JPH0474413B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0474413B2 JPH0474413B2 JP59075051A JP7505184A JPH0474413B2 JP H0474413 B2 JPH0474413 B2 JP H0474413B2 JP 59075051 A JP59075051 A JP 59075051A JP 7505184 A JP7505184 A JP 7505184A JP H0474413 B2 JPH0474413 B2 JP H0474413B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strip
- metal strip
- fins
- heating
- plenum chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/34—Methods of heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/56—Continuous furnaces for strip or wire
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
〔本発明の技術分野〕
本発明は、金属ストリツプを焼鈍する連続焼鈍
炉における加熱装置に関する。 〔従来の連続焼鈍炉〕 従来の冷延鋼板やブリキ原板などの金属ストリ
ツプを連続的に焼鈍処理する連続焼鈍炉の概要を
第１図に示す。ベイオフリールから絞り出されて
クリーニングタンクやルーパを通つた金属ストリ
ツプ１は、炉に供給される。炉では上方と下方に
ロールＲ（ヘルパロールと称されている。）が設置
されており、このロールＲの間を上下方向に走行
しながら、必要な加熱や冷却をうけ、常温の状態
で所定の高張力や深絞り性等の材料的な物質が与
えられる。 ところで、加熱帯では、ストリツプ１は通常最
高650〜800℃までラジアントチユーブ方式により
輻射加熱されるが、ストリツプ１の最高到達温度
を900〜950℃と高くし、かつ、700〜800℃以上の
加熱速度も10℃／秒以上と大きくすれば、深絞り
性向上につながることが、最近次第に明らかにな
つてきている。 しかしながら、現状のラジアントチユーブによ
る輻射加熱では、ラジアントチユーブの材料の制
限から前述のストリツプ到達温度で、２〜３℃／
秒程度の加熱速度しかとれない。このため、この
ような高温領域でのストリツプ加熱速度を上げる
方法及び装置が必要となつてきており、今日該方
法及び装置が強く要望されているところである。 〔本発明の目的〕 本発明は、上記要望にそうものであつて、金属
ストリツプの加熱を、従来よりも高温に加熱で
き、しかも、高速昇温加熱が可能な金属ストリツ
プ連続焼鈍炉における加熱装置を提供することを
目的とする。より詳細には、本発明は、ガスジエ
ツトプレナム部からストリツプへの輻射伝熱量を
増加させることができる上記装置を提供すること
を目的とする。 〔本発明の構成〕 そして、本発明は、上記目的を達成する手段と
して、プレナム部の内側にフインを設けた点にあ
る。即ち、本発明は、走行する金属ストリツプに
加熱用ガスを噴出するプレナムチヤンバを備えた
金属ストリツプ連続焼鈍炉の加熱装置において、
該金属ストリツプに対向するプレナムチヤンバの
壁の内面に複数のフインを植設したことを特徴と
する金属ストリツプ連続焼鈍炉の加熱装置であ
る。 以下、第２〜４図に基づいて本発明を詳細に説
明する。第２図は本発明の実施例である加熱装置
の横断面図であり、第３図は第２図装置の縦断面
図である。また、第４図は本発明の他の実施例で
ある加熱装置の縦断面図である。 第２図及び第３図において、１は金属ストリツ
プ、２はプレナムチヤンバ、３はガスジエツトノ
ズル、４はフイン、５はガス供給用のダクトであ
る。ストリツプ１よりも高温に加熱されたガスは
ダクト５よりプレナムチヤンバ２内に供給され、
その内部で均一に分配されて、ガスジエツトノズ
ル３より噴出し、ストリツプ１に衝突してストリ
ツプ１を加熱するものである。 上記態様では、フイン４はガスジエツトノズル
３，３間の個所で、ストリツプ１に向いた部分６
に根本があり、先端がプレナムチヤンバ２内に突
出している構造を示した。 このようなフイン４をガスジエツトノズル３，
３間の所に設けることにより、ストリツプに向い
た部分６の温度をガスジエツト温度に近づけるこ
とができ、そのためストリツプ１への輻射伝熱量
を増加させ、ストリツプ１の加熱速度を大きくす
ることができる。 例えば、プレナムチヤンバ２内の平均風速が50
ｍ／秒の場合、幅10mm、高さ100mmのフイン４の
有無によるチヤンバ２の外面の温度及びストリツ
プ１への輻射による熱流束の実験結果を第１表に
示す。なお、この実験は、ガスとして1250℃の
HNガスを使用し、ストリツプ１の平均温度を
815℃、プレナムチヤンバ２の輻射率0.8、ストリ
ツプ１の輻射率0.3としたものである。
炉における加熱装置に関する。 〔従来の連続焼鈍炉〕 従来の冷延鋼板やブリキ原板などの金属ストリ
ツプを連続的に焼鈍処理する連続焼鈍炉の概要を
第１図に示す。ベイオフリールから絞り出されて
クリーニングタンクやルーパを通つた金属ストリ
ツプ１は、炉に供給される。炉では上方と下方に
ロールＲ（ヘルパロールと称されている。）が設置
されており、このロールＲの間を上下方向に走行
しながら、必要な加熱や冷却をうけ、常温の状態
で所定の高張力や深絞り性等の材料的な物質が与
えられる。 ところで、加熱帯では、ストリツプ１は通常最
高650〜800℃までラジアントチユーブ方式により
輻射加熱されるが、ストリツプ１の最高到達温度
を900〜950℃と高くし、かつ、700〜800℃以上の
加熱速度も10℃／秒以上と大きくすれば、深絞り
性向上につながることが、最近次第に明らかにな
つてきている。 しかしながら、現状のラジアントチユーブによ
る輻射加熱では、ラジアントチユーブの材料の制
限から前述のストリツプ到達温度で、２〜３℃／
秒程度の加熱速度しかとれない。このため、この
ような高温領域でのストリツプ加熱速度を上げる
方法及び装置が必要となつてきており、今日該方
法及び装置が強く要望されているところである。 〔本発明の目的〕 本発明は、上記要望にそうものであつて、金属
ストリツプの加熱を、従来よりも高温に加熱で
き、しかも、高速昇温加熱が可能な金属ストリツ
プ連続焼鈍炉における加熱装置を提供することを
目的とする。より詳細には、本発明は、ガスジエ
ツトプレナム部からストリツプへの輻射伝熱量を
増加させることができる上記装置を提供すること
を目的とする。 〔本発明の構成〕 そして、本発明は、上記目的を達成する手段と
して、プレナム部の内側にフインを設けた点にあ
る。即ち、本発明は、走行する金属ストリツプに
加熱用ガスを噴出するプレナムチヤンバを備えた
金属ストリツプ連続焼鈍炉の加熱装置において、
該金属ストリツプに対向するプレナムチヤンバの
壁の内面に複数のフインを植設したことを特徴と
する金属ストリツプ連続焼鈍炉の加熱装置であ
る。 以下、第２〜４図に基づいて本発明を詳細に説
明する。第２図は本発明の実施例である加熱装置
の横断面図であり、第３図は第２図装置の縦断面
図である。また、第４図は本発明の他の実施例で
ある加熱装置の縦断面図である。 第２図及び第３図において、１は金属ストリツ
プ、２はプレナムチヤンバ、３はガスジエツトノ
ズル、４はフイン、５はガス供給用のダクトであ
る。ストリツプ１よりも高温に加熱されたガスは
ダクト５よりプレナムチヤンバ２内に供給され、
その内部で均一に分配されて、ガスジエツトノズ
ル３より噴出し、ストリツプ１に衝突してストリ
ツプ１を加熱するものである。 上記態様では、フイン４はガスジエツトノズル
３，３間の個所で、ストリツプ１に向いた部分６
に根本があり、先端がプレナムチヤンバ２内に突
出している構造を示した。 このようなフイン４をガスジエツトノズル３，
３間の所に設けることにより、ストリツプに向い
た部分６の温度をガスジエツト温度に近づけるこ
とができ、そのためストリツプ１への輻射伝熱量
を増加させ、ストリツプ１の加熱速度を大きくす
ることができる。 例えば、プレナムチヤンバ２内の平均風速が50
ｍ／秒の場合、幅10mm、高さ100mmのフイン４の
有無によるチヤンバ２の外面の温度及びストリツ
プ１への輻射による熱流束の実験結果を第１表に
示す。なお、この実験は、ガスとして1250℃の
HNガスを使用し、ストリツプ１の平均温度を
815℃、プレナムチヤンバ２の輻射率0.8、ストリ
ツプ１の輻射率0.3としたものである。
【表】
表１から明らかなように、輻射の熱流束はフイ
ンを設けることにより約２倍になる。ガスジエツ
トによる対流による熱流束は４×104kcal／m2ｈ
℃程度なのでフインを設けると全体として熱流束
は次式の計算により 3.0×104＋4.0×104／1.4×104＋4.0×104＝
1.3 1.3倍となり、従つて、加熱速度を1.3倍に増加
することができる。逆に、このようなフインを設
けることにより、ガスジエツトの対流による熱負
荷を1/1.3に下げることができ、省エネルギにつ
ながる。 このようなフインは、第２図、第３図に示して
いるような連続形の形状に限定されるものではな
く、第４図に示すような断続形の形状でもよく、
その並び方も、第４図中で上下方向にジグサグ状
でもよい、一方、第２図のようにガスジエツトの
吹出側にフインをつけるかわりに、ガスジエツト
が設置してある壁の反対側の壁にフインをつけ
て、フイン設置壁面の温度をガス温度に近づけ、
輻射伝熱によりガスジエツトが設置してある面の
温度を上げることができ、結果としてストリツプ
への輻射伝熱量を増加しうる。 また、ノズル形状もスリツト形に限定されるも
のではなく、円孔形でもよい。 〔本発明の効果〕 本発明は、以上詳記したように、プレナムチヤ
ンバの内面にフインを設けたものであるから、プ
レナムチヤンバから金属ストリツプへの輻射伝熱
量を増加することができ、しかも、その昇温速度
も大きくできる効果が生ずるものである。
ンを設けることにより約２倍になる。ガスジエツ
トによる対流による熱流束は４×104kcal／m2ｈ
℃程度なのでフインを設けると全体として熱流束
は次式の計算により 3.0×104＋4.0×104／1.4×104＋4.0×104＝
1.3 1.3倍となり、従つて、加熱速度を1.3倍に増加
することができる。逆に、このようなフインを設
けることにより、ガスジエツトの対流による熱負
荷を1/1.3に下げることができ、省エネルギにつ
ながる。 このようなフインは、第２図、第３図に示して
いるような連続形の形状に限定されるものではな
く、第４図に示すような断続形の形状でもよく、
その並び方も、第４図中で上下方向にジグサグ状
でもよい、一方、第２図のようにガスジエツトの
吹出側にフインをつけるかわりに、ガスジエツト
が設置してある壁の反対側の壁にフインをつけ
て、フイン設置壁面の温度をガス温度に近づけ、
輻射伝熱によりガスジエツトが設置してある面の
温度を上げることができ、結果としてストリツプ
への輻射伝熱量を増加しうる。 また、ノズル形状もスリツト形に限定されるも
のではなく、円孔形でもよい。 〔本発明の効果〕 本発明は、以上詳記したように、プレナムチヤ
ンバの内面にフインを設けたものであるから、プ
レナムチヤンバから金属ストリツプへの輻射伝熱
量を増加することができ、しかも、その昇温速度
も大きくできる効果が生ずるものである。
第１図は従来の連続焼鈍炉の概要を示す図であ
る。第２図は本発明の実施例である加熱装置の横
断面図であり、第３図は第２図装置の縦断面図で
ある。また、第４図は本発明の他の実施例である
加熱装置の縦断面図である。 １……金属ストリツプ、２……プレナムチヤン
バ、３……ガスジエツトノズル、４……フイン、
５……ダクト、６……ストリツプに向いた部分。
る。第２図は本発明の実施例である加熱装置の横
断面図であり、第３図は第２図装置の縦断面図で
ある。また、第４図は本発明の他の実施例である
加熱装置の縦断面図である。 １……金属ストリツプ、２……プレナムチヤン
バ、３……ガスジエツトノズル、４……フイン、
５……ダクト、６……ストリツプに向いた部分。
Claims (1)
- １ 走行する金属ストリツプに加熱用ガスを噴出
するプレナムチヤンバを備えた金属ストリツプ連
続焼鈍炉の加熱装置において、該金属ストリツプ
に対向するプレナムチヤンバの壁の内面に複数の
フインを植設したことを特徴とする金属ストリツ
プ連続焼鈍炉の加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7505184A JPS60218432A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 金属ストリツプ連続焼鈍炉における加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7505184A JPS60218432A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 金属ストリツプ連続焼鈍炉における加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60218432A JPS60218432A (ja) | 1985-11-01 |
| JPH0474413B2 true JPH0474413B2 (ja) | 1992-11-26 |
Family
ID=13565008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7505184A Granted JPS60218432A (ja) | 1984-04-16 | 1984-04-16 | 金属ストリツプ連続焼鈍炉における加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60218432A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0663556B2 (ja) * | 1985-09-30 | 1994-08-22 | アイシン・エィ・ダブリュ株式会社 | ４輪駆動車の自動変速機 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5911648A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-21 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
-
1984
- 1984-04-16 JP JP7505184A patent/JPS60218432A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60218432A (ja) | 1985-11-01 |
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