11-22 | 2022-07-22 | Общество с ограниченной ответственностью "ФОКОН" | Способ получения толстоплёночных резисторов |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0336049A (ja) * | 1989-07-04 | 1991-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
-
1990
- 1990-07-16 JP JP2187731A patent/JP2606416B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0336049A (ja) * | 1989-07-04 | 1991-02-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | サーマルヘッドおよびその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2776657C1 (ru) * | 2021-11-22 | 2022-07-22 | Общество с ограниченной ответственностью "ФОКОН" | Способ получения толстоплёночных резисторов |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2606416B2 (ja) | 1997-05-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |