JPH0474691A - コンパクトディスク対応またはコンパクトディスク−rom対応の追記型光ディスクおよびそれを使用するフタロシアニン系色素 - Google Patents

コンパクトディスク対応またはコンパクトディスク−rom対応の追記型光ディスクおよびそれを使用するフタロシアニン系色素

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JPH0474691A
JPH0474691A JP2188687A JP18868790A JPH0474691A JP H0474691 A JPH0474691 A JP H0474691A JP 2188687 A JP2188687 A JP 2188687A JP 18868790 A JP18868790 A JP 18868790A JP H0474691 A JPH0474691 A JP H0474691A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、レーザー光による情報の記録、再生を行う光
ディスクに関する。
さらに詳しくはコンパクトディスク(CD)あるいはコ
ンパクトディスク−ROM (CD−ROM)対応の追
記型光ディスクに関する。
(従来の技術) 集光レーザー光による情報記録媒体の中で、オーディオ
等の音楽再生用としてCD、コンピータ用ROMとして
CD−ROMが広く普及している。
このようなCDおよびCD −ROMは、通常ポリカー
ボネート等の透明基板表面にCD7.i−マント信号を
有するピット列を射出成形時に形成し、その上からアル
ミニウムまたは金等を基若あるいはスパッタリングによ
り反射膜として設け、さらに保護層をコートして作成す
る。
このようにして作成した光ディスクの基板の裏面から再
生レーザー光(780nm半導体レーザー光)を照射し
て、ピットの凹凸による反射率の変化から各信号を読取
り、情報を再生するものである。
しかし、このようなCD、CD−ROMは再生専用であ
り情報の記録ができないため、追記型光ディスクあるい
は書換え可能な光磁気ディスク等のような編集機能がな
いという不都合さがあった。
一方、編集機能を有する追記型光ディスクあるいは光磁
気ディスクとしては、Te等カルコケナイト系化合物、
希土類金属化合物もしくはシアニン、ナフタロシアニン
等の有機色素等を記録膜としたものが実用化されている
しかしながら、これらの光ディスクは、基板面からの反
射率が30〜40%であり、現在のCDの国際規格であ
るレッドブックに記載されている基板面からの反射率が
70%以上には到達しておらず、現状のままCDあるい
はCD −ROMの再生装置により信号の再生を行うこ
とはできないという問題点がある。
このような問題点を解決するために、シアニン等の記録
膜の上に金等の反射膜を設けて、基板面反射率で70%
以上を確保して780nrnでCDフォーマットあるい
はCD−ROMフォーマント信号を記録し、CDまたは
CD−RO〜1の再生装置で情報を読み出す光ディスク
および方法が提案されている。
このようなCDおよびCD−ROM対応の追記型光ディ
スクの記録膜材料としては、CDまたはCD−ROMド
ライブ装置のピックアップのレーザー波長に対して吸収
と反射が微妙な割合で必要になるが、レッドブックに規
定されたピンクアンプのレーザー波長の使用可能な範囲
が770〜810nmと非常に広いため、この範囲で宥
定した光学特性(吸光度、反射率)を得ることは困難で
あり、現在実用化されているCD対応の光ディスクにお
いても、770nmでは反射率が70%を下回っていた
り、また810nmでは十分な記録感度がなかったりし
ており、正確にはレッドブックの規格を満足していない
のが現状である。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、従来の追記機能、編集機能を有するCDある
いはCD−ROMの持つ欠点を解決し、770〜810
nmの波長範囲で安定した光学特性を実現し、この波長
範囲で完全に記録再生が可能なレッドブックに準拠した
光ディスクを提供するものである。
〔発明の構成〕
(課題を解決する手段) 本発明は、従来の追記機能、編集機能を有するCDある
いはCD−ROMの持つ欠点を解決すべく、鋭意検討し
た結果、基板上に特定のフタロシアニン系化合物からな
る記録膜を有するCD対応の追記型光ディスクが優れた
種々の特性を有することを見出し、本発明に至った。
本発明は、透明基板/記録膜/反射膜からなり、コンパ
クトディスクフォーマットあるいはコンパクトディスク
ROMフォーマット信号の記録を行う追記型光ディスク
において、記録膜が下記一般式[1]で示されるフタロ
シアニン系色素から選ばれることを特徴とするコンパク
トディスク対応またはコンパクトディスク−ROM対応
の追記型[式中、X1〜X4はそれぞれ独立に、を表す
Y′〜Y4は、それぞれ独立にハロゲン原子、置換基を
有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロ
アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置
換基を有していてもよいアシル基、置換基を有してもよ
い複素環残基、ニトロ基、シアノ基、スルホン酸基、カ
ルボン酸基、−OR菖    −SR2−COORI−
N=N−R1−N=CHR’を表す。
Mは置換基Zを有してもよい金属、またはR2を表し、
Zは、水素原子、酸素原子、ハロゲン原子、置換基を有
してもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリ
ール基、置換基を有していてもよいアシル基、水酸基、
置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有しても
よいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキル
チオ基、置換基を有してもよいアリールチオ基、または
、(以下余白) O−Ge−R”を表す。
ここでR’、R”、R’は、互に同一であっても異なっ
ていてもよく、水素原子1.W換基を有していてもよい
アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置
換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有
していてもよいアシル基、またはポリエーテル基を表し
、またR1 、R2R3から選ばれる2つで4〜7員環
を形成していてもよく、そのさい、さらに窒素原子等の
へテロ原子を含む複素環であってもよい。
1’ −−1’ 、、m’ 〜m’ 、nはそれぞれX
 ’ 〜X’ 、Yl −Y’ 、Zの置換基の数を表
す。
一般式[1コの置換基、および、R1、R2R3につい
てさらに詳しく説明すると、ハロゲン原子としては、塩
素、臭素、ヨウ素、フッ素等があり、置換基を有しても
よいアルキル基としては、メチル基、N−ブチル基、t
er t−ブチル基、ステアリル基、トリクロロメチル
基、2−メトキシエチル基、N、N−ジメチルアミノプ
ロピル基、N、N−ジブチルアミノプロビル基、2  
(N−ピペラジノ)エチル基、置換基を有してもよいア
リール基としてはフェニル基、クロロフェニル基、トル
イル基、ナフチル基、アントリル基、ジメチルアミノフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、ジエチルアミノナフ
チル基、ヒドロキシナフチル基、置換基を有してもよい
シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基、シクロ
ブチル基、置換基を有してもよいアシル基としては、ア
セチル基、トリフルオロアセチル基、ポリエーテル基と
しては、ジエチレングリコールモノエチル基、トリエチ
レングリコールモノブチル基、置換基を有してもよい複
素環残基としては、ピリジル基、フリル基、チアゾリル
基、ピペラジニル基、モルフオリニル基、トリアジニル
基等をあられすが、これらに限定されるものではない。
本発明で使用される一般式[1]で示されるフタロシア
ニン系化合物の代表的な例として、下記に示すフタロシ
アニン系化合物(a)〜(k)等が揚げられるが、これ
らに限定される物ではない。
(c) (e) (f) (st+た−−025 (g) このような記録膜の成膜方法としては、ドライプロセス
例えば、真空蒸着法、スパッタリング法によっても可能
である。
また、ウェットプロセス、例えば、スピンコード法、デ
イツプ法、ロールコート法あるいはLB(ラングミュア
−プロジェット)法によっても可能である。
記録膜材料が汎用の有機溶剤例えば、アルコール系、ケ
トン系、セロソルブ系、ハロゲン化炭化水素系、フロン
系、等の溶剤に可溶な場合は、生産性等からスピンコー
ド法によって成膜する方法(j) が望ましい。
このように、いわゆる塗布法で成膜する場合には、必要
に応じて高分子バインダーを加えてもよい。高分子バイ
ンダーとしては、−塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂
、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル系
樹脂、ニトロセルロース、フヱノール樹脂などが挙げら
れる。
高分子バインダーを用いる場合、色素に対する高分子バ
インダーの比率は10重量%以下が好ましい。
また、本発明の記録膜の厚さには特に制限はなく、最適
な膜厚も化合物系によって異なるが500〜3000人
が好ましく、1000〜2500人が最適膜厚範囲であ
る。
反射膜素材としては、金、銀、銅、白金、アルミニウム
、コバルト、スズ、等の金属、MgO。
ZnO1SnO1等の金属酸化物、SiN4、AIN、
TiN、等の窒化物等が挙げられるが、絶対反射率が高
く安定性に優れている点から金が最適である。
また、場合によっては、有機系の高反射膜を使用するこ
ともできる。
このような反射膜の成膜方法としては、ドライプロセス
、例えば真空蒸着法、スパッタリング法が最も好ましい
が、これに限られるものではない。
さらに、反射膜の上に化学的劣化(例えば、酸化、吸水
等)および物理的劣化(例えば傷、けずれ等)を防ぐ目
的で膜を保護するためのオーバーコート層を設けてもよ
い。
オーバーコート層としては、紫外線硬化型樹脂による方
法が一般的であるが、これに限られるものではない。
ディスク形態は、情報の記録後CDあるいはCD−RO
Mとして機能する必要があるため、CDあるいはCD−
ROMの規格(レッドブック)およびR−CDの規格(
オレンジブック)に準拠していることが好ましい。
また、本発明に用いられるディスク基板としては、信号
の書込や読み出しを行うための光の透過率が、好ましく
は85%以上であり、かつ光学異方性の小さいものが望
ましい。
例えば、ガラス、またはアクリル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニ
ル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂(ポリ4−メチルペンテン等)、ポ
リエーテルスルホン樹脂などの熱可塑性樹脂やエポキシ
樹脂、アリル樹脂等の熱硬化性樹脂からなる基板が挙げ
られる。これらの中で、成形のしやすさ、案内溝等の信
号の付与のしやすさなどから熱可塑性樹脂からなるもの
が好ましく、さらに光学特性や機械特性およびコストか
らみてアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂からなるも
のが特に好ましい。
また、案内溝などの付与は熱可塑性樹脂を成形(射出成
形、圧縮成形)する際にスタンパ−などを用いて付与す
るか、またはフォトポリマー樹脂を用いるいわゆる2P
法による方法が好ましい。
(実施例) 以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本
発明は以下の実施例に限られるものではない。
(合成例1) (ヴアナジルフタロシアニンテトラクロロスルフォン酸
) クロロスルフォン酸36gにヴアナジルフタロシアニン
4gを徐々に添加し、完全な溶液とした後、昇温し、1
00〜105℃で4時間加熱攪拌した。
90°Cまで冷却した後、塩化チオニルLogを90〜
95°Cに保ちながら滴下し、さらに90〜95°Cで
2時間加熱攪拌した。反応液を冷却後、ドライアイスで
冷やし、適当に粉砕した氷500gに注入し、析出した
沈殿をすばやくろ過し、氷水で良(洗浄した後、減圧乾
燥機で乾燥し、暗成色のヴアナジルフタロシアニンテト
ラクロロスルフォン酸クロライドの粉末4.5gを得た
(フタロシアニン化合物(b)の合成)メタノール20
0a+1にジ−N−オクチルアミン14゜5gを加え、
水浴で0℃まで冷却した後、先に合成したヴアナジルフ
タロシアニンテトラクロロスルフォン酸クロライド4.
5gを徐々に添加した。室温で1時間攪拌後、昇温し、
2時間環流した。反応液を冷却後、10重量%炭酸ソー
ダ水溶液21に激しく攪拌しながら注入し、得られたハ
ルツ状の沈殿をろ取し、ベンゼン500m1に溶かした
後、分液ロートで中性になるまで水洗した。硫酸マグネ
シウムで乾燥後、ベンゼン溶液にN−ヘキサンを滴下、
再沈殿により、析出した沈殿をろ取し、ヘキサンで洗浄
、乾燥して、フタロシアニン化合物(b)の粗製品2.
0gを得た。精製はシリカゲルカラムを用いてクロロホ
ルム/メタノール20:1の混合溶媒により行なった。
(合成例2) (フタロシアニン化合物(C)の合成)(合成例1)の
ヴアナジルフクロシアニンをヒドロキシアルミニウムフ
タロシアンに変えて、(合成例1)と同様に操作し、ア
ルミニウムフタロシアニンテトラスルフオン酸クロライ
ドの粉末4.0gを得た。
メタノール200m1にN、N−ジエチルアミノプロピ
ルアミン20gを加えた溶液を水浴で冷却し、アルミニ
ウムフタロシアニンテトラスルフオン酸クロライド4.
0gを徐々に添加した。室温で1時間攪拌した後、昇温
し、2時間環流した。反応液を冷却後、10重量2炭酸
ソーダ水溶液2.Olに注入し、析出した沈殿をろ取、
十分に洗浄した後、乾燥してフタロシアニン化合物(C
)の粗製物2.5gを得た。
精製は(合成例1)と同様な方法で行なった。
(合成例3) (フタロシアニン化合物(e)の合成)(合成例2)の
N、N−ジエチルアミノプロピルアミンをN、N−ジ−
N−ブチルアミノプロピルアミンに変えて、(合成例2
)と同様に操作して、ヒドロキシアルミニウムフタロシ
アニンテトラスルフォン酸(N、N−ジ−N−ブチルア
ミノプロピル)アミドの粗製物3.5gを得た。粗製物
3.0gを十分に脱水したピリジン100m1に溶解し
、30℃以下で、クロロジフェニルフォスフイン2.0
gを滴下した。室温で1時間攪拌した後、昇温、2時間
環流した。
反応液を冷却後、氷水2.01に激しく攪拌しながら注
入し、析出した沈殿をろ取、十分に水洗した後、乾燥し
てフタロシアニン化合物(e)の粗製物3゜3gを得た
。精製はシリカゲルカラムを用いて、クロロホルム/メ
タノール5:2の混合溶媒により行なった。
(合成例4) (フタロシアニン化合物(f)の合成)クロロガリウム
フタロシアニン2gを100重量%に調整した硫酸10
0gに溶解した後、2−クロロアセトアミド6.5g、
パラホルムアルデヒド2.0gを添加し、昇温、90〜
100℃で4時間加熱攪拌した。反応液を冷却後、氷水
2.Olに注入し、析出した沈殿をろ取し、十分に洗浄
した後、減圧乾燥機で乾燥して、テトラ(2−クロロア
セトアミド)メチル・クロロガリウムフタロシアニンの
組成物。2.2gヲ得た。
メタノール100m1にN、N−ジエチルアミノプロピ
ルアミンLogを加えた溶液を水浴で冷却し、テトラ(
2−クロロアセトアミド)メチル・クロロガリウムフタ
ロシアニンの組成物2.0gを徐々に添加した。室温で
1時間撹拌した後、昇温、2時間環流した。反応液を冷
却後、ろ過して不溶物を除去し、ろ液を10重量%炭酸
ソーダ水溶液2.Olに注入して、析出した沈殿をろ取
し、メタノール/水(1: 1)溶液4.Olで洗浄し
た。乾燥後、ソックスレーによりメタノール可溶分を抽
出し、溶媒を除去して、フタロシアニン化合物(f )
 1.0gを得た。
(合成例5) (フタロシアニン化合物(k)の合成)(合成例4)に
おいてクロロガリウムフタロシアニンをテトラフェニル
チオフタロシアニンに変えて(合成例4)と同様に操作
して、フタロシアニン化合物(k)の組成物0.8gを
得た。シリカゲルカラムを用いてクロロホルムでさらに
精製した。
実施例1 深さ800人、ピッチ1.6μmのらせん状案内溝を有
する厚さ1.2mm、外径120mm、内径15mmの
ポリカーボネート樹脂基板上に、化合物(b)で示され
るフタロシアニン化合物のエトキシエタノールの2.0
重量%溶液を作成し、スピンコーターを用いて膜厚12
00人に成膜した。
次に、このようにして得た塗布膜の上に金を膜厚800
人で真空蒸着により成膜した。さらに、この上に紫外線
硬化型樹脂により保護層を設けて光ディスクを作成した
このようにして作成した光ディスクの反射スペクトルは
770〜810nmの波長範囲で、対AIの反射率で8
0%以上ありCDの規格を十分満足している。
また、この光ディスクを用い、波長780nmの半導体
レーザーを使用して、線速1.3m/secで9mWの
′記録パワーでEMF−CDフ−オーマット信号を記録
したところ記録が可能であった。
記録されたピット列は、長さ0.9〜3.3μm、間隔
0.9〜3.3μmであった。
次に、この信号を市販のCDプレーヤーにより、線速1
.3 m /sec 、再生出力0.5mWで再生を行
ったところ得られた信号は良好であり、CDプレーヤー
に十分かかるレベルであった。
実施例2 深さ800人、ピッチ1.6μmのらせん状案内溝を有
する厚さ1.2mm、外径120mm、内径15mmの
ポリカーボネート樹脂基板上に、化合物(C)で示され
るフタロシアニン化合物のエトキシエタノールの2.0
重量%溶液を作成、スピンコーターを用いて膜厚110
0人に成膜した。
次に、このようにして得た塗布膜の上に金を膜厚800
人で真空蒸着により成膜した。さらに、この上に紫外線
硬化型樹脂により保護層を設けて光ディスクを作成した
このようにして作成した光ディスクの反射スペクトルは
770〜810nmの波長範囲で対AIの反射率で85
%以上ありCDの規格を十分満足している。
また、この光ディスクを用い、波長’780nmの半導
体レーザーを使用して、線速1.3m/secで9mW
の記録パワーでEMF−CDフォーマット信号を記録し
たところ記録が可能であった。
記録されたピット列は、長さ0.9〜3.3μm、間隔
0.9〜3.3μmであった。
次に、この信号を市販のCDプレーヤーにより、線速1
.3m/sec、再生出力0.5mWで再生を行ったと
ころ得られた信号は良好であり、CDプレーヤーに十分
かかるレベルであった。
実施例3 深さ800人、ピッチ1.6μmのらせん状案内溝を有
する厚さ1.2mm、外径120mm、内径15mmの
ポリカーボネート樹脂基板上に化合物(e)で示される
フタロシアニン化合物のエトキシエタノールの2.0重
量%溶液を作成し、スピンコーターを用いて膜厚130
0人に成膜した。
次に、このようにして得た塗布膜の上に金を膜厚800
人で真空蒸着により成膜した。さらに、この上に紫外線
硬化型樹脂により保護層を設けて光ディスクを作成した
このようにして作成した光ディスクの反射スペクトルは
770〜810nmの波長範囲で対AIの反射率で82
%以上ありCDの規格を十分満足している。
また、この光ディスクを用い、波長780 nmの半導
体レーザーを使用して、線速1.3m/secで9mW
の記録パワーでEMF−CDフォーマット信号を記録し
たところ記録が可能であった。
記録されたピット列は、長さ0.9〜3.3μm、間隔
0.9〜3.3μmであった。
次に、この信号を市販CDプレーヤーにより、線速1.
3m/sec、再生出力0.5mWで再生を行ったとこ
ろ、得られた信号は良好であり、CDプレーヤーに十分
かかるレベルであった。
実施例4 深さ800人、ピッチ1.6μmのらせん状案内溝を有
する厚さ1.2mm、外径120mm、内径15mmの
ポリカーボネート樹脂基板上に化合物(f)で示される
フタロシアニン化合物のエトキシエタノールの2.0重
量%溶液を作成し、スピンコーターを用いて膜厚120
0人に成膜した。
次に、このようにして得た塗布膜の上に金を膜厚800
人で真空蒸着により成膜した。さらに、この上に紫外線
硬化型樹脂により保護層を設けて光ディスクを作成した
このようにして作成した光ディスクの反射スペクトルは
770〜810nmの波長範囲で対AIの反射率で78
%以上ありCDの規格を十分満足している。
また、この光ディスクを用い、波長780 nmの半導
体レーザーを使用して、線速1.3m/secで9mW
の記録パワーでEMF−CDフォーマット信号を記録し
たところ記録が可能であった。
記録されたピット列は、長さ0.9〜3.3μm、間隔
0.9〜3.3μmであった。
次に、この信号を市販CDプレーヤーにより、線速1.
3m/sec、再生出力0.5mWで再生を行ったとこ
ろ得られた信号は良好であり、市販のCDプレーヤーに
十分かかるレベルであった。
実施例5 深さ800人、ピッチ1.6μmのらせん状案内溝を有
する厚さ1.2mm、外径120mm、内径15mmの
ポリカーボネート樹脂基板上に化合物(k)に示される
ナフタロシアニン化合物をシクロヘキセン1.0重量%
溶液によりスピンコータ−を用いて150人に成膜した
次に、このようにして得た積層膜の上に金を膜厚800
人で真空蒸着により成膜した。さらに、この上に紫外線
硬化型樹脂により保護層を設けて光ディスクを作成した
このようにして作成した光ディスクの反射スペクトルは
770〜810nmの波長範囲で対AIの反射率で85
%以上ありCDの規格を十分満足している。
また、この光ディスクを用い、波長780 nmの半導
体レーザーを使用して、線速1.3m/secで9mW
の記録パワーでEMF−CDフォーマレト信号を記録し
たところ記録が可能であった。
記録されたピット列は、長さ0.9〜3.3μm、間隔
0.9〜363μmであった。
次に、この信号を市販CDプレーヤーにより、線速1.
3 m/sec 、再生出力0.5mWで再生を行った
ところ得られた信号は良好であり、CDプレーヤーに十
分かかるレベルであった。
(発明の効果) 本発明の構成により光ディスクを作成することにより、
追記機能編集機能を有するCDあるいはCD−ROM対
応の追記型光ディスクを提供することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、透明基板/記録膜/反射膜からなり、コンパクトデ
    ィスクフォーマットあるいはコンパクトディスク−RO
    Mフォーマット信号の記録を行う追記型光ディスクにお
    いて、記録膜が下記一般式[1]で示されるフタロシア
    ニン系色素から選ばれることを特徴とするコンパクトデ
    ィスク対応またはコンパクトディスク−ROM対応の追
    記型光ディスク。 一般式[1] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、X^1〜X^4はそれぞれ独立に、▲数式、化
    学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があり
    ます▼ を表す。 Y^1〜Y^4は、それぞれ独立にハロゲン原子、置換
    基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシ
    クロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基
    、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有して
    もよい複素環残基、ニトロ基、シアノ基、スルホン酸基
    、カルボン酸基、−OR^1、−SR^2、−COOR
    ^1、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
    学式、表等があります▼、−NHCOR^1、 −N=N−R^1、−N=CHR^1を表す。Mは置換
    基Zを有してもよい金属、またはH_2を表し、Zは、
    水素原子、酸素原子、ハロゲン原子、置換基を有しても
    よいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基
    、置換基を有していてもよいアシル基、水酸基、置換基
    を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいア
    リールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオ基
    、置換基を有してもよいアリールチオ基、または、▲数
    式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等
    があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼を表す。 ここでR^1、R^2、R^3は、互に同一であっても
    異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していても
    よいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基
    、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基
    を有していてもよいアシル基、またはポリエーテル基を
    表し、またR^1、R^2、R^3から選ばれる2つで
    4〜7員環を形成していてもよく、そのさい、さらに窒
    素原子等のヘテロ原子を含む複素環であってもよい。 l^1〜l^4、m^1〜m^4、nはそれぞれX^1
    〜X^4、Y^1〜Y^4、Zの置換基の数を表す。l
    ^1〜l^4はそれぞれ独立に0〜4の整数を表すが、
    すべて同時に0となることはない。m^1〜m^4はそ
    れぞれ独立に0〜4の整数を表す。nは0〜2の整数を
    表す。]
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